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51. 发明授权

KR100088596B1 금속화합물 피막의 제조방법 失效
公开(公告)号：KR100088596B1
公开(公告)日：1995-08-31
申请号：KR1019920025737
申请日：1992-12-28
申请人： 주식회사 포스코 , 재단법인 포항산업과학연구원
发明人： 정재인 , 이영백 , 문종호
IPC分类号： C23C14/46

52. 发明授权

KR100083904B1 스테인레스강의 내부식성 개선방법 失效
公开(公告)号：KR100083904B1
公开(公告)日：1995-04-11
申请号：KR1019920008959
申请日：1992-05-27
申请人： 산요덴키가부시키가이샤
发明人： 후꾸시마마꼬도 , 다끼자와기꾸오
IPC分类号： C23C14/46

53. 发明授权

KR100052162B1 무 개스 아아크 방전 이온 플레이팅 방법 및 그 장치 失效
标题翻译：无气体放电离子镀法和装置
公开(公告)号：KR100052162B1
公开(公告)日：1992-06-10
申请号：KR1019890020398
申请日：1989-12-30
申请人： 주식회사 포스코 , 재단법인 포항산업과학연구원
发明人： 정재인 , 홍재화 , 정창영 , 이영백
IPC分类号： C23C14/46

54. 发明公开

KR1019910012326A 무 개스 아아크 방전 이온 플레이팅 방법 및 그 장치 失效
公开(公告)号：KR1019910012326A
公开(公告)日：1991-08-07
申请号：KR1019890020398
申请日：1989-12-30
申请人： 주식회사 포스코 , 재단법인 포항산업과학연구원
发明人： 정재인 , 홍재화 , 정창영 , 이영백
IPC分类号： C23C14/46
摘要： 내용 없음

55. 发明授权

KR102155834B1 높은 종횡비 구조 분석 有权
公开(公告)号：KR102155834B1
公开(公告)日：2020-09-14
申请号：KR1020157008578
申请日：2013-10-04
申请人： 에프이아이 컴파니
发明人： 이상훈 , 스톤스테이시 , 블랙우드제프리 , 슈미트마이클
IPC分类号： H01J37/28 , H01J37/305 , H01J37/317 , G01N1/32 , C23C14/46

56. 发明公开

KR1020170114020A 미세홀을 갖는 기판의 금속 증착 방법 审中-实审
标题翻译：具有细孔的基板的金属沉积方法
公开(公告)号：KR1020170114020A
公开(公告)日：2017-10-13
申请号：KR1020160039194
申请日：2016-03-31
申请人： 주식회사 인포비온
发明人： 김용환 , 남상훈
IPC分类号： C23C14/34 , C23C14/35 , C23C14/46
摘要： 본발명은서브마이크로미터 ~ 수백마이크로미터사이즈의미세홀을갖는기판에대한금속증착방법에관한것이다. 상기금속증착방법은, (a) 스퍼터링챔버내에서, 스퍼터에전원을인가하여금속타겟을 1차스퍼터링하여상기기판의상부면과미세홀에금속을증착시키는단계; 및 (b) 상기기판으로전기적바이어스를인가하고, 인가된바이어스에의하여저밀도플라즈마를생성하고, 상기저밀도플라즈마를이용하여상기기판으로 2차스퍼터링하는단계;를구비하여, 상기 (a) 단계의 1차스퍼터링에의해상기기판의미세홀의내벽에불균일하게증착된금속물질이상기 (b) 단계의 2차스퍼터링에의해기판의미세홀의내벽에균일하게도포되도록한다. 상기 (b) 단계에서상기고출력임펄스마그네트론스퍼터제너레이터(High Power Impulse Magnetron Sputter Generator)를이용하여기판으로전기적바이어스를인가하는것이바람직하다.
摘要翻译：本发明涉及一种用于具有亚微米到几百微米尺寸的微孔的基板的金属沉积方法。（A）通过在所述溅射室中对所述溅射物施加功率来溅射所述金属靶，从而在所述基板的上表面和所述细孔上沉积金属; （b）施加电偏压到衬底上，利用施加的偏压产生低密度等离子体，然后用低密度等离子体溅射衬底，其中步骤（a）在步骤（b）中通过溅射在衬底的细孔内壁上不均匀分散的金属材料的二次溅射使金属材料均匀地沉积在衬底的细孔的内壁上。在步骤（b）中，优选使用高功率脉冲磁控溅射发生器向衬底施加电偏压。

