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1. 发明授权

KR100488091B1 유해가스 정화제 및 정화방법 有权
标题翻译：有害的气体清洁剂和净化方法
公开(公告)号：KR100488091B1
公开(公告)日：2005-08-17
申请号：KR1019980004559
申请日：1998-02-16
申请人： 니폰 파이오니쿠스 가부시키가이샤
发明人： 후쿠다히데키 , 오쓰카겐지 , 아라카와사토시 , 고우라히사오
IPC分类号： B01D53/34
摘要： BET법에 의한 비표면적이 150 m
2 /g 이상인 이산화망간 및 은화합물, 또는 BET법에 의한 비표면적이 150 m
2 /g 이상인 이산화망간, 은화합물 및 산화구리를 주성분으로 하는 정화제, 및 그 정화제를 이용한 정화방법이며, 아르신, 포스핀, 실란, 디실란, 트리실란, 디보란, 셀렌화수소, 디클로로실란 등의 유해성분을 함유하는 유해가스를 상온에서 극히 효율적으로 정화할 수가 있다.

2. 发明公开

KR1019960013984A 할로겐 함유 가스의 정제 방법 无效
标题翻译：净化含卤素气体的方法
公开(公告)号：KR1019960013984A
公开(公告)日：1996-05-22
申请号：KR1019950032545
申请日：1995-09-29
申请人： 니폰 파이오니쿠스 가부시키가이샤
发明人： 오스카켄지 , 후쿠다히데키 , 아라카와사토시
IPC分类号： C01B9/00
摘要： 1. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야
본 발명은 할로겐함유가스의 정제방법에 관한 것이다.
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
본 발명은 염소, 불소등의 할로겐가스중에 불순물로서 함유되어 있는 할로겐화수소 또는 수분을 효율적으로 제거하는 방법에 관한 것이다.
3. 발명의 해결방법의 요지
본 발명은 할로겐함유가스를 알카리토류금속의 수산화물 및 산화철을 유효성분으로서 함유하는 정제제와 접촉시켜서 할로겐함유가스중에 불순물로서 함유되어 있는 할로겐화수소 또는 수분을 제거하는 방법에 관한 것이다.
4. 발명의 중요한 용도
본 발명은 반도체제조과정에서 단결정 실리콘막, 알루미늄막 및 알루미늄 합금막의 에칭 등에 유용하다.

3. 发明公开

KR1020050016522A 배기가스의 정화 방법 失效
标题翻译：清除排气的方法
公开(公告)号：KR1020050016522A
公开(公告)日：2005-02-21
申请号：KR1020047019865
申请日：2003-05-16
申请人： 니폰 파이오니쿠스 가부시키가이샤
发明人： 오츠카켄지 , 아라카와사토시 , 오치코시
IPC分类号： B01D53/56 , B01D53/86 , B01D53/94
CPC分类号： B01D53/8646 , B01D53/8625 , B01D53/8628 , B01D53/8668 , B01D2258/0216 , B01J23/26 , B01J23/72
摘要： 본 발명은 질소산화물 및/또는 유기용매를 함유하는 배기가스를 환원성 성분으로서의 금속 및 산화성 성분으로서의 금속산화물을 포함하거나 환원성 성분으로서의 저차 금속산화물 및 산화성 정화제 성분으로서의 고차 금속산화물을 포함하는 정화제와 고온에서 접촉시키는 단계, 환원성 성분에 의한 질소산화물의 환원 및/또는 산화성 성분에 의한 유기용매의 산화 분해의 진행에 수반하는 환원성 성분과 산화성 성분의 구성비의 변화를 검사하는 단계, 상기 구성비가 미리 설정한 제어범위를 벗어났을 때에 보정가스를 공급하는 단계, 및 그에 따라 상기 구성비를 제어범위 내로 회복시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 배기 가스의 정화 방법을 제공한다. 본 발명의 배기가스 정화 방법에 의하여, 반도체 제조 공정으로부터 배출되는 배기 가스와 같이 고농도이고 변동이 심한 질소산화물 및/또는 유기용매 함유 배기 가스를 비교적 낮은 온도에서 높은 분해율로 용이하게 정화할 수 있다.

