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1. 发明公开

KR1020030095314A 밀도 불균일 다층막 해석방법, 그 장치 및 시스템 有权
标题翻译：密度不均匀的多层膜分析方法，设备和系统
公开(公告)号：KR1020030095314A
公开(公告)日：2003-12-18
申请号：KR1020030036534
申请日：2003-06-05
申请人： 가부시끼가이샤 리가쿠
发明人： 이토오요시야수 , 오모테카주히코
IPC分类号： G01N23/20
CPC分类号： G01N23/20
摘要： 밀도 불균일 다층막 내의 입자상 물의 분포상태 및 계면상태를 간단하게, 또한, 고정밀도로 해석할 수 있는, 새로운 밀도 불균일 다층막 해석방법을 제공한다.
입자상 물의 분포상태를 나타내는 피팅파라미터에 따라 X선 산란곡선을 나타내는 산란함수를 이용함으로써 실측 X선 산란곡선의 측정조건과 동일 조건으로 시뮬레이트 X선 산란곡선을 산출하는 스텝과, 피팅파라미터를 변경하면서 시뮬레이트 X선 산란곡선과 실측 X선 산란곡선의 피팅을 행하는 스텝을 갖고, 시뮬레이트 X선 산란곡선과 실측X선 산란곡선이 일치하였을 때의 피팅파라미터의 값을 밀도 불균일 다층막 내의 입자상 물의 분포상태로 함으로써 밀도 불균일 다층막 내의 입자상 물의 분포상태를 해석하는 밀도 불균일 다층막 해석방법에 있어서, 산란함수로서, 계면에서의 산란이 없는 다층막의 엄밀해를 시작상태 및 종료상태로 한 천이확률을 도입한 함수를 이용한다.

2. 发明授权

KR100827392B1 Ｘ선회절장치 失效
标题翻译： X射线衍射装置
公开(公告)号：KR100827392B1
公开(公告)日：2008-05-07
申请号：KR1020040020425
申请日：2004-03-25
申请人： 가부시끼가이샤 리가쿠
发明人： 오모떼가즈히꼬
IPC分类号： G01N23/207
CPC分类号： G01N23/20 , G21K1/06
摘要： 본 발명은 인 플레인(in-plane) 회절측정이 가능한 X선회절장치에 관한 것이다. 본 발명은 입사광학계(22), 시료지지기구(24), 수광광학계(26), 그리고 수광광학계회전수단(30)을 구비하고 있고, 전기 입사광학계(22)로부터 출사한 X선이, 전기 시료지지기구(24)에 지지된 시료(60)에 입사하여, 이 시료(60)에서 회절한 X선이 전기 수광광학계(26)에서 검출되도록 된다. 입사광학계는 X선원(66)과 다층막미러(76)를 구비하고 있다. 시료지지기구의 자세제어수단(36,40)은, 시료의 법선(61)이 제1의 회전중심선(32)에 평행하도록 시료를 제1의 자세로 유지하는 상태와, 수직하게 되도록 제2의 자세로 유지하는 상태를 바꾼다. 시료를 제1의 자세로 유지하여 수광광학계를 제1의 회전중심선의 주위에 회전시키면, 인플레인 회절측정이 가능하게 된다. 한편, 시료를 제2의 자세로 유지하여 수광광학계를 마찬가지로 회전시키면, 아웃 오브 플레인 회절측정이 가능하게 된다.
X선회절장치, 입사광학계, 시료지지기구, 수광광학계, 시료, 인플레인

3. 发明授权

KR101237670B1 이온화 장치 有权
标题翻译：离子装置
公开(公告)号：KR101237670B1
公开(公告)日：2013-02-26
申请号：KR1020087016444
申请日：2007-03-16
申请人： 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤 , 가부시끼가이샤 리가쿠
发明人： 마츠우라시게키 , 타카타요시히로 , 아리이타다시 , 오타케사토시
IPC分类号： H01J49/14 , G01N27/62 , G01N27/64 , H01J49/06
CPC分类号： G01N27/64 , H01J27/24 , H01J49/107 , H01J49/147 , H01J49/162
摘要： 이온화 장치(2)는 시료 분자 A를 이온화하기 위한 이온화 공간(2b)을 가지는 이온화실(2a)과, 이온화 공간(2b) 내의 시료 분자 A에 전자 충격을 주어 시료 분자 A를 이온화하기 위한 필라멘트(23a, 23b)와, 이온화 공간(2b) 내의 시료 분자 A에 자외광을 조사하여 시료 분자 A를 이온화하기 위한 방전관(29)을 구비한다.
이온화 장치, 전자, 충격, 필라멘트, 방전관