57. 发明公开

KR1020160147699A 희토류 옥사이드의 이온 보조 증착 탑 코트 审中-实审
标题翻译：离子辅助沉积物稀土氧化物的顶层
公开(公告)号：KR1020160147699A
公开(公告)日：2016-12-23
申请号：KR1020167002591
申请日：2015-04-20
申请人： 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
发明人： 선,제니퍼와이. , 카눈고,비라자피. , 피로우즈도르,바히드
IPC分类号： H01J37/32 , C23C14/22 , C23C14/46 , C23C4/134
CPC分类号： C23C14/221 , C23C4/134 , C23C14/08 , C23C14/081 , C23C14/46 , H01J37/32477 , H01J37/32495 , H01J37/32807
摘要： 물품을제조하는방법은에치반응기용챔버부품과같은물품을제공하는것을포함한다. 챔버부품의적어도하나의표면위에제1 보호층을증착시키기위해플라즈마분무증착공정이수행된다. 제1 보호층은대략 50 마이크론초과의두께를가지고, 복수의크랙들및 기공들을포함하는플라즈마내성세라믹이다. 이후, 제1 보호층위에제2 보호층을증착시키기위해이온보조증착(IAD) 공정이수행된다. 제2 보호층은 50 마이크론미만의두께를가지며, 1% 미만의기공률을갖는플라즈마내성희토류옥사이드이다. 제2 보호층은제1 보호층의복수의크랙들및 기공들을시일링한다.
摘要翻译：制造制品的方法包括提供诸如用于蚀刻反应器的室组件的制品。执行等离子体喷涂沉积工艺以在腔室部件的至少一个表面上沉积第一保护层。第一保护层是厚度大于约50微米的耐等离子体陶瓷和多个裂纹和孔隙。然后执行离子辅助沉积（IAD）工艺以在第一保护层上沉积第二保护层。第二保护层是厚度小于50微米，孔隙率小于1％的耐等离子体稀土氧化物。第二保护层密封第一保护层的多个裂缝和孔。

58. 发明授权

KR101563553B1 외장재의 고경도 표면 보호막층 및 그 제조방법 有权
标题翻译：保护膜层的外表面也是高硬度和制造方法
公开(公告)号：KR101563553B1
公开(公告)日：2015-10-27
申请号：KR1020150054389
申请日：2015-04-17
申请人： (주)티에프테크
发明人： 김선일
IPC分类号： C23C28/04 , C23C14/34 , C23C14/46 , B32B37/00
摘要： 본발명은 Glass, PET, PMMAPCABS 및금속류등의외장재표면에무반사및 고경도의특성을나타내는동시에우수한슬립감과지문방지 , 방오기능및 그신뢰성확보에도크게유효한고경도표면보호막층의제조방법에관한것이다. 즉, 본발명은각종외장재(Glass, PET, PMMAPCABS 및금속류하나이상) 표면에플라즈마처리또는이온주입중 어느하나를실시하는전처리공정; 상기전처리된표면위에전자빔을포함한 evaporation장치, 스퍼터링장치, 이온플레이팅장치또는아크증착장치중 선택된어느하나의증착수단을이용하여 Si계열의산(질)탄화물과 Al계열의삼성분계산질화물중 선택된어느하나이상을다단으로증착하여고경도코팅층(100)을얻는고경도코팅공정; 상기고경도코팅층위에지문방지, easy cleaning 및방오기능과함께우수한슬립감까지부여가능한 AF코팅층(110)을얻는 AF코팅공정으로이루어지는것이다.
摘要翻译：本发明涉及一种在外部材料如玻璃，PET，PMMA，PC，ABS，金属等的表面上制造高硬度表面保护膜的方法，其不具有反射性，高硬度，优异的滑动性防指纹功能，防污功能，高可靠性。换句话说，该方法包括：对各种外部材料（来自玻璃，PET，PMMA，PC，ABS和金属的一种或多种）的表面进行等离子体处理或离子注入的预处理过程; 通过使用一种选自包括电子的蒸发装置的沉积装置，在预处理过的表面上多层沉积选自Si基氧（氮）碳化物和Al基三氮氧氮化物中的一种或多种高硬度涂层的方法光束，溅射装置，离子镀装置和电弧沉积装置，以获得高硬度涂层（100）; 以及AF涂层的方法以获得防止指纹的AF涂层（110），允许容易的清洁，并且在高硬度涂层上增加防污功能和优异的滑移率。

