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1. 发明公开

KR1020120113343A 고순도 헥사플루오르프로필렌 정제장치 有权
标题翻译：净化装置用于高纯度六氟丙烯
公开(公告)号：KR1020120113343A
公开(公告)日：2012-10-15
申请号：KR1020110031005
申请日：2011-04-05
申请人： (주)원익머트리얼즈
发明人： 장향자 , 김대현 , 송한덕 , 김영국 , 최호윤 , 정성진 , 황덕희
IPC分类号： C07B63/00 , C07C17/383 , C07C21/18 , B01D8/00
CPC分类号： C07B63/00 , B01D8/00 , C07C17/383 , C07C21/18
摘要： PURPOSE: A purifying apparatus of hexafluoropropylene is provided to easily and effectively obtain highly pure hexafluoropropylene by separating impurities of low boiling point and impurities of high boiling point in order by using a difference of boiling point between hexafluoropropylene and impurities. CONSTITUTION: A purifying apparatus of hexafluoropropylene comprises: a moisture absorption column(10) removing moisture in hexafluoropropylene by using an absorbent; a heater(20) for regenerating the absorbent; a low-boiling-point impurity separation cold trap(30) separating gaseous low-boiling-point impurities(A) in liquid hexafluoropropylene and discharging the gaseous low-boiling-point impurities through a vacuum vent unit(31); a high-boiling point impurities separation cold trap(40) separating gaseous hexafluoropropylene from liquid high-boiling-point impurities(B) by vaporizing the liquid hexafluoropropylene; a boiling point modifier controlling internal temperature of the impurity separation cold traps; and a reservoir(60) storing the separated hexafluoro propylene gas. [Reference numerals] (1) Unpurified HFP; (2) Moisture-removed HFP; (3) Liquid HFP in which impurities of low boiling point are removed; (4) Liquid HFP in which impurities of high boiling point are removed; (A) Gas of low boiling point; (B) Gas of high boiling point; (C) Residues
摘要翻译：目的：提供六氟丙烯的净化装置，通过使用六氟丙烯和杂质之间的沸点差，通过分离低沸点杂质和高沸点杂质来容易且有效地获得高纯度的六氟丙烯。构成：六氟丙烯的净化装置包括：通过使用吸收剂除去六氟丙烯中的水分的吸湿塔（10）用于再生吸收剂的加热器（20）将液态六氟丙烯中的气态低沸点杂质（A）分离并通过真空排气单元（31）排出气态低沸点杂质的低沸点杂质分离冷阱（30）; 通过汽化液体六氟丙烯将气态六氟丙烯与液体高沸点杂质（B）分离的高沸点杂质分离冷阱（40）; 控制杂质分离冷阱的内部温度的沸点调节剂; 和存储分离的六氟丙烯气体的储存器（60）。（附图标记）（1）未纯化的HFP; （2）去除水分HFP; （3）除去低沸点杂质的液体HFP; （4）除去高沸点杂质的液体HFP; （A）低沸点气体; （B）高沸点气体; （C）残留物

