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1. 发明授权

KR101309067B1 금속막의 형성 방법 有权
标题翻译：金属膜的制备方法
公开(公告)号：KR101309067B1
公开(公告)日：2013-09-16
申请号：KR1020110071975
申请日：2011-07-20
申请人： (주)루미나노
发明人： 성명모 , 한성환 , 조은영 , 권창협 , 배혜림 , 최상엽
IPC分类号： C23C18/16 , C23C18/32 , C23C18/52
摘要： 본원은 기재 표면에 배치된 환원제에 의하여 금속 이온을 환원시켜 금속막을 형성하는 것을 이용한 금속막의 형성 방법 및 금속미세입자를 이용한 금속막 형성 방법 그리고 이들을 바탕으로 무전해 또는 전해 금속 도금용액을 이용한 금속막 형성에 관한 것이다.

2. 发明公开

KR1020130011087A 금속막의 형성 방법 有权
标题翻译：金属膜的制备方法
公开(公告)号：KR1020130011087A
公开(公告)日：2013-01-30
申请号：KR1020110071975
申请日：2011-07-20
申请人： (주)루미나노
发明人： 성명모 , 한성환 , 조은영 , 권창협 , 배혜림 , 최상엽
IPC分类号： C23C18/16 , C23C18/32 , C23C18/52
摘要： PURPOSE: A forming method of a metal thin film is provided to quickly and economically form various metal thin films by using a solution which contains one or more selected from metallic particles or ions and polymer mixture. CONSTITUTION: A forming method of a metal thin film comprises: a step of surface-treating a substrate(S100) by spreading a reductant on the surface of a substrate; and a step of forming a thin film by reducing the metal ions by the redactors by contacting a metal ion-containing solution and the surface-treated substrate. The surface treatment is forming a reducer pattern by spreading the reducer on a mold with a formed pattern, and transcribing the reducer pattern on the surface of the reductant. The contact of the metal-ion containing solution and the surface-treated substrate comprises a step of transcribing the metal ion-containing solution pattern on the mold. [Reference numerals] (S100) Surface-treating a substrate by spreading a reductant on the surface of the substrate; (S200) Forming a metal film by making the surface-treated substrate contact with a metal ion-containing solution to reduce metal ion by a reductant
摘要翻译：目的：提供金属薄膜的形成方法，通过使用含有选自金属颗粒或离子和聚合物混合物中的一种或多种的溶液来快速且经济地形成各种金属薄膜。构成：金属薄膜的形成方法包括：通过在基板的表面上铺展还原剂来对基板进行表面处理（S100）的步骤; 以及通过使含有金属离子的溶液与表面处理的基板接触而通过使反应器还原金属离子而形成薄膜的工序。表面处理通过将还原剂铺展在具有形成图案的模具上，并且将还原剂图案转印在还原剂的表面上来形成还原剂图案。含有金属离子的溶液和表面处理的基材的接触包括在模具上转印含金属离子的溶液图案的步骤。（附图标记）（S100）通过在基板的表面上铺展还原剂来对基板进行表面处理; （S200）通过使表面处理基板与含金属离子的溶液接触以还原剂形成金属膜以还原金属离子

3. 发明授权

KR101565012B1 항균 조성물 및 이를 이용한 표면 항균처리 방법 有权
标题翻译：使用该抗体的抗菌组合物和表面抗细菌治疗方法
公开(公告)号：KR101565012B1
公开(公告)日：2015-11-02
申请号：KR1020130123423
申请日：2013-10-16
申请人： (주)루미나노
发明人： 한성환 , 조은영 , 권창협 , 배혜림 , 최상엽
IPC分类号： A01N43/40 , A01P1/00
CPC分类号： A01N43/40 , A01N25/10 , A01N25/24
摘要： 본원은항균조성물및 상기항균조성물을이용한표면항균처리방법에관한것이다.

4. 发明公开

KR1020150044256A 항균 조성물 및 이를 이용한 표면 항균처리 방법 有权
标题翻译：使用该抗体的抗菌组合物和表面抗细菌治疗方法
公开(公告)号：KR1020150044256A
公开(公告)日：2015-04-24
申请号：KR1020130123423
申请日：2013-10-16
申请人： (주)루미나노
发明人： 한성환 , 조은영 , 권창협 , 배혜림 , 최상엽
IPC分类号： A01N43/40 , A01P1/00
CPC分类号： A01N43/40 , A01N25/10 , A01N25/24
摘要： 본원은항균조성물및 상기항균조성물을이용한표면항균처리방법에관한것이다.
摘要翻译：本发明涉及抗菌组合物和使用其的表面抗菌处理方法。本发明的抗菌组合物含有由化学式1表示的烷基 - 紫精衍生物化合物。

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