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1. 发明公开

KR1020130098215A 리본 이온 비임을 포커싱하고 리본 이온 비임 내의 원하는 이온 종류를 원치 않는 이온 종류로부터 분리하도록 작동하는 질량 분석 장치 및 시스템 审中-实审
标题翻译：大量分析仪装置和系统用于聚焦RIBBON离子束和用于从RIBBON离子束中的未经处理的物质分离所需离子的物质
公开(公告)号：KR1020130098215A
公开(公告)日：2013-09-04
申请号：KR1020130020346
申请日：2013-02-26
申请人： 화이트 니콜라스 알.
发明人： 화이트니콜라스알.
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/14 , H01J37/147
摘要： PURPOSE: A mass analysis device and system operating for focusing a ribbon ion beam and separating desired ion types from unwanted ion types in the ribbon ion beam provide a combination of focusing, mass selection, and control of uniformity in a single device. CONSTITUTION: An E-block-coil combination unit includes an E-shaped block mounting unit (1) and an oblong-shaped closed coil (2). The E-shaped block mounting unit is made of ferromagnetic materials with an exposed block face having parallel raised ridges (13,15,17) and parallel recessed channels (12,14). A magnetic field generating unit is inserted into the structure of the E-shaped magnetic block mounting unit in the transverse direction and arranged in an x-z plane of the E-shaped block mounting unit. The E-shaped block mounting unit is extended in the x-axis direction with a greater distance than the x-axis size of a moving charged particle beam which passes a device at a short distance.
摘要翻译：目的：用于聚焦带状离子束并将期望的离子类型与带状离子束中不需要的离子类型分离的质量分析装置和系统提供了单个装置中的聚焦，质量选择和均匀性控制的组合。构成：E块式线圈组合单元包括E形块安装单元（1）和长方形闭合线圈（2）。 E形块安装单元由铁磁材料制成，具有暴露的块面，其具有平行的凸脊（13,15,17）和平行的凹槽（12,14）。将磁场产生单元沿横向插入到E形磁块安装单元的结构中，并布置在E形块安装单元的x-z平面中。 E形块安装单元在x轴方向上延伸距离比通过短距离设备的移动带电粒子束的x轴尺寸更大的距离。

2. 发明授权

KR100913445B1 이온 주입기 장치 및 연속 이온 비임의 대전 입자의 균일성을 조절 및 제어하는 방법 有权
标题翻译：离子注入装置和连续离子束中充电颗粒的均匀性调节方法
公开(公告)号：KR100913445B1
公开(公告)日：2009-08-25
申请号：KR1020067021926
申请日：2005-03-02
申请人： 화이트 니콜라스 알.
发明人： 화이트니콜라스알.
IPC分类号： H01J37/317
CPC分类号： H01J37/3171 , H01J37/141 , H01J37/1471 , H01J37/1472 , H01J37/3172 , H01J2237/1504 , H01J2237/152 , H01J2237/30433 , H01J2237/31703
摘要： 연속 이온 비임에 적용되는 연속 자기장을 생성하기 위한 전자기 조절기 조립체가 설명된다. 조립체는 이동하는 연속 리본형 비임의 균일성을 제어하기 위한 구조로 되며, 전류 균일성을 증가시키기 위해 파라미터로서 자기장의 자기장 변화도를 직접 조절하는 것을 가능하게 한다.
비임, 자극, 전류, 전자기, 조절기, 강자성체

3. 发明公开

KR1020070004052A 이온 주입기 장치 및 연속 이온 비임의 대전 입자의 균일성을 조절 및 제어하는 방법 有权
标题翻译：用于调整和控制连续离子束的当前均匀性的电磁调节器总成
公开(公告)号：KR1020070004052A
公开(公告)日：2007-01-05
申请号：KR1020067021926
申请日：2005-03-02
申请人： 화이트 니콜라스 알.
发明人： 화이트니콜라스알.
IPC分类号： H01J37/317
CPC分类号： H01J37/3171 , H01J37/141 , H01J37/1471 , H01J37/1472 , H01J37/3172 , H01J2237/1504 , H01J2237/152 , H01J2237/30433 , H01J2237/31703
摘要： An electromagnetic regulator assembly for the production of contiguous magnetic fields which are applied to a continuous ion beam is described. The assembly is structured for controlling the uniformity of traveling continuous ribbon-shaped beams; and allows for direct adjustment of the magnetic field gradient of the magnetic field as the parameter for increasing the current uniformity. ® KIPO & WIPO 2007
摘要翻译：描述了用于产生施加到连续离子束的连续磁场的电磁调节器组件。该组件被构造成用于控制行进的连续带状梁的均匀性; 并且允许直接调节磁场的磁场梯度作为增加电流均匀性的参数。 ®KIPO＆WIPO 2007

4. 发明公开

KR1020060135908A 스캔된 이온 빔의 정밀 평행 정렬 및 정확한 시준을 위한미세 제어 콜리메이터 및 방법 无效
标题翻译：方法和精细控制收缩机，用于精确的收缩和精确的扫描离子束的平行对齐
公开(公告)号：KR1020060135908A
公开(公告)日：2006-12-29
申请号：KR1020067021952
申请日：2005-03-02
申请人： 화이트 니콜라스 알.
发明人： 화이트니콜라스알.
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/30
CPC分类号： H01J37/3171 , H01J37/1472 , H01J37/1474 , H01J37/3045 , H01J2237/1501 , H01J2237/1504 , H01J2237/1508 , H01J2237/152
摘要： In a system for implanting workpieces with an accurately parallel scanned ion beam, a fine-control collimator construct is used to reduce the deviation of the scanned ion beam from a specified axis of parallelism and thereby improve its collimation. The shape of the fine-control collimator matches the ribbon shape of the beam and correction of parallelism in two orthogonal directions is possible. Measurement of the non-parallelism is accomplished by sampling the scanned beam in two planes and comparing timing information; and such measurement is calibrated to the orientation of the workpiece in the plane where ion implantation occurs. Measurement of non-uniformity in the doping profile is accomplished using the same means; and the scan wavefonn is adjusted to substantially remove any non-uniformity in the doping profile.
摘要翻译：在用准确平行的扫描离子束注入工件的系统中，使用精细控制准直器构造来减少扫描的离子束与特定的平行轴线的偏离，从而改善其准直。精细准直器的形状与光束的色带形状匹配，并且可以在两个正交方向上校正平行度。通过在两个平面中采样扫描光束并比较定时信息来实现非平行度的测量; 并且这样的测量被校准为在离子注入发生的平面中的工件的取向。使用相同的方法测量掺杂分布中的不均匀性; 并且扫描波形被调整以基本上消除掺杂分布中的任何不均匀性。

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