2. 发明公开

KR1020120113341A 고순도 헥사플루오르프로필렌 정제방법 有权
标题翻译：高纯度六氟丙烯的纯化方法
公开(公告)号：KR1020120113341A
公开(公告)日：2012-10-15
申请号：KR1020110031003
申请日：2011-04-05
申请人： (주)원익머트리얼즈
发明人： 장향자 , 김대현 , 송한덕 , 김영국 , 최호윤 , 정성진 , 황덕희
IPC分类号： C07C17/383 , C07C21/18 , C07B63/00 , B01D3/00
摘要： PURPOSE: A purifying method of hexafluoropropylene is provided to easily obtain highly pure hexafluoropropylene than an existing absorption method and impurity-removing method through a reaction of ammonia by using a difference of boiling point of hexafluoropropylene and impurities in the hexafluoropropylene. CONSTITUTION: A purifying method of hexafluoropropylene comprises: a step(S100) of removing residual water by moisture-absorbing HFP which becomes raw material; a step(S200) of separating low-boiling point impurities contained in the hexafluoropropylene by using a difference of boiling point; a step(S300) of separating impurities of high boiling point contained the hexafluoropropylene through a difference of boiling points; a step(S400) of storing the hexafluoropropylene of gas phase in which the impurities of low boiling point and impurities of high boiling points are separated in a storage unit; a step(S500) of storing the hexafluoropropylene gas and discharging the vaporizing impurities of high boiling point through a vacuum discharge unit while maintaining inner temperature higher than the boiling point of the impurities of the high boiling point. [Reference numerals] (AA) Is the vacuum discharge finished?; (S100) Removing residual water in HEP; (S110) Regenerating absorbent; (S200) Separating low-boiling point impurities from HFP; (S210) Filling HFP in which water is removed; (S220) Vacuum state and heat-insulating treatment; (S230) Reducing inner temperature and maintaining vacuum state; (S240) Maintaining inner temperature lower than the boiling point of HFP; (S250) Discharging the low-boiling point impurities in gas state; (S260) Transferring liquid HFP; (S300) Separating the high boiling point impurities from HFP; (S310) Inflow of HFP in which low boiling point impurities are removed; (S320) Vacuum state and heat-insulating treatment; (S330) Reducing inner temperature and maintaining vacuum state; (S340) Maintaining inner temperature higher than the boiling point of HFP; (S400) Growing HFP gas of high purity; (S500) Vacuum discharging through vaporizing high boiling point impurities
摘要翻译：目的：提供一种六氟丙烯的净化方法，通过使用六氟丙烯的沸点与六氟丙烯中的杂质的差异，通过氨的反应，可以容易地获得高纯度的六氟丙烯，而不是现有的吸收方法和杂质去除方法。构成：六氟丙烯的净化方法包括：通过吸湿成为原料的HFP除去残留水的工序（S100）通过使用沸点差来分离六氟丙烯中所含的低沸点杂质的工序（S200）通过沸点差来分离含有六氟丙烯的高沸点杂质的工序（S300）存储单元中存储有低沸点杂质和高沸点杂质的气相六氟丙烯的步骤（S400）; 存储六氟丙烯气体并通过真空排出单元排出高沸点气化杂质的步骤（S500），同时保持内部温度高于高沸点杂质的沸点。（附图标记）（AA）真空放电是否完成？（S100）去除HEP中的残留水; （S110）再生吸收剂; （S200）从HFP分离低沸点杂质; （S210）填充除去水的HFP; （S220）真空状态和隔热处理; （S230）降低内部温度并保持真空状态; （S240）保持内部温度低于HFP的沸点; （S250）排出气态低沸点杂质; （S260）转移液体HFP; （S300）将高沸点杂质与HFP分离; （S310）去除低沸点杂质的HFP流入; （S320）真空状态和绝热处理; （S330）降低内部温度并保持真空状态; （S340）保持内部温度高于HFP的沸点; （S400）生长高纯度的HFP气体; （S500）通过汽化高沸点杂质进行真空排放