4. 发明公开

KR1020010062029A 유해가스의 정화방법 및 정화장치 失效
标题翻译：用于净化有害气体的方法和装置
公开(公告)号：KR1020010062029A
公开(公告)日：2001-07-07
申请号：KR1020000072135
申请日：2000-11-30
申请人： 니폰 파이오니쿠스 가부시키가이샤
发明人： 오츠카겐지 , 무라나가나오키 , 아라카와사토시 , 이케다도모히사
IPC分类号： B01D53/86
CPC分类号： B01D53/8668 , B01D2251/102
摘要： PURPOSE: Provided are a method and a device capable of purifying harmful components in the harmful gas discharged from a reaction process using an organometallic compound as a reaction raw material and uninvolving a post treatment without discharging any organic compound and a large amount of carbon dioxide after cleaning process. CONSTITUTION: The harmful gas is purified by bringing the harmful gas into contact with the catalyst at 100-800 deg.C by using a purification device having a harmful gas introducing pipe(16), an oxygen or air introducing pipe(15), a purification cylinder which is connected to two introducing pipes and in which a catalyst carrying noble metal on an inorganic carrier and a catalyst carrying a catalyst consisting of metal oxides such as vanadium oxide, chromium oxide, manganese oxide, iron oxide, copper oxide and silver oxide or a catalyst carrying these metal oxides are packed, a means for heating the purification cylinder and a discharge pipe(17) for the purified gas discharged from the purification cylinder.
摘要翻译：目的：提供一种方法和装置，其能够使用有机金属化合物作为反应原料净化从反应过程排出的有害成分中的有害成分，并且不污染后处理而不排出任何有机化合物和大量的二氧化碳清洗过程。构成：通过使用具有有害气体导入管（16），氧气或空气导入管（15）的净化装置，使有害气体在100〜800℃下与催化剂接触来净化有害气体，净化筒，其连接到两个导入管，其中载有无机载体上的贵金属的催化剂和载有由氧化钒，氧化铬，氧化锰，氧化铁，氧化铜和氧化银等金属氧化物组成的催化剂的催化剂或携带这些金属氧化物的催化剂被填充，用于加热净化筒的装置和用于从净化筒排出的净化气体的排出管（17）。

5. 发明公开

KR1019980005291A 먼지 제거 장치 및 먼지 제거 방법 无效
标题翻译：除尘装置和除尘方法
公开(公告)号：KR1019980005291A
公开(公告)日：1998-03-30
申请号：KR1019970026797
申请日：1997-06-20
申请人： 니폰 파이오니쿠스 가부시키가이샤
发明人： 오츠카켄지 , 와키히로시 , 야마시타요시오 , 아라카와사토시 , 하타케야마토시야
IPC分类号： H01L21/02

6. 发明授权

KR101678285B1 팔라듐 합금막 유닛, 그 수납 구조물, 및 이들을 이용한 수소 정제 방법 有权
标题翻译：钯合金膜单元的储存结构及其使用方法
公开(公告)号：KR101678285B1
公开(公告)日：2016-11-21
申请号：KR1020140184517
申请日：2014-12-19
申请人： 니폰 파이오니쿠스 가부시키가이샤
发明人： 고미야요시나오 , 아라카와사토시 , 아키야마도시오 , 사토야스오 , 다케마사노부오
IPC分类号： C01B3/50 , B01D71/02
CPC分类号： B01D53/228 , B01D63/022 , B01D63/024 , B01D71/022 , B01D2053/223 , B01D2256/16 , B01D2313/21 , C01B3/505 , C01B2203/0233 , C01B2203/0405 , C01B2203/043 , C01B2203/046
摘要： [과제] 팔라듐합금세관으로이루어지는수소분리막을이용한수소정제장치에있어서, 팔라듐합금세관을용이하게교환하는것이가능한수단을제공한다. [해결수단] 수소정제장치를팔라듐합금막유닛과그 수납구조물로용이하게분리할수 있도록한다. 팔라듐합금막유닛은, 복수개의팔라듐합금세관, 해당팔라듐합금세관을지지하는원반모양의관판, 및, 일단에해당관판의외주부와밀착하는원통부를가지고, 다른일단에수납구조물의순수소취출구와접속하는커플링을가지며, 바람직하게는해당원통부와해당커플링의사이의위치에수납구조물의용기의개구부와밀착하는커플링을더 가지는순수소의취출배관으로이루어진다. 또, 수납구조물은, 팔라듐합금막유닛을수납하는용기, 히터, 원료수소공급구, 불순물함유가스취출구, 및순수소취출구로이루어지며, 순수소취출구에팔라듐합금막유닛의일단에마련된커플링과접속하는부재, 바람직하게는용기의개구부에팔라듐합금막유닛의원통부에마련된커플링과밀착하는부재를더 가진다.

