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1. 发明授权

KR100447552B1 수계 분산체 및 반도체 장치의 제조에 사용하는 화학 기계연마용 수계 분산체 및 반도체 장치의 제조 방법 및 매립배선의 형성 방법 有权
标题翻译：用户可以在任何情况下使用本软件，并且可以在任何情况下使用本软件来实现本软件的所有功能。
公开(公告)号：KR100447552B1
公开(公告)日：2004-09-08
申请号：KR1020000013562
申请日：2000-03-17
申请人： 가부시끼가이샤 도시바 , 제이에스알 가부시끼가이샤
发明人： 야노,히로유끼 , 미나미하바,가꾸 , 마쯔이,유끼떼루 , 오꾸무라,가쯔야 , 이이오,아끼라 , 핫또리,마사유끼
IPC分类号： C09K3/14
CPC分类号： C09K3/1463 , C09G1/02 , C09K3/1436 , H01L21/02074 , H01L21/3212 , H01L21/7684
摘要： 본 발명의 목적은 전자 재료, 자성 재료, 광학 재료, 연마 재료 등의 광범위한 용도에 이용되는 특성을 얻을 수 있는 수계 분산체 및 충분한 연마 속도를 얻을 수 있고, 또한 피연마면에 흠이 생기지 않는 화학 기계 연마용 수계 분산체(CMP용 슬러리)를 제공하는 데 있다. 본 발명의 다른 목적은 연마시에 스크래치 등에 의한 부식 진행을 억제하여 피가공막의 효율적인 평탄화를 가능하게 하는 CMP용 슬러리를 사용한 반도체 장치의 제조 방법 및 매립 배선의 형성 방법을 제공하는 데 있다. 본 발명의 수계 분산체 또는 CMP용 슬러리는 열가소성 수지 등으로 이루어지는 중합체 입자와 알루미나, 실리카 등으로 이루어지고, 이 중합체 입자와는 제타 전위가 반대 부호인 무기 입자를 함유하고, 중합체 입자와 무기 입자는 정전기력에 의해 결합된 응집체가 되어 복합 입자를 형성하고 있다. 또한, 이 응집체에 초음파를 조사하거나, 균질화기에 의해 전단 응력을 가하여 보다 균일하게 분산된 복합 입자를 얻을 수 있다.
摘要翻译：本发明的目的是提供一种水性分散体，其可以提供包括电子材料，磁性材料，光学材料和抛光材料在内的广泛用途的所需性能，并且提供用于化学机械抛光的水分散体（CMP浆液），可以提供足够的抛光速率而不会在抛光表面产生划痕。本发明的另一个目的是提供一种使用CMP浆料制造半导体器件的方法，该方法可以控制在抛光期间由于划痕等造成的渐进腐蚀并且可以实现工作膜的有效平坦化，并且提供一种用于形成嵌入式布线。本发明的水性分散体或CMP浆料包含由热塑性树脂等制成的聚合物颗粒和由氧化铝，二氧化硅等制成的无机颗粒，其中聚合物颗粒和无机颗粒的ζ电位具有相反的符号，并且它们通过静电力结合形成作为复合颗粒的聚集体。用均化器对聚集体进行超声波照射或剪切应力，以得到更均匀分散的复合颗粒。＆lt;图像＆GT;

2. 发明公开

KR1020000062931A 수계 분산체 및 반도체 장치의 제조에 사용하는 화학 기계연마용 수계 분산체 및 반도체 장치의 제조 방법 및 매립배선의 형성 방법 有权
标题翻译：用于生产水分散体和半导体器件的化学机械抛光用水分散体，用于制造半导体器件的方法以及用于形成嵌入布线的方法
公开(公告)号：KR1020000062931A
公开(公告)日：2000-10-25
申请号：KR1020000013562
申请日：2000-03-17
申请人： 가부시끼가이샤 도시바 , 제이에스알 가부시끼가이샤
发明人： 야노,히로유끼 , 미나미하바,가꾸 , 마쯔이,유끼떼루 , 오꾸무라,가쯔야 , 이이오,아끼라 , 핫또리,마사유끼
IPC分类号： C09K3/14
CPC分类号： C09K3/1463 , C09G1/02 , C09K3/1436 , H01L21/02074 , H01L21/3212 , H01L21/7684
摘要： 본발명의목적은전자재료, 자성재료, 광학재료, 연마재료등의광범위한용도에이용되는특성을얻을수 있는수계분산체및 충분한연마속도를얻을수 있고, 또한피연마면에흠이생기지않는화학기계연마용수계분산체(CMP용슬러리)를제공하는데 있다. 본발명의다른목적은연마시에스크래치등에의한부식진행을억제하여피가공막의효율적인평탄화를가능하게하는 CMP용슬러리를사용한반도체장치의제조방법및 매립배선의형성방법을제공하는데 있다. 본발명의수계분산체또는 CMP용슬러리는열가소성수지등으로이루어지는중합체입자와알루미나, 실리카등으로이루어지고, 이중합체입자와는제타전위가반대부호인무기입자를함유하고, 중합체입자와무기입자는정전기력에의해결합된응집체가되어복합입자를형성하고있다. 또한, 이응집체에초음파를조사하거나, 균질화기에의해전단응력을가하여보다균일하게분산된복합입자를얻을수 있다.

3. 发明公开

KR1019990023544A 무기 입자의 수성 분산체와 그의 제조 방법 无效
标题翻译：无机粒子的水分散体及其制造方法
公开(公告)号：KR1019990023544A
公开(公告)日：1999-03-25
申请号：KR1019980032707
申请日：1998-08-12
申请人： 제이에스알 가부시끼가이샤
发明人： 핫또리,마사유끼 , 모또나리,마사유끼 , 이이오,아끼라
IPC分类号： B01F17/00
摘要： 본 발명은 장시간 보관해 두어도 점성이 증가하거나 겔화되거나, 침전물이 발생하지 않아 안정성이 높은, 예를 들면 화장품, 도료, 코팅제, 반도체 웨이퍼의 연마용 슬러리 등에 사용할 수가 있는 무기 입자의 수성 분산체와 그의 제조 방법을 제공한다.
본 발명의 수성 분산체는 수성 분산체 중의 무기 입자 농도를 30 중량%로 환산했을 때 입경 1.3 ㎛ 이상의 입자수가 1 ㎖당 180000 이하이며, 평균 입자경이 0.05 내지 0.9 ㎛의 범위에 있다. 입경이 1.3 ㎛ 이상인 입자수는 리온 가부시끼가이샤 제품의 광차단 방식의 입자 검출용 센서인 파티클 센서 KS-60과 동사 제품의 입자 계수기인 파티클카운터 KL-11을 사용하여 측정한다. 평균 입자경은 오쯔까 덴시 가부시끼가이샤 제품인 레이저 파티클 분석기 시스템 PAR-III (LASER PARTICLE ANALYZER SYSTEM PAR-Ⅲ)을 사용하여 측정한다.

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