3. 发明公开

KR1020120113342A 고순도 헥사플루오르프로필렌 정제용기 有权
标题翻译：用于高纯度HEXAFLORORROPYLEN的净化冷藏
公开(公告)号：KR1020120113342A
公开(公告)日：2012-10-15
申请号：KR1020110031004
申请日：2011-04-05
申请人： (주)원익머트리얼즈
发明人： 장향자 , 김대현 , 송한덕 , 김영국 , 최호윤 , 정성진 , 황덕희
IPC分类号： C07B63/00 , C07C17/383 , C07C21/18 , B01D3/00
CPC分类号： C07B63/00 , B01D3/141 , C07C17/383 , C07C21/18
摘要： PURPOSE: A purification container for highly pure hexafluoropropylene is provided to easily and effectively remove impurities of high boiling point such as perfluorocompound and impurities of low boiling point such as O2, N2, CO, CH4, etc by using difference of boiling point between the hexafluoropropylene and impurities. CONSTITUTION: A purification container for highly pure hexafluoropropylene comprises: a reservoir(10) in which hexafluoropropylene flows in or is filled; a boiling point modification housing(20) capable of controlling internal temperature of the storage material by a boiling point modifier(23) flowing in; a vacuum housing(30) insulating the storage material and the boiling point modification housing by maintaining inside to a vacuum state; a vent pipe(50) discharging impurities or hexafluoropropylene vaporized by the difference of boiling points to outside; and a transport pipe(60) transporting hexafluoropropylene liquefied by the difference of boiling points to outside.
摘要翻译：目的：提供用于高纯度六氟丙烯的净化容器，通过使用六氟丙烯之间的沸点差异，容易且有效地除去高沸点杂质如全氟化合物和低沸点杂质如O 2，N 2，CO，CH 4等和杂质。构成：用于高纯度六氟丙烯的净化容器包括：储存器（10），其中六氟丙烯流入或填充; 能够通过流入的沸点调节剂（23）控制储存材料的内部温度的沸点改性壳体（20）通过将内部保持在真空状态来使储存材料和沸点改性壳体绝缘的真空壳体（30）; 排出由沸点不同而蒸发的杂质或六氟丙烯的排气管（50）; 以及通过沸点不同而液化的六氟丙烯的输送管（60）输送到外部。

4. 发明授权

KR101198351B1 고순도 헥사플루오르프로필렌 정제장치 有权
标题翻译：高纯度六氟丙烯净化装置
公开(公告)号：KR101198351B1
公开(公告)日：2012-11-06
申请号：KR1020110031005
申请日：2011-04-05
申请人： (주)원익머트리얼즈
发明人： 장향자 , 김대현 , 송한덕 , 김영국 , 최호윤 , 정성진 , 황덕희
IPC分类号： C07B63/00 , C07C17/383 , C07C21/18 , B01D8/00
摘要： 본 발명은 고순도 헥사플루오르프로필렌 정제장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 고순도의 HFP를 정제하기 위해, HFP 및 HFP 내 불순물의 비점차이를 이용하여, HFP 내 불순물을 제거하는 정제장치로, HFP 내 잔여 수분을 흡착제를 이용하여 제거하고, 수분이 제거된 HFP를 HFP 비점보다 상대적으로 낮은 온도로 설정된 저비점 불순물 분리 콜드트랩으로 통과시켜, 저비점 불순물이 기체상태로 분리되며 제거되도록 하고, 이후, HFP 비점보다 상대적으로 높은 온도로 설정된 고비점 불순물 분리 콜드트랩으로 통과시켜, 액상의 고비점 불순물과 달리 기체상태가 되는 HFP의 기체를 저장탱크에 저장함과 동시에, 남아있는 액상의 고비점 불순물은 내부를 상온 이상으로 높여 기화 후 외부로 진공배기시켜 제거함으로써, 손쉽게 고순도의 HFP를 얻을 수 있도록 한 고순도 헥사플루오르프로필렌 정제장치에 관한 것이다.

5. 发明授权

KR100938435B1 황화카보닐의 합성방법 및 합성반응장치 有权
标题翻译： COS及其设备的生产方法
公开(公告)号：KR100938435B1
公开(公告)日：2010-01-25
申请号：KR1020090052782
申请日：2009-06-15
申请人： (주)원익머트리얼즈
发明人： 김대현 , 김영국 , 정성진 , 이준열 , 백두현
IPC分类号： C07C319/00 , C07C327/22 , C01B31/26 , B01J10/00
CPC分类号： C07C319/00 , B01J10/00 , C01B32/70 , C07C327/22
摘要： PURPOSE: A synthesis method of carbonyl sulfide and a synthesis apparatus thereof are provided to synthesize carbonyl sulfide economically with only simple reaction equipment, to minimize the generation of by-products, and to ensure continuous mass production. CONSTITUTION: A synthesis method of carbonyl sulfide using carbon monoxide gas and liquid sulfur as a raw material comprises a step for reacting carbon monoxide gas and liquid sulfur through by bubbling and supplying carbon monoxide gas to a reactor(21) in which liquid sulfur is contained thereinside and the temperature and pressure control is enabled through a gas-solid contact method.
摘要翻译：目的：提供羰基硫化合物的合成方法及其合成装置，仅通过简单的反应设备经济地合成羰基硫化物，从而最小化副产物的产生，并确保连续的批量生产。构成：使用一氧化碳气体和液体硫作为原料的羰基硫化物的合成方法包括通过向含有液体硫的反应器（21）鼓泡并提供一氧化碳气体来使一氧化碳气体和液体硫反应的步骤并通过气固接触法实现温度和压力控制。

