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1. 发明授权

KR102089232B1 X선 반사율 측정 장치 有权
公开(公告)号：KR102089232B1
公开(公告)日：2020-03-13
申请号：KR1020197018315
申请日：2017-11-14
申请人： 가부시키가이샤 리가쿠
发明人： 무라카미사토시 , 오모테가즈히코 , 기쿠타신야 , 이케시타아키히로
IPC分类号： G01N23/20008 , G01N23/201

2. 发明授权

KR101412375B1 미소부 Ｘ선 계측 장치 有权
标题翻译：微型X射线测量装置
公开(公告)号：KR101412375B1
公开(公告)日：2014-06-25
申请号：KR1020110007286
申请日：2011-01-25
申请人： 가부시키가이샤 리가쿠
发明人： 나까노아사오 , 이나바가쯔히꼬 , 노노구찌마사히로
IPC分类号： G01N23/223 , G01N23/20
摘要： 본 발명의 과제는 시료가 탑재되는 기판(기재)의 원소와, 시료에 포함되는 원소가 동일해도, 안정적으로, 미소 부분의 성분 계측이 가능한 미소부 X선 계측 장치를 제공하는 것이다.
X선 발생 장치와, 방출되는 X선을 50㎛ 직경 이하의 단면적에 수렴 조사하는 X선 광학 소자와, 형광 X선을 검출하는 X선 검출기와, 광학상을 촬상 가능한 광학 현미경과 화상 인식 기능을 구비하고, 시료를 2차원에서 이동하여 위치 결정이 가능하고, 또한 높이 방향으로 그 위치 조정이 가능한 시료 상대 이동 기구를 구비하고, 시료의 특정 위치에 있어서의 형광 X선 계측이 가능하고, 또한 기재 상에 놓인 측정 시료로부터의 형광 X선도 계측 가능한 미소부 X선 계측 장치에서는 X선의 조사 위치와 상기 X선 검출기 사이의 형광 X선의 광로를 형광 X선의 감쇠를 억제하는 구조(진공 또는 헬륨 치환)로 하고, 또한 기재 상의 측정 시료가 기재와 동일한 금속 원소를 포함해도, 측정 시료의 동일한 금속 원소의 함유가 판정 가능한 데이터 처리 기능을 구비한 데이� �� 처리부를 구비하고 있다.

3. 发明授权

KR101277379B1 형광 X선 분석 장치 및 방법 有权
标题翻译：荧光X射线分析装置及方法
公开(公告)号：KR101277379B1
公开(公告)日：2013-06-20
申请号：KR1020137002754
申请日：2011-04-21
申请人： 가부시키가이샤 리가쿠
发明人： 기타히로아키 , 고바야시히로시
IPC分类号： G01N23/223
CPC分类号： G01N23/223 , G01N2223/076 , G01N2223/3306 , G01N2223/6116
摘要： 본 발명의 형광 X선 분석 장치는, 결정 구조를 갖는 시료(S)가 적재되는 시료대(8)와, 시료(S)에 1차 X선(2)을 조사하는 X선원(1)과, 시료(S)로부터의 2차 X선(4)을 검출하는 검출 수단(7)과, 시료대(8)를 회전시키는 회전 수단(11)과, 시료대(8)를 평행 이동시키는 평행 이동 수단(12)과, 시료(S)의 회전 각도와 그 각도에서 발생하는 2차 X선(4)의 강도를 대응시켜서 취득한 회절 패턴에 의거하여, 이웃하는 간격이 180° 미만이며, 회절 X선을 회피할 수 있는 회피 각도를 적어도 3개 선택하기 위한 선택 수단(17)과, 시료대(8), 회전 수단(11) 및 평행 이동 수단(12)이 당해 장치의 다른 구조물과 간섭하지 않는 회피 각도로 시료(S)를 설정하도록 회전 수단(11)을 제어하는 제어 수단(15)을 구비한다.

