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1. 发明公开

KR1020040044447A 마스크 교환방법 및 노광장치 无效
标题翻译：交换口罩和曝光装置的方法
公开(公告)号：KR1020040044447A
公开(公告)日：2004-05-28
申请号：KR1020047002376
申请日：2002-08-20
申请人： 가부시키가이샤 니콘 , 가부시키가이샤 센다이 니콘
发明人： 니시겐지 , 오구라가쯔노부 , 기꾸찌히데까즈
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70733 , G03F7/70741
摘要： 레티클을 유지하여 이동 가능한 레티클 스테이지(RST)가 소정의 반출 위치에 있을 때, 반출 아암(73)에 의한 레티클(R')의 반출이 행해진다. 또, 반출 아암에 의해 레티클 스테이지로부터 레이클(R')이 이간되는 동시에 또는 그 직후에 레티클 스테이지가 소정의 반입 위치로 이동하고, 그 반입 위치에서 반입 아암(71)에 의한 레티클 스테이지에 대한 레티클(R)의 반입이 행해진다. 이로써 반출 아암이 반출 위치에서 완전히 퇴피되기 전에 레티클 스테이지에 대한 레티클의 반입을 행하는 것이 가능해지므로, 레티클의 반출과 레티클의 반입 사이의 빈 시간을 단축할 수 있다. 따라서, 레티클 교환에 요하는 시간의 단축에 의해 노광장치에서의 스루풋 향상을 도모할 수 있다.

2. 发明公开

KR1020040014212A 레티클 지지방법, 레티클 지지장치 및 노광장치 无效
标题翻译：用于保持曝光和曝光系统的方法和装置
公开(公告)号：KR1020040014212A
公开(公告)日：2004-02-14
申请号：KR1020030050882
申请日：2003-07-24
申请人： 가부시키가이샤 니콘 , 가부시키가이샤 센다이 니콘
发明人： 오꾸보유끼하루 , 기꾸찌히데까즈
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F1/66 , G03F7/70741 , Y10S414/11 , Y10S414/137
摘要： PURPOSE: To provide a reticle holding unit or the like which is improved so as to be used for an EB exposure reticle by reforming a commodity reticle holding unit(reticle pod). CONSTITUTION: The reticle holding unit 1 is equipped with a pod base 3 and a pod cover 5. Table blocks 19 supporting three points(holding point) which are arranged at regular intervals on the lower peripheral edge of a circular reticle substrate R from below are fixed on the pod base 3. A soft and non-adhesive pressing member 31 that is elastically energized is provided on the cover 5 so as to press down the holding points of the reticle substrate R from above. The peripheral edge of the EB exposure reticle of the same shape with a SEMI standard wafer is supported at the three points from both above and below, so that the EB exposure reticle can be stably held.
摘要翻译：目的：提供一种通过改良商品标线保持单元（标线盒）来改进以用于EB曝光掩模版的掩模版保持单元等。构成：掩模版保持单元1配备有荚状基部3和荚壳盖5.支撑从下方在圆形掩模版基板R的下周缘上以规则间隔布置的三个点（保持点）的表块19是固定在容器基座3上。弹性通电的柔软且不粘合的按压构件31设置在盖5上，以从上方按压标线基板R的保持点。具有SEMI标准晶片的相同形状的EB曝光掩模版的外围边缘在上下三个点处被支持，使得EB曝光掩模版能够被稳定地保持。

3. 发明公开

KR1020040014213A 레티클 핸들링 방법, 레티클 핸들링 장치 및 노광장치 无效
标题翻译：反诉处理方法，诉讼处理单位和暴露系统
公开(公告)号：KR1020040014213A
公开(公告)日：2004-02-14
申请号：KR1020030050883
申请日：2003-07-24
申请人： 가부시키가이샤 니콘 , 가부시키가이샤 센다이 니콘
发明人： 기꾸찌히데까즈 , 야마모또아끼히로
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03B27/62 , G03F7/70741 , H01L21/67766 , H01L21/68707 , Y10S414/135 , Y10S414/136 , Y10S414/14 , Y10S414/141
摘要： PURPOSE: To provide a handling method, a unit and the like which are capable of holding a circular EB exposure reticle stably and transferring it safely. CONSTITUTION: This reticle handling unit is equipped with a U-shaped fork 1 at its tip. Sucking parts 11 are formed on a step 9 formed on a side wall 3a located between arms 5 of the U-shaped fork 1 and each tip of the arms 5. The sucking part 11 is formed with an annular projection 13 and a recess 15, and the reticle R is placed on the projection 13. The sucking parts 11 hold the reticle R as sucking three spots(holding spot) that are arranged nearly at regular intervals on the peripheral edge of the reticle R. By this setup, the reticle R can be stably held and safely transferred without falling off.
摘要翻译：目的：提供能够稳定地保持圆形EB曝光掩模版并安全转印的处理方法，单元等。规定：该标线处理单元在其尖端装有U形叉1。吸入部11形成在形成在位于U形叉1的臂5与臂5的前端之间的侧壁3a上的台阶9上。吸引部11形成有环状突起13和凹部15，并且标线片R被放置在突起13上。吸引部分11将标线片R保持为在标线片R的周缘上几乎以规则间隔排列的三个点（保持点）。通过该设置，标线片R 可以稳定地保持和安全地转移而不脱落。

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