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81. 发明公开

KR1020090127997A 저식각율 에천트 및 이를 이용한 표시 기판의 제조 방법 无效
标题翻译：具有低蚀刻速率的蚀刻剂及使用其制造显示基板的方法
公开(公告)号：KR1020090127997A
公开(公告)日：2009-12-15
申请号：KR1020080053964
申请日：2008-06-10
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 동우 화인켐 주식회사
发明人： 이병진 , 박홍식 , 정종현 , 홍선영 , 김봉균 , 최영주 , 이지선 , 서남석 , 김기섭 , 이승용 , 이준우 , 박영철 , 진영준 , 양승재 , 이현규 , 장상훈 , 임민기
IPC分类号： C09K13/06
摘要： PURPOSE: An etchant with low etch rate is provided to remove a factor obstructing the evaporation of a post film in advance and to also remove impurities caused by contacting oxygen with the surface of a buffer layer, a gate metal layer and/or data metal layer. CONSTITUTION: An etchant with low etch rate comprises hydrogen peroxide (H2O2) 1-10 weight% etching a metal layer and/or metal oxide layer; additives 1-10 weight% controlling the reaction with hydrogen peroxide; and solvent 80-95 weight%. The additives comprises at least one compound selected from the group consisting of persulfate-based compound and an azole-based compound'.
摘要翻译：目的：提供具有低蚀刻速率的蚀刻剂，以预先阻止后膜的蒸发的因素，并且还除去由氧与缓冲层，栅极金属层和/或数据金属层的表面接触引起的杂质。构成：具有低蚀刻速率的蚀刻剂包括1-10重量％的过氧化氢（H 2 O 2）蚀刻金属层和/或金属氧化物层; 添加剂1-10重量％控制与过氧化氢的反应; 和80-95重量％的溶剂。添加剂包括至少一种选自过硫酸盐基化合物和唑类化合物的化合物。

82. 发明公开

KR1020090081566A 은 박막의 식각액 조성물 및 이를 이용한 금속 패턴형성방법 无效
标题翻译：用于AG薄层的蚀刻组合物和使用其制造金属图案的方法
公开(公告)号：KR1020090081566A
公开(公告)日：2009-07-29
申请号：KR1020080007506
申请日：2008-01-24
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 장상훈 , 이현규
IPC分类号： C23F1/10
CPC分类号： C23F1/40 , C02F1/02 , C09K13/00 , G03F1/00 , G03F7/00 , H01L21/306
摘要： An etchant composite of a silver thin film and a metal pattern forming method using the same are provided to implement high definition, large-size, and low-power consumption of a flat panel display and prevent residue from being generated by uniformly etching a substrate. An etchant composite of a silver thin film comprises hydrogen peroxide 1~20 weight%, pH adjusting agent 0.1~4 weight%, chelating agent 0.1~5 weight%, ring type aminocompound 0.01~3 weight% and water 72~98.79 weight%. The etchant composite of the multi-layered film consists of a single layer of the silver or the silver alloy and an indium oxide film. The pH adjusting agent is one or more kinds among ammonium salt, sodium salt, and potassium salt. The chelating agent is one or more kinds among acetic acid, glycolic acid, citric acid, oxalic acid, and malonic acid.
摘要翻译：提供银薄膜的蚀刻复合物和使用其的金属图案形成方法，以实现平板显示器的高清晰度，大尺寸和低功耗，并且通过均匀蚀刻基板来防止残留物产生。银薄膜的蚀刻剂复合物包含过氧化氢1〜20重量％，pH调节剂0.1〜4重量％，螯合剂0.1〜5重量％，环型氨基化合物0.01〜3重量％，水72〜98.79重量％。多层膜的蚀刻剂复合物由单层银或银合金和氧化铟膜构成。 pH调节剂是铵盐，钠盐和钾盐中的一种或多种。螯合剂是乙酸，乙醇酸，柠檬酸，草酸和丙二酸中的一种或多种。