7. 发明授权

KR100465211B1 유해가스의정화방법 失效
标题翻译：如何清洁有害气体
公开(公告)号：KR100465211B1
公开(公告)日：2005-04-06
申请号：KR1019970000675
申请日：1997-01-13
申请人： 니폰 파이오니쿠스 가부시키가이샤
发明人： 오쓰카겐지 , 아라카와사토시 , 나와요우지
IPC分类号： B01D53/34
摘要： 본 발명은 반도체 제조공정 등에서 배출되는 배기가스 중에 함유되는 불소, 염소, 3불화염소, 불화수소, 염화수소, 6불화텅스텐, 4불화규소, 3불화붕소 등 유해한 할로겐계 가스를 효율 좋게 정화하는 방법을 개발하는 것을 과제로 하는 것이며, 배기가스를 산화동(II) 및 산화망간(Ⅳ)을 주성분으로 하는 포름산나트륨을 첨착시켜 이루어지는 정화제와 접촉시켜 그 가스로부터 유해 성분을 제거하는 방법을 내용으로 하는 것이다.
본 발명의 정화 방법에 의하면, 이들 할로겐계 가스를 저농도, 고농도에 관계없이 상온에서 효율적으로 또한 안전하게 제거할 수가 있다.
정화제의 정화 능력은 유해가스가 건조한 상태일지라도 저하하지 않고 그대로 유지된다. 더욱이, 정화제는 유해한 화합물의 제거시 화재의 염려 없이 안전하게 유해가스를 제거할 수 있다.
상기 방법을 특징으로 하는 정화방법은 가스 실린더(cylinder)로부터 배출되는 유해가스 유출에 대한 긴급 대책 수단으로서 뿐만이 아니라, 반도체 제조 공정등에서 배출되는 배기가스 정화에 아주 적당하다는 점에서 산업상 매우 유용하고, 주목할 만하다.

8. 发明授权

KR100412982B1 유해가스의 정화제 및 그것을 사용한 정화방법 失效
标题翻译： 유해가스의정화제및그것을사용한정화방법
公开(公告)号：KR100412982B1
公开(公告)日：2004-05-20
申请号：KR1019960030005
申请日：1996-07-24
申请人： 니폰 파이오니쿠스 가부시키가이샤
发明人： 후쿠다히데키 , 오츠카겐지 , 아라카와사토시
IPC分类号： B01D53/04
CPC分类号： B01D53/68 , B01D2251/406
摘要： There are disclosed a cleaning agent for removing a fluorine-compound gas such as hydrogen fluoride, fluorine, tungsten hexafluoride, silicon tetrafluoride and boron trifluoride which agent comprises a molded article produced by using strontium hydroxide as a principal component, an organic binding agent as a molding agent and the hydroxide of an alkaline earth metal other than strontium as a molding aid; and a process for cleaning a harmful gas which comprises feeding a harmful gas containing a fluorine-compound gas into a column packed inside with the above cleaning agent to remove the fluorine-compound gas; and exhausting a gas substantially free from the fluorine-compound gas. The above cleaning agent is capable of removing the fluorine-compound gas in high efficiency without causing any danger, thereby making itself well suited to the cleaning of the gases exhausted, for example, from semiconductor manufacturing industries.
摘要翻译：公开了一种用于去除氟化合物气体如氟化氢，氟，六氟化钨，四氟化硅和三氟化硼的清洁剂，所述清洁剂包括通过使用氢氧化锶作为主要成分制造的模制品，作为有机粘合剂的作为成型助剂的成型剂和除锶之外的碱土金属的氢氧化物; 以及一种清除有害气体的方法，该方法包括：将含有氟化合物气体的有害气体送入填充有上述清洗剂的塔中，以除去氟化合物气体; 并排出基本上不含氟化合物气体的气体。上述清洗剂能够高效除去氟化合物气体而不会产生任何危险，从而使其本身非常适用于例如从半导体制造工业中排出的气体的清洁。