4. 发明公开

KR1020130019030A 형광 X선 분석 장치 및 방법 有权
标题翻译：荧光X射线分析装置和方法
公开(公告)号：KR1020130019030A
公开(公告)日：2013-02-25
申请号：KR1020137002754
申请日：2011-04-21
申请人： 가부시키가이샤 리가쿠
发明人： 기타히로아키 , 고바야시히로시
IPC分类号： G01N23/223
CPC分类号： G01N23/223 , G01N2223/076 , G01N2223/3306 , G01N2223/6116
摘要： 본 발명의 형광 X선 분석 장치는, 결정 구조를 갖는 시료(S)가 적재되는 시료대(8)와, 시료(S)에 1차 X선(2)을 조사하는 X선원(1)과, 시료(S)로부터의 2차 X선(4)을 검출하는 검출 수단(7)과, 시료대(8)를 회전시키는 회전 수단(11)과, 시료대(8)를 평행 이동시키는 평행 이동 수단(12)과, 시료(S)의 회전 각도와 그 각도에서 발생하는 2차 X선(4)의 강도를 대응시켜서 취득한 회절 패턴에 의거하여, 이웃하는 간격이 180° 미만이며, 회절 X선을 회피할 수 있는 회피 각도를 적어도 3개 선택하기 위한 선택 수단(17)과, 시료대(8), 회전 수단(11) 및 평행 이동 수단(12)이 당해 장치의 다른 구조물과 간섭하지 않는 회피 각도로 시료(S)를 설정하도록 회전 수단(11)을 제어하는 제어 수단(15)을 구비한다.
摘要翻译：本发明的荧光X射线分析设备包括：样品台8，其上装载具有晶体结构的样品S; X射线源1，用于向样品S照射主X射线2; 用于检测来自样品S的二次X射线4的检测装置7，用于旋转样品台8的旋转装置11，用于平行移动样品台8的平行移动装置8，基于通过将样本S的旋转角度与在角度处产生的次级X射线4的强度相关联而获取的衍射图案，下面，并且能够避免衍射X射线和至少三个选择的避让角装置17，用于选择，样品台8，旋转装置11，和转换装置12，其他装置的以及控制装置（15），用于控制旋转装置（11）以便将样本（S）设置在不妨碍结构的回避角处。

5. 发明公开

KR1020110087236A 미소부 Ｘ선 계측 장치 有权
标题翻译：微型X射线测量装置
公开(公告)号：KR1020110087236A
公开(公告)日：2011-08-02
申请号：KR1020110007286
申请日：2011-01-25
申请人： 가부시키가이샤 리가쿠
发明人： 나까노아사오 , 이나바가쯔히꼬 , 노노구찌마사히로
IPC分类号： G01N23/223 , G01N23/20
CPC分类号： G01N23/223 , G01N23/083 , G01N2223/076 , G21K1/06 , G21K5/02
摘要： PURPOSE: A microscopic point x-ray detecting apparatus is provided to stability measure the component of microscopic point. CONSTITUTION: A microscopic point x-ray detecting apparatus comprises an X-rays optical element, X-ray detector(3), an optical microscope, a sample transport device. The X-ray detector detects the fluorescence X-rays emitted from the measurement sample. The optical microscope can take a picture of the optical image of X-rays irradiation position. The sample transport device two-dimensionally injects sample for the position determination and controls the position control in a height direction.
摘要翻译：目的：提供微观点x射线检测装置，以稳定度量微观点的成分。构成：微观点x射线检测装置包括X射线光学元件，X射线检测器（3），光学显微镜，样品输送装置。 X射线检测器检测从测量样品发射的荧光X射线。光学显微镜可以拍摄X射线照射位置的光学图像。样品输送装置二维地注入用于位置确定的样品，并控制高度方向的位置控制。

6. 发明授权

KR102144273B1 X선 박막 검사 장치 有权
公开(公告)号：KR102144273B1
公开(公告)日：2020-08-13
申请号：KR1020177012986
申请日：2014-10-14
申请人： 가부시키가이샤 리가쿠
发明人： 오가타기요시 , 오모테가즈히코 , 이토요시야스 , 모토노히로시 , 요시다무네오 , 다카하시히데아키
IPC分类号： G01N23/20 , G01N23/223

7. 发明授权

KR101988538B1 X선 발생 장치 有权
公开(公告)号：KR101988538B1
公开(公告)日：2019-06-12
申请号：KR1020130121249
申请日：2013-10-11
申请人： 가부시키가이샤 리가쿠
发明人： 호바스,마틴 , 마르시크,지리 , 피나,라디슬라프 , 옐리네크,바츨라프 , 오사카,나오히사 , 오모테,카즈히코 , 캄베,마코토 , 장,리차이 , 김,봉례
IPC分类号： H01J35/06 , H01J35/14

