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    • 3. 发明公开
    • 불균일검사 장치 및 불균일검사 방법
    • 无检测装置和无损检测方法
    • KR1020070015093A
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    • KR1020060071740
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    • 가부시키가이샤 스크린 홀딩스
    • 다니구치카즈타카요시하라카즈히로우에타쿠니오
    • G01N21/88G01B11/30
    • An unevenness inspection apparatus and an unevenness inspection method are provided to inspect unevenness of a layer formed on a substrate. An unevenness inspection apparatus includes a maintaining part, a light radiating part(3), a photographing part(41), and an unevenness detection part(7). The maintaining part maintains a substrate on which a light transmissive layer is formed. The light radiating part radiates light to the layer from a predetermined incident angle. The photographing part receives a specific wavelength of interference light reflected from the layer among the light from the light radiating part to obtain an original image of the layer. The unevenness detection part compensates affection varied depending on the layer thickness using sensitivity as a ratio of variation in intensity of the specific wavelength of interference light.
    • 提供不均匀性检查装置和不均匀性检查方法来检查在基板上形成的层的不均匀性。 不平坦度检查装置包括保持部,光辐射部(3),拍摄部(41)和不平坦度检测部(7)。 保持部维持形成有透光层的基板。 光辐射部分从预定的入射角度向所述层辐射光。 拍摄部分接收来自光辐射部分的光中从层反射的特定波长的干涉光,以获得该层的原始图像。 不平坦度检测部分使用灵敏度来补偿根据层厚度而变化的影响作为干涉光的特定波长的强度的变化率。