83. 发明公开

KR1020090008892A 식각액 조성물 및 이를 이용한 금속 패턴 형성방법 有权
标题翻译：用于制作金属图案的蚀刻组合物和方法
公开(公告)号：KR1020090008892A
公开(公告)日：2009-01-22
申请号：KR1020070072232
申请日：2007-07-19
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 박영철 , 이석준 , 양승재 , 장상훈 , 이현규
IPC分类号： C09K13/04 , C09K13/08
摘要： A wet etchant composition and a method for forming metal pattern are provided to secure the stability of the solution and to ensure uniform etch property, application to a substrate of large size and the etch property without the damage to equipment. A wet etchant composition comprises at least one 0.1-7 weight% selected from the group consisting of nitric acid, sulfuric acid and their mixture; oxone 0.5-20 weight%; a perfluorinated compound 0.1-1 weight%; a heterocyclic amine compound 0.1-1 weight%; and the residual amount of water.
摘要翻译：提供湿蚀刻剂组合物和形成金属图案的方法以确保溶液的稳定性并确保均匀的蚀刻性能，应用于大尺寸的基材和蚀刻性能而不损坏设备。湿蚀刻剂组合物包含至少一种0.1-7重量％的选自硝酸，硫酸及其混合物; 丁酮0.5-20重量％; 全氟化合物0.1-1重量％; 0.1-1重量％的杂环胺化合物; 和剩余量的水。

84. 发明授权

KR101960342B1 식각액 조성물, 이를 이용한 배선 형성 방법 및 어레이 기판의 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR101960342B1
公开(公告)日：2019-03-21
申请号：KR1020130021964
申请日：2013-02-28
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 김진성 , 이은원 , 이현규
IPC分类号： C23F1/18 , C09K13/00 , G02F1/1362

85. 发明授权

KR101941289B1 액정표시장치용 어레이 기판의 제조방법 有权
公开(公告)号：KR101941289B1
公开(公告)日：2019-01-24
申请号：KR1020120080757
申请日：2012-07-24
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 이현규 , 김진성 , 이석
IPC分类号： G02F1/1368 , H01L29/786 , C09K13/00

86. 发明授权

KR101897273B1 식각액 조성물 및 방법 有权
公开(公告)号：KR101897273B1
公开(公告)日：2018-09-11
申请号：KR1020100030308
申请日：2010-04-02
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 이승용 , 이준우 , 박영철 , 이유진 , 장상훈 , 이현규
IPC分类号： C09K13/06
CPC分类号： C23F1/18 , C23F1/02 , C23F1/26 , C23F1/44 , H01L21/32134 , H05K3/067 , H05K3/388
摘要： 본발명은 (A) 약 0.025중량% 내지약 0.8중량%의활성산소를제공하는고강도포타슘모노퍼설페이트(potassium monopersulfate); (B) 조성물의약 0.01중량% 내지약 30중량%의 (B1) 유기산, 유기산의알칼리금속염, 유기산의암모늄염, 또는유기산의호모폴리머, 또는 (B2) 포스포늄, 테트라졸륨, 또는벤졸륨의할로겐염또는질산염, 또는 (B3) (B1) 및 (B2) 구성성분의혼합물; 및 (C) 조성물의 0중량% 초과내지약 97.49중량%의물 을포함하는식각액조성물; 및상기조성물을사용하는기판의식각방법을제공한다.

87. 发明授权

KR101845084B1 액정 표시장치용 어레이 기판 제조방법 有权
标题翻译：液晶显示器阵列基板的制造方法
公开(公告)号：KR101845084B1
公开(公告)日：2018-04-04
申请号：KR1020100126322
申请日：2010-12-10
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 이현규 , 이석 , 이우람 , 최용석
IPC分类号： G02F1/136 , G02F1/1368 , G02F1/1362 , G02F1/1333
摘要： 본발명은 a)기판상에게이트배선을형성하는단계; b)상기게이트배선을포함한기판상에게이트절연층을형성하는단계; c)상기게이트절연층상에반도체층을형성하는단계; d)상기반도체층상에소스및 드레인전극을형성하는단계; 및 e)상기드레인전극에연결된화소전극을형성하는단계를포함하는액정표시장치용어레이기판의제조방법에있어서, 상기 a)단계는기판상에구리계금속막을형성하고상기구리계금속막을식각액조성물로식각하여게이트배선을형성하는단계를포함하고, 상기 d)단계는반도체층상에구리계금속막을형성하고상기구리계금속막을식각액조성물로식각하여소스및 드레인전극을형성하는단계를포함하며, 상기식각액조성물은, 조성물총 중량에대하여 A)과산화수소(HO), B)함불소화합물, C)아졸계화합물, D)포스폰산유도체및 그의염으로부터선택되는 1종이상의화합물, E)구리(Ⅱ)염화합물및 F)잔량의물을포함하는것을특징으로하는액정표시장치용어레이기판의제조방법에관한것이다.
摘要翻译：本发明提供了一种制造半导体器件的方法，包括：a）在衬底上形成栅极布线; b）在包括栅极布线的基板上形成栅极绝缘层; c）在栅极绝缘层上形成半导体层; d）在半导体层上形成源电极和漏电极; 并且形成连接到所述漏电极的像素电极，其中，所述步骤a）包括在所述衬底上形成铜基金属膜并且在所述蚀刻剂组合物上形成所述铜基金属膜并且通过在半导体层上蚀刻铜基金属膜并且用蚀刻剂组合物蚀刻铜基金属膜以形成源极和漏极来形成栅极布线，其中蚀刻剂组合物包含选自以下的至少一种化合物：A）过氧化氢（HO），B）氟化合物，C）吡咯化合物，D）膦酸衍生物及其盐，E）盐化合物，和F）残余量的水。