4. 发明公开

KR1020040084849A Ｘ선회절장치 失效
标题翻译：用于测量X射线平面内衍射的X射线衍射装置
公开(公告)号：KR1020040084849A
公开(公告)日：2004-10-06
申请号：KR1020040020425
申请日：2004-03-25
申请人： 가부시끼가이샤 리가쿠
发明人： 오모떼가즈히꼬
IPC分类号： G01N23/207
CPC分类号： G01N23/20 , G21K1/06 , G01N15/0211 , G21K1/067
摘要： PURPOSE: An X-ray diffraction device is provided to perform in-plane diffraction measurement by rotating a light receiving optical system around a first rotational center line while the normal of a sample is vertical to the first rotational center line. CONSTITUTION: An X-ray diffraction device comprises an incident optical system(22), a sample support mechanism(24), a light receiving optical system(26), and a light receiving optical system rotating unit(30). The X-ray emitted from the incident optical system is incident to a sample(60) supported on the sample support mechanism and diffracted in the sample. The diffracted X-ray is detected by the light receiving optical system. The incident optical system has an X-ray source(66) and a multi-layer mirror. Stance control units(36,40) of the sample support mechanism maintain the normal of the sample parallel to a first rotational center line(32) and vertical to the first rotational center line.
摘要翻译：目的：提供一种X射线衍射装置，用于通过围绕第一旋转中心线旋转受光光学系统，同时样品的法线垂直于第一旋转中心线进行面内衍射测量。构成：X射线衍射装置包括入射光学系统（22），样品支撑机构（24），光接收光学系统（26）和光接收光学系统旋转单元（30）。从入射光学系统发射的X射线入射到支撑在样品支撑机构上并在样品中衍射的样品（60）。衍射X射线被光接收光学系统检测。入射光学系统具有X射线源（66）和多层反射镜。样品支撑机构的姿态控制单元（36,40）使得样品的法线平行于第一旋转中心线（32）并垂直于第一旋转中心线。

5. 发明公开

KR1020040020915A 밀도불균일 시료 해석방법, 그 장치 및 시스템 无效
标题翻译：密度不均匀的样本分析方法，装置和系统
公开(公告)号：KR1020040020915A
公开(公告)日：2004-03-09
申请号：KR1020037015865
申请日：2002-06-17
申请人： 가부시끼가이샤 리가쿠
发明人： 오모테카즈히코
IPC分类号： G01N23/20
CPC分类号： G01N23/20 , G01N23/201 , G01N23/203
摘要： 밀도불균일 시료 내의 입자형상물의 분포상태를 해석하는 밀도불균일 시료 해석방법에 있어서, 실측 X선 산란곡선이 면내 회절측정에 의한 면내 X선 산란곡선이고, 그 면내 X선 산란곡선과 시뮬레이트 X선 산란곡선의 피팅을 행하여, 시뮬레이트 X선 산란곡선과 면내 X선 산란곡선이 일치하였을 때의 피팅 파라미터의 값을 밀도불균일 시료 내의 입자형상물의 면내방향의 분포상태로 함으로써, 이방성이 있는 밀도불균일 시료 내에 있어서의 입자형상물의 면내방향의 분포상태를 간이하고 또한 고정밀도로 해석할 수 있는, 밀도불균일 시료 해석방법, 장치 및 시스템을 제공한다.

6. 发明授权

KR100879729B1 밀도 불균일 다층막 해석방법, 그 장치 및 시스템 有权
标题翻译：多层膜的密度分析方法，装置及其系统
公开(公告)号：KR100879729B1
公开(公告)日：2009-01-22
申请号：KR1020030036534
申请日：2003-06-05
申请人： 가부시끼가이샤 리가쿠
发明人： 이토오요시야수 , 오모테카주히코
IPC分类号： G01N23/20
CPC分类号： G01N23/20
摘要： 밀도 불균일 다층막 내의 입자상 물질의 분포상태 및 계면상태를 간단하게, 또한, 고정밀도로 해석할 수 있는, 새로운 밀도 불균일 다층막 해석방법을 제공한다.
입자상 물질의 분포상태를 나타내는 피팅파라미터에 따라 X선 산란곡선을 나타내는 산란함수를 이용함으로써 실측 X선 산란곡선의 측정조건과 동일 조건으로 시뮬레이트 X선 산란곡선을 산출하는 스텝과, 피팅파라미터를 변경하면서 시뮬레이트 X선 산란곡선과 실측 X선 산란곡선의 피팅을 행하는 스텝을 갖고, 시뮬레이트 X선 산란곡선과 실측X선 산란곡선이 일치하였을 때의 피팅파라미터의 값을 밀도 불균일 다층막 내의 입자상 물질의 분포상태로 함으로써 밀도 불균일 다층막 내의 입자상 물질의 분포상태를 해석하는 밀도 불균일 다층막 해석방법에 있어서, 산란함수로서, 계면에서의 산란이 없는 다층막의 엄밀해를 시작상태 및 종료상태로 한 천이확률을 도입한 함수를 이용한다.

7. 发明公开

KR1020080103959A 이온화 장치 有权
标题翻译：离子装置
公开(公告)号：KR1020080103959A
公开(公告)日：2008-11-28
申请号：KR1020087016444
申请日：2007-03-16
申请人： 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤 , 가부시끼가이샤 리가쿠
发明人： 마츠우라시게키 , 타카타요시히로 , 아리이타다시 , 오타케사토시
IPC分类号： H01J49/14 , G01N27/62 , G01N27/64 , H01J49/06
CPC分类号： G01N27/64 , H01J27/24 , H01J49/107 , H01J49/147 , H01J49/162
摘要： An ionizing device (2) is provided with an ionizing chamber (2a) having an ionizing space (2b) for ionizing a sample molecule (A); filaments (23a, 23b) for ionizing the sample molecule (A) by applying electron impact on the sample molecule (A) in the ionizing space (2b); and a discharge pipe (29) for ionizing the sample molecule (A) by irradiating the sample molecule (A) in the ionizing space (2b) with ultraviolet light.
摘要翻译：电离装置（2）具有电离室（2a），电离室（2a）具有电离空间（2b），用于离子化样品分子（A）; 用于通过对电离空间（2b）中的样品分子（A）施加电子轰击来使样品分子（A）离子化的细丝（23a，23b）以及通过用紫外线照射电离空间（2b）中的样品分子（A）而使样品分子（A）离子化的排出管（29）。

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