6. 发明授权

KR101198349B1 고순도 헥사플루오르프로필렌 정제방법 有权
标题翻译：高纯度六氟丙烯的纯化方法
公开(公告)号：KR101198349B1
公开(公告)日：2012-11-06
申请号：KR1020110031003
申请日：2011-04-05
申请人： (주)원익머트리얼즈
发明人： 장향자 , 김대현 , 송한덕 , 김영국 , 최호윤 , 정성진 , 황덕희
IPC分类号： C07C17/383 , C07C21/18 , C07B63/00 , B01D3/00
摘要： 본 발명은 고순도 헥사플루오르프로필렌 정제방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 HFP 내의 불순물을 제거하여 고순도의 HFP를 얻을 수 있도록 한 정제방법이며, 이를 위해, 원료대상이 되는 HFP 내 잔여수분을 제거하고, 잔여수분이 제거된 HFP를 HFP의 비점보다 낮되 HFP에 함유된 저비점 불순물의 비점보다는 높은 온도로 설정하여, HFP는 액체상태를 유지하되 기체상태가 된 저비점 불순물은 외부로 배기시키며, 이어, 액상의 HFP를 HFP의 비점보다 높되, HFP에 함유된 고비점 불순물의 비점보다는 낮게 설정된 온도로 설정하여, 액체상태가 되는 HFP 내 고비점 불순물과는 달리 기체상태가 되는 HFP를 별도의 저장수단에 저장시킨 후, 남아있는 고비점 불순물의 제거를 위해, 남아있는 고비점 불순물을 고비점 불순물의 비점보다 높은 온도로 저장수단 내 온도를 설정하여, 고비점 불순물을 기화시켜 외부로 진공배기시킴으로써, HFP 내 불순물을 비점차이를 이용해 분리하여 고순도의 HFP 획득이 가능토록 한 고순도 헥사플루오르프로필렌 정제방법에 관한 것이다.

7. 发明授权

KR101198350B1 고순도 헥사플루오르프로필렌 정제용기 有权
标题翻译：净化高纯度六氟丙烯冷阱
公开(公告)号：KR101198350B1
公开(公告)日：2012-11-08
申请号：KR1020110031004
申请日：2011-04-05
申请人： (주)원익머트리얼즈
发明人： 장향자 , 김대현 , 송한덕 , 김영국 , 최호윤 , 정성진 , 황덕희
IPC分类号： C07B63/00 , C07C17/383 , C07C21/18 , B01D3/00
摘要： 본 발명은 고순도 헥사플루오르프로필렌 정제용기에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 저장체 내에 원료대상이 되는 HFP를 충진 또는 유입하되, 상기 저장체는 내설하면서 저장체의 내부온도를 비점 조절수단에 의해 온도조절이 가능토록 하고, 최외곽을 진공상태로 형성하여 단열 및 열손실을 방지함과 동시에, 저장체 내부의 길이방향에 따른 온도 측정이 가능하며, 비점 조절수단에 의한 비점차이로 인해 분리되는 저비점 불순물, 고비점 불순물의 배기 및 불순물이 분리된 고순도의 HFP의 이송이 손쉬운 고순도 헥사플루오르프로필렌 정제용기에 관한 것이다.

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