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    • 3. 发明授权
    • 국부 원자층 선택 박막 증착 장치
    • 用于在衬底上选择性地沉积局部区域的原子层的装置
    • KR101715223B1
    • 2017-03-14
    • KR1020150068010
    • 2015-05-15
    • 고려대학교 산학협력단
    • 심준형최형종배기호김준우한권덕
    • C23C16/455C23C16/48
    • C23C16/483C23C16/04C23C16/047C23C16/4408C23C16/4412C23C16/45544C23C16/45563C23C16/46
    • 본발명은, 소스가스및 퍼지가스를공급하여기판표면에원자층박막을증착시키는국부원자층선택박막증착장치에있어서, 반응챔버와, 상기반응챔버내에배치되고, 일면상에기판이배치되는스테이지와, 상기스테이지상부에상기스테이지와상대가동가능하게배치되는컴비네이션노즐부와, 상기기판에원자층박막을형성하기위한프리커서및 산화제를공급하는가스공급부가구비되고, 상기컴비네이션노즐부는, 상기기판의일면을선택적으로국부가열시키는레이저를조사하는레이저코어를구비하고, 상기가스공급부는, 적어도일부가상기레이저코어에근접배치되고상기기판의일면으로상기레이저코어에의하여선택적으로국부가열되는영역에가열된상기기판영역에흡착되는프리커서및 상기프리커서의리간드를제거하는산화제를제공하는것을특징으로하는국부원자층선택박막증착장치를제공한다.
    • 本发明提供一种选择性区域原子层沉积装置,其通过供应源气体和净化气体将原子层薄膜沉积在基底上,该装置包括:反应室; 设置在所述反应室内的台,设置在所述台的一个表面上的基板; 组合喷嘴单元,设置在所述平台上方以相对于所述平台移动; 以及气体供给单元,其在基板上供给用于形成原子层薄膜的前体和氧化剂,其中所述组合喷嘴单元具有激光芯,所述激光芯施加激光束以选择性地局部加热所述基板的一个表面,并且所述气体 供给单元设置成使得其至少一部分与激光芯相邻,并且将前体和氧化剂供给到由激光芯选择性局部加热的基板表面上的区域,其中前体被吸附到 底物的加热区域和氧化剂除去前体的配体。
    • 8. 发明公开
    • 국부 원자층 선택 박막 증착 장치
    • 用于在衬底上选择性地沉积局部区域的原子层的装置
    • KR1020160135049A
    • 2016-11-24
    • KR1020150068010
    • 2015-05-15
    • 고려대학교 산학협력단
    • 심준형최형종배기호김준우한권덕
    • C23C16/455C23C16/48
    • C23C16/483C23C16/04C23C16/047C23C16/4408C23C16/4412C23C16/45544C23C16/45563C23C16/46
    • 본발명은, 소스가스및 퍼지가스를공급하여기판표면에원자층박막을증착시키는국부원자층선택박막증착장치에있어서, 반응챔버와, 상기반응챔버내에배치되고, 일면상에기판이배치되는스테이지와, 상기스테이지상부에상기스테이지와상대가동가능하게배치되는컴비네이션노즐부와, 상기기판에원자층박막을형성하기위한프리커서및 산화제를공급하는가스공급부가구비되고, 상기컴비네이션노즐부는, 상기기판의일면을선택적으로국부가열시키는레이저를조사하는레이저코어를구비하고, 상기가스공급부는, 적어도일부가상기레이저코어에근접배치되고상기기판의일면으로상기레이저코어에의하여선택적으로국부가열되는영역에가열된상기기판영역에흡착되는프리커서및 상기프리커서의리간드를제거하는산화제를제공하는것을특징으로하는국부원자층선택박막증착장치를제공한다.
    • 本发明提供一种选择性区域原子层沉积装置,其通过供应源气体和净化气体将原子层薄膜沉积在基底上,该装置包括:反应室; 设置在所述反应室内的台,设置在所述台的一个表面上的基板; 组合喷嘴单元,设置在所述平台上方以相对于所述平台移动; 以及气体供给单元,其在基板上供给用于形成原子层薄膜的前体和氧化剂,其中所述组合喷嘴单元具有激光芯,所述激光芯施加激光束以选择性地局部加热所述基板的一个表面,并且所述气体 供给单元设置成使得其至少一部分与激光芯相邻,并且将前体和氧化剂供给到由激光芯选择性局部加热的基板表面上的区域,其中前体被吸附到 底物的加热区域和氧化剂除去前体的配体。
    • 10. 发明公开
    • 분산을 이용한 원자층 증착 장치
    • 使用分散剂的原子层沉积装置
    • KR1020140109234A
    • 2014-09-15
    • KR1020130131380
    • 2013-10-31
    • 고려대학교 산학협력단
    • 최형종심준형박석원한권덕
    • C23C16/448C23C16/455
    • C23C16/45544C23C16/4417C23C16/52
    • The present invention relates to an atomic layer deposition apparatus using dispersion capable of uniformly depositing an atomic layer to each nanoparticle by dispersing nanoparticles using wavelength having vibration. According to an embodiment of the present invention, the atomic layer deposition apparatus using dispersion comprises: a powder chamber; a gas transfer pipe connected to the powder chamber to transfer gas to the powder chamber; a wavelength generating part to generate wavelength capable of generating vibration at a constant frequency; a wavelength controlling part to control wavelength generation of the wavelength generating part; and a medium chamber filled with a fixated medium to accommodate the powder chamber and the wavelength generating part, and to transfer the wavelength generated in the wavelength generating part to the powder chamber.
    • 本发明涉及一种使用能够通过使用具有振动的波长分散纳米颗粒,使每个纳米颗粒均匀沉积原子层的分散体的原子层沉积装置。 根据本发明的实施例,使用分散体的原子层沉积装置包括:粉末室; 连接到粉末室以将气体转移到粉末室的气体输送管; 波长发生部,其产生能够以恒定频率产生振动的波长; 波长控制部分,用于控制波长发生部分的波长产生; 以及填充有固定介质以容纳粉末室和波长发生部分的介质室,并将在波长产生部分中产生的波长传递到粉末室。