59. 发明授权

KR101495424B1 이온 빔 소스 有权
标题翻译：离子束源
公开(公告)号：KR101495424B1
公开(公告)日：2015-02-23
申请号：KR1020130063840
申请日：2013-06-04
申请人： 한국기계연구원
发明人： 이승훈 , 김종국 , 김도근 , 정성훈
IPC分类号： C23C14/32 , C23C14/46
摘要： 이온 빔 소스는 내부 공간을 가지며 상면이 개방되고, 내부에 내부 공간으로 가스를 공급하기 위한 가스 공급홀들을 갖는 몸체와, 몸체의 상면에 구비되며, 내부 공간을 노출하는 개구를 갖는 음극 및 몸체의 내부 공간에 음극과 이격되도록 구비되며, 음극과의 간격을 넓히기 위해 개구와 대응하는 홈을 가지고, 외부로부터 인가되는 전원과 연동하여 음극과 사이에서 전기장을 형성하여 가스를 이온화하는 양극을 포함할 수 있다. 따라서, 이온 빔 소스에서 이온화 가스의 에너지를 저하시킬 수 있다.

60. 发明授权

KR101471257B1 절삭공구용 다층박막과 이를 포함하는 절삭공구 有权
标题翻译：用于切割工具的多层薄层和包含其的切割工具
公开(公告)号：KR101471257B1
公开(公告)日：2014-12-09
申请号：KR1020120155125
申请日：2012-12-27
申请人： 한국야금 주식회사
发明人： 안승수 , 박제훈 , 강재훈 , 이성구 , 안선용
IPC分类号： C23C14/46 , C23C14/06
CPC分类号： C30B29/38 , C23C14/0641 , C23C14/46 , C23C28/042 , C23C28/044 , C23C28/44 , C30B25/105 , C30B29/68 , Y10T428/24942 , Y10T428/24975
摘要： 본발명은수 나노미터 ~ 수십나노미터두께의미세박막이교대로적층된다층박막으로품질편차가적고우수한내마모성을구현할수 있는절삭공구용다층박막에관한것이다.본발명에따른다층박막은, 박층A, 박층B, 박층C 및박층D로이루어진단위다층박막이 2회이상적층된절삭공구용다층박막으로, 상기박층간의탄성계수(k)는, k>k,k>k이거나 k>k,k>k이고, 상기박층간의격자상수(L)는, L,L>L,L이거나 L,L>L,L이며, 상기격자상수(L)의최대값과최소값의차이가 20% 이내인것을특징으로한다.
摘要翻译：本发明提供一种用于切削工具的多层薄膜，其中具有几纳米至几十纳米的厚度的微尺度薄膜交替堆叠，具有较小的质量变化并且能够实现优异的耐磨性。根据本公开的多层薄膜是用于切削工具的多层薄膜，其中分别由薄层A，B，C和D分别形成的单元薄膜不止一次地堆叠，其中弹性模量k 薄层满足kA> kB，kD> kC或kC> kB，kD> kA的关系，薄层的晶格参数L满足LA，LC> LB，LD或LB，LD> LA，LC和a的关系晶格参数L的最大值与最小值的差为20％以下。

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