8. 发明授权

KR101912907B1 X선 토포그래피 장치 有权
公开(公告)号：KR101912907B1
公开(公告)日：2018-10-29
申请号：KR1020130035372
申请日：2013-04-01
申请人： 가부시키가이샤 리가쿠
发明人： 오모테가즈히코 , 우에지요시노리 , 마츠오류지 , 기쿠치데츠오
IPC分类号： G01N23/207
CPC分类号： G01N23/207 , B82Y10/00 , G21K1/062
摘要： 시료에입사시키는원하는특성 X선을 X선원이방사하는 X선으로부터분리시킴과동시에, 시료에입사하여회절에기여하는그 원하는특성 X선의조사범위를넓게할 수있는 X선토포그래피장치의제공. 소정의특성 X선을포함하는 X선을미소초점으로부터방사하는 X선원; 상기소정의특성 X선에대응하는경사격자면간격의다층막미러를포함함과동시에, 그다층막미러가반사하는 X선을시료에입사시키는광학계; 상기시료로부터발생하는회절 X선을검출하는 X선검출기;를구비하는 X선토포그래피장치로서, 상기다층막미러는단면이포물선이되는만곡반사면을가지고, 상기만곡반사면의초점에상기 X선원의상기미소초점이배치된다.

9. 发明公开

KR1020120027262A Ｘ선 산란 측정장치 및 Ｘ선 산란 측정방법 审中-实审
标题翻译： X射线散射测量装置和X射线散射测量方法
公开(公告)号：KR1020120027262A
公开(公告)日：2012-03-21
申请号：KR1020117027820
申请日：2010-04-14
申请人： 가부시키가이샤 리가쿠
发明人： 오모테,카즈히코 , 버만,보리스 , 지앙,리사이
IPC分类号： G01N23/201
CPC分类号： G21K1/06 , G01N23/201
摘要： 본 발명은, 반사형 소각 산란이나 회절이 이루어진 X선 강도를 고분해능으로 측정할 수 있고, 시료표면의 미세구조를 간편하고도, 또한 정확하게 계측할 수 있는 X선 산란 측정장치 및 X선 산란 측정방법을 제공한다. 시료표면상의 미세구조의 계측에 적합한 X선 산란 측정장치(100)로서, X선을 발생시키는 X선원(140)과, 발생한 X선을 연속하여 반사하는 제1의 미러 및 제2의 미러와, 반사된 X선이 조사되는 시료(S)를 지지하는 시료대(110)와, 시료표면에서 산란된 X선을 검출하는 2차원 검출기(170)를 구비하고, 제1의 미러는, 발생한 X선을, 시료표면에 평행한 면내에서 2차원 검출기(170) 상으로 집광하며, 제2의 미러는, 제1의 미러에 의해 반사된 X선을 시료표면상에 수직인 면내에서 시료표면으로 집광한다.

10. 发明公开

KR1020120007034A 표면미세구조 계측방법, 표면미세구조 계측데이터 해석방법 및 Ｘ선 산란 측정장치 有权
标题翻译：表面微结构测量方法，表面微结构测量数据分析方法和X射线散射测量装置
公开(公告)号：KR1020120007034A
公开(公告)日：2012-01-19
申请号：KR1020117026341
申请日：2010-04-12
申请人： 가부시키가이샤 리가쿠
发明人： 오모테카즈히코 , 이토요시야스
IPC分类号： G01B15/04 , G01B15/08 , G01N23/201 , G01N23/04
CPC分类号： G01B15/04 , G01B15/08 , G01N23/043 , G01N23/201
摘要： 본 발명은, 표면의 미세한 구조를 정확하게 계측할 수 있으며, 3차원적인 구조적 특징을 평가할 수 있는 표면미세구조 계측방법, 표면미세구조 계측프로그램 및 X선 산란강도 측정장치를 제공한다.
표면미세구조 계측방법에서는, 시료표면에 미소한 입사각으로 X선을 조사하여, 산란강도를 측정하고, 표면상의 미세구조에 의해, 표면에 수직인 방향으로 1 또는 복수의 층이 형성되며, 층 내에서 상기 표면에 평행한 방향으로 단위구조체가 주기적으로 배열되어 있는 시료 모델을 가정하며, 층에 의해 생기는 굴절 및 반사의 효과를 고려하여, 미세구조에 의해 산란된 X선의 산란강도를 계산하고, 시료 모델에 의해 산출되는 X선의 산란강도를 측정된 산란강도에 피팅한다. 그리하여, 피팅의 결과, 단위구조체의 형상을 특정하는 파라미터의 최적값을 결정한다. 이것에 의해, 미세한 구조를 정확하게 계측할 수 있다.

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