9. 发明公开

KR1020150085775A 팔라듐 합금막 유닛, 그 수납 구조물, 및 이들을 이용한 수소 정제 방법 有权
标题翻译：钯合金薄膜单元，其储存结构及使用该方法的氢气净化方法
公开(公告)号：KR1020150085775A
公开(公告)日：2015-07-24
申请号：KR1020140184517
申请日：2014-12-19
申请人： 니폰 파이오니쿠스 가부시키가이샤
发明人： 고미야요시나오 , 아라카와사토시 , 아키야마도시오 , 사토야스오 , 다케마사노부오
IPC分类号： C01B3/50 , B01D71/02
CPC分类号： B01D53/228 , B01D63/022 , B01D63/024 , B01D71/022 , B01D2053/223 , B01D2256/16 , B01D2313/21 , C01B3/505 , C01B2203/0233 , C01B2203/0405 , C01B2203/043 , C01B2203/046 , B01D71/02 , C01B2203/04
摘要： [과제] 팔라듐합금세관으로이루어지는수소분리막을이용한수소정제장치에있어서, 팔라듐합금세관을용이하게교환하는것이가능한수단을제공한다. [해결수단] 수소정제장치를팔라듐합금막유닛과그 수납구조물로용이하게분리할수 있도록한다. 팔라듐합금막유닛은, 복수개의팔라듐합금세관, 해당팔라듐합금세관을지지하는원반모양의관판, 및, 일단에해당관판의외주부와밀착하는원통부를가지고, 다른일단에수납구조물의순수소취출구와접속하는커플링을가지며, 바람직하게는해당원통부와해당커플링의사이의위치에수납구조물의용기의개구부와밀착하는커플링을더 가지는순수소의취출배관으로이루어진다. 또, 수납구조물은, 팔라듐합금막유닛을수납하는용기, 히터, 원료수소공급구, 불순물함유가스취출구, 및순수소취출구로이루어지며, 순수소취출구에팔라듐합금막유닛의일단에마련된커플링과접속하는부재, 바람직하게는용기의개구부에팔라듐합금막유닛의원통부에마련된커플링과밀착하는부재를더 가진다.
摘要翻译：本发明提供一种能够在使用包括钯合金细管的氢分离膜的氢净化装置中容易地替换钯合金细管的装置。氢净化装置可以分解为钯合金装置及其储存结构。钯合金膜单元包括：多个钯合金细管; 形成为支撑钯合金细管的盘状的管板; 在一端与管板的外周部紧密接触的圆筒部; 与另一端的存储结构的纯氢出口连接的联轴器; 并且优选地是具有另一个联接器的纯氢排放管，其在所述缸部和联接器之间的位置处与所述存储结构的容器的开口紧密接触。另外，存储结构包括：用于存储钯合金膜单元的容器，加热器，原料氢供给孔，含杂质气体出口和纯氢出口。存储结构还包括与设置在纯氢出口上的合金膜单元的一个端部上的耦合器连接的构件，优选地与布置在钯的气缸部分上的耦合器紧密接触的构件合金膜单元在容器的开口上。

10. 发明授权

KR100987568B1 배기가스의 정화 방법 失效
标题翻译：清除排气的方法
公开(公告)号：KR100987568B1
公开(公告)日：2010-10-12
申请号：KR1020047019865
申请日：2003-05-16
申请人： 니폰 파이오니쿠스 가부시키가이샤
发明人： 오츠카켄지 , 아라카와사토시 , 오치코시
IPC分类号： B01D53/56 , B01D53/86 , B01D53/94
CPC分类号： B01D53/8646 , B01D53/8625 , B01D53/8628 , B01D53/8668 , B01D2258/0216 , B01J23/26 , B01J23/72
摘要： 본 발명은 질소산화물 및/또는 유기용매를 함유하는 배기가스를 환원성 성분으로서의 금속 및 산화성 성분으로서의 금속산화물을 포함하거나 환원성 성분으로서의 저차 금속산화물 및 산화성 정화제 성분으로서의 고차 금속산화물을 포함하는 정화제와 고온에서 접촉시키는 단계, 환원성 성분에 의한 질소산화물의 환원 및/또는 산화성 성분에 의한 유기용매의 산화 분해의 진행에 수반하는 환원성 성분과 산화성 성분의 구성비의 변화를 검사하는 단계, 상기 구성비가 미리 설정한 제어범위를 벗어났을 때에 보정가스를 공급하는 단계, 및 그에 따라 상기 구성비를 제어범위 내로 회복시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 배기 가스의 정화 방법을 제공한다. 본 발명의 배기가스 정화 방법에 의하여, 반도체 제조 공정으로부터 배출되는 배기 가스와 같이 고농도이고 변동이 심한 질소산화물 및/또는 유기용매 함유 배기 가스를 비교적 낮은 온도에서 높은 분해율로 용이하게 정화할 수 있다.

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