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1. 发明授权

KR101198406B1 패턴 검사 장치 有权
标题翻译：图案检查装置
公开(公告)号：KR101198406B1
公开(公告)日：2012-11-07
申请号：KR1020100036786
申请日：2010-04-21
申请人： (주)에이앤아이
发明人： 오병준 , 전동철 , 김윤식 , 이제연
IPC分类号： G01N21/956 , G01B11/30 , H01L21/66
摘要： 패턴을 검사하는 방법 및 장치가 제공된다. 본 발명의 일 측면에 따른 광 관련 판 요소에 형성된 패턴을 검사하는 장치는 상기 광 관련 판 요소의 상면에 반사광을 조명하는 제 1 광원, 상기 반사광에 의해 조명된 상기 상면을 촬영하는 제 1 카메라, 상기 광 관련 판 요소의 하면에 투과광을 조명하는 제 2 광원, 상기 투과광이 투과된 상기 광 관련 판 요소의 상면을 촬영하는 제 2 카메라 및 상기 제 1 카메라 및 상기 제 2 카메라에 의해 촬영된 상기 패턴에서, 미리 정해진 기준 휘도 보다 높은 값을 가지는 부분을 검출하여 상기 패턴에 대한 불량 여부를 판단하는 패턴 검사부를 포함한다.
또한, 본 발명은 광 관련 판 요소의 하중에 의한 쳐짐 또는 평탄도 불균일에 의하여, 광 관련 판 요소에 대한 카메라의 초점 거리 오차가 발생하는 경우, 검사에 문제가 없도록 이를 실시간으로 보정하는 장치를 제공하고, 광 관련 판 요소의 패턴에 대하여 다양한 결함, 즉, 쇼트 및 오픈 등의 결함을 동시에 검출할 수 있는 장치를 제공하여, 복수개의 검사 시스템을 사용해야 했던 종래 기술의 한계를 극복할 수 있다.

2. 发明公开

KR1020110117371A 패턴 검사 장치 有权
标题翻译：图案检查装置
公开(公告)号：KR1020110117371A
公开(公告)日：2011-10-27
申请号：KR1020100036786
申请日：2010-04-21
申请人： (주)에이앤아이
发明人： 오병준 , 전동철 , 김윤식 , 이제연
IPC分类号： G01N21/956 , G01B11/30 , H01L21/66
摘要： 패턴을 검사하는 방법 및 장치가 제공된다. 본 발명의 일 측면에 따른 광 관련 판 요소에 형성된 패턴을 검사하는 장치는 상기 광 관련 판 요소의 상면에 반사광을 조명하는 제 1 광원, 상기 반사광에 의해 조명된 상기 상면을 촬영하는 제 1 카메라, 상기 광 관련 판 요소의 하면에 투과광을 조명하는 제 2 광원, 상기 투과광이 투과된 상기 광 관련 판 요소의 상면을 촬영하는 제 2 카메라 및 상기 제 1 카메라 및 상기 제 2 카메라에 의해 촬영된 상기 패턴에서, 미리 정해진 기준 휘도 보다 높은 값을 가지는 부분을 검출하여 상기 패턴에 대한 불량 여부를 판단하는 패턴 검사부를 포함한다.
또한, 본 발명은 광 관련 판 요소의 하중에 의한 쳐짐 또는 평탄도 불균일에 의하여, 광 관련 판 요소에 대한 카메라의 초점 거리 오차가 발생하는 경우, 검사에 문제가 없도록 이를 실시간으로 보정하는 장치를 제공하고, 광 관련 판 요소의 패턴에 대하여 다양한 결함, 즉, 쇼트 및 오픈 등의 결함을 동시에 검출할 수 있는 장치를 제공하여, 복수개의 검사 시스템을 사용해야 했던 종래 기술의 한계를 극복할 수 있다.

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