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    • 1. 发明授权
    • 불순물 도우핑 장치
    • 防伪装置
    • KR100166587B1
    • 1999-02-01
    • KR1019900019891
    • 1990-12-05
    • 세이코 덴시고교 가부시키가이샤
    • 아오끼겐지
    • H01L21/22
    • C30B31/00Y10S156/913
    • 불순물 도우핑 장치는 진공실, 진공실에 배치된 실리콘 기판을 가열하는 히터, 및 진공시레 붕소 불순물 성분을 포함하는 디보란 가스를 공급하는 가스 공급원으로 구성된다. 조절 밸브를 가스 흐름 속도를 조절하기 위해 위해 진공실과 가스 공급원 사이에 배치되어 있다. CPU는 실리콘 기판에 붕소를 도우핑하기 위하여 소정의 연속 제1, 제2및 제3절차에 따라서 히터 및 조절 밸브를 제어하도록 설치된다. CPU는 실리콘 기판면을 활성화시키기 위해 진공실내의 실리콘 기판을 가절하기 위한 제1절차에 따라 동작한다. CPU는 활성화된 표면상에 붕소 흡수막을 배치하기 위하여 실리콘 기판을 가열하는 동안 디보란 가스를 진공실내로 충전시키기 위해 제2절차에 따라 동작하며, 또한 실리콘 기판 체적내로 흡수막으로부터의 붕소를 확산 시키기 위해 실리콘 기판의 어닐링을 실행하기 위해 제3절차에 따라 동작한다.