88. 发明授权

KR101674681B1 액정표시장치용 어레이 기판의 제조방법 有权
公开(公告)号：KR101674681B1
公开(公告)日：2016-11-10
申请号：KR1020090089502
申请日：2009-09-22
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 이석 , 윤영진 , 이현규
IPC分类号： G02F1/136 , H01L29/786
摘要： 본발명은 a)기판상에게이트배선을형성하는단계; b)상기게이트배선을포함한기판상에게이트절연층을형성하는단계; c)상기게이트절연층상에반도체층을형성하는단계; d)상기반도체층상에소스및 드레인전극을형성하는단계; 및 e)상기드레인전극에연결된화소전극을형성하는단계를포함하는액정표시장치용어레이기판의제조방법에있어서, 상기 a)단계는기판상에구리계금속막을형성하고상기구리계금속막을식각액조성물로식각하여게이트배선을형성하는단계를포함하고, 상기 d)단계는반도체층상에구리계금속막을형성하고상기구리계금속막을식각액조성물로식각하여소스및 드레인전극을형성하는단계를포함하며, 상기식각액조성물은, 조성물총 중량에대하여, A)과산화수소(HO) 0.1 내지 25 중량%, B)과황산염 1 내지 20 중량%, C)수용성시클릭아민화합물 0.1 내지 5 중량% 및 D)잔량의물을포함하는것을특징으로하는액정표시장치용어레이기판의제조방법에관한것이다.

89. 发明公开

KR1020160114360A 구리계 금속막 식각액 조성물 및 이를 이용한 액정 표시 장치용 어레이 기판의 제조방법 审中-实审
标题翻译：使用铜基金属膜蚀刻剂组合物和用于制造用于液晶显示器的阵列基板的方法
公开(公告)号：KR1020160114360A
公开(公告)日：2016-10-05
申请号：KR1020150040751
申请日：2015-03-24
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 이현규 , 김련탁 , 양규형 , 정성민
IPC分类号： C09K13/00 , C23F1/18 , H01L21/306 , G02F1/1333
摘要： 본발명은조성물총 중량에대하여, (a) 과산화수소 10 내지 25 중량%, (b) 구연산 1 내지 10 중량%, (c) 아졸화합물 0.05 내지 2 중량%, (d) 유기산화합물 0.1 내지 5 중량%, (e) 술폰산화합물 0.1 내지 2 중량%, (f) 다가알코올계면활성제 1 내지 5 중량%, 및잔량의물을포함하는구리계금속막식각액조성물, 이를이용한식각방법및 액정표시장치용어레이기판의제조방법에관한것이다.
摘要翻译：（A）唑类化合物0.05〜2重量％，（d）有机酸化合物0.1〜5重量％，（b）过氧化氢10〜25重量％（e）0.1〜2重量％的磺酸化合物，（f）1〜5重量％的多元醇表面活性剂和剩余量的水;蚀刻方法及使用其的液晶显示装置; 及其制造方法。

90. 发明公开

KR1020160112471A 식각액 조성물 및 액정표시장치용 어레이 기판의 제조방법 审中-实审
标题翻译：液晶显示器阵列的组成和制造方法
公开(公告)号：KR1020160112471A
公开(公告)日：2016-09-28
申请号：KR1020150038246
申请日：2015-03-19
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 정성민 , 양규형 , 이현규
IPC分类号： C09K13/08 , C23F1/18 , H01L21/306
CPC分类号： C09K13/08 , C23F1/18 , H01L21/30604
摘要： 본발명은식각액조성물및 액정표시장치용어레이기판의제조방법에관한것이다.
摘要翻译：本发明涉及具有增加铜的容量的蚀刻剂组合物以及用于液晶显示装置的阵列基板的制造方法。蚀刻剂组合物包含：5〜25重量％的过氧化氢; 0.01〜3.0重量％的含氟化合物; 0.1〜3.0重量％的唑类化合物; 0.5〜5.0重量％的有机磺酸; 1.0〜3.0重量％的螯合剂; 1.0〜3.0重量％的过氧化氢稳定剂; 和剩余的水，相对于组合物的总重量百分比。

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