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1. 发明公开

KR1020080026489A 기판처리장치 有权
标题翻译：基板加工设备
公开(公告)号：KR1020080026489A
公开(公告)日：2008-03-25
申请号：KR1020070091311
申请日：2007-09-10
申请人： 가부시키가이샤 스크린 홀딩스
发明人： 키요세히로미 , 코바야시테루우키
IPC分类号： H01L21/3063
CPC分类号： H01L21/31111 , H01L21/67086 , H01L21/67253
摘要： A substrate processing apparatus is provided to maintain constant concentration of siloxane contained in a phosphoric acid solution stored in an immersion bath with higher accuracy. A phosphoric acid solution stored in an immersion bath(10) is circulated through a circulation line(20). Substrates with a silicon oxide film and a silicon nitride film are immersed into the phosphoric acid solution in the immersion bath, to proceed a process of selectively etching the silicon nitride film. A recovery line(30) draws part of the phosphoric acid solution circulating through the circulation line, and collects and discharges siloxane with a recovery device(31) to recover the phosphoric acid solution. A controller(40) controls a flow rate regulating valve(33) on the basis of measurement results of an outlet concentration meter(24) and an inlet concentration meter(32), to regulate the flow rate of the phosphoric acid solution to be circulated to the immersion bath so that the concentration of siloxane contained in the phosphoric acid solution stored in the immersion bath should be constant.
摘要翻译：提供了一种基板处理装置，以更高精度保持储存在浸浴中的磷酸溶液中所含的硅氧烷的浓度恒定。储存在浸浴（10）中的磷酸溶液通过循环管线（20）循环。将具有氧化硅膜和氮化硅膜的衬底浸渍在浸渍浴中的磷酸溶液中，以进行选择性蚀刻氮化硅膜的工艺。回收管线（30）吸收通过循环管线循环的一部分磷酸溶液，并用回收装置（31）收集并排出硅氧烷以回收磷酸溶液。控制器（40）根据出口浓度计（24）和入口浓度计（32）的测量结果来控制流量调节阀（33），以调节要循环的磷酸溶液的流量浸入浴中，以使储存在浸浴中的磷酸溶液中含有的硅氧烷的浓度应该是恒定的。

2. 发明授权

KR100907114B1 기판처리장치 有权
标题翻译：基板处理设备
公开(公告)号：KR100907114B1
公开(公告)日：2009-07-09
申请号：KR1020070091311
申请日：2007-09-10
申请人： 가부시키가이샤 스크린 홀딩스
发明人： 키요세히로미 , 코바야시테루우키
IPC分类号： H01L21/3063
CPC分类号： H01L21/31111 , H01L21/67086 , H01L21/67253
摘要： [과제] 기판상에 형성된 실리콘질화막의 에칭 레이트를 일정하게 유지할 수 있는 기판처리장치를 제공한다.
[해결 수단] 침지처리조(10)에 저류되어 있는 인산수용액은, 순환라인(20)을 통해서 순환되어 있다. 실리콘산화막 및 실리콘질화막이 형성된 기판(W)이 침지처리조(10)의 인산수용액 중에 침지됨으로써 실리콘질화막의 선택적인 에칭처리가 진행한다. 재생라인(30)은, 순환라인(20)을 통해서 순환되는 인산수용액의 일부를 꺼내서 재생장치(31)에 의해 실록산을 회수·배출해서 인산수용액을 재생한다. 제어부(40)는, 출측농도계(24) 및 입측농도계(32)의 측정결과에 기초해서 유량조정밸브(33)를 제어하여, 침지처리조(10)에 저류되어 있는 인산수용액 중에 함유되는 실록산의 농도가 일정하게 되도록 침지처리조(10)로 환류하는 인산수용액의 유량을 조정한다.
기판처리장치, 실리콘질화막, 에칭 레이트, 재생라인, 순환라인
摘要翻译：本发明提供一种能够将形成于基板上的氮化硅膜的蚀刻速度保持为恒定的基板处理装置。

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