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    • 52. 发明公开
    • 나노임프린트 리소그래피 접착 층
    • 纳米压印光刻胶层
    • KR1020170131226A
    • 2017-11-29
    • KR1020170059342
    • 2017-05-12
    • 캐논 가부시끼가이샤
    • 완펜리우웨이준스타초위악티모시브라이언
    • C07C69/157H01L21/027C09J4/00C09J7/02
    • B29C35/0805B29C43/203B29L2009/005C08G8/36G03F7/0002G03F7/11C07C69/157C09J4/00C09J7/20H01L21/0274
    • 하기화학식 A-1의화합물. 상기식에서, n은정수이고, R은 C알킬이다. 일부경우에, n은 1 내지 20 또는 5 내지 15의정수이다. R은치환또는비치환될수 있다. 접착제조성물은화학식 A-1의화합물을포함할수 있다. 접착제조성물은가교제, 촉매, 및용매중 적어도하나를포함할수 있다. 임프린트리소그래피스택은기판및 기판에부착된접착층을포함할수 있고, 여기서접착층은화학식 A-1의화합물을포함한다. 임프린트리소그래피기판상에접착층을형성하는방법은임프린트리소그래피기판상에접착제조성물을배치하고접착제조성물을중합시켜기판상에접착층을수득하는것을포함하며, 여기서접착제조성물은, n이정수이고, R이 C알킬인화학식 A-1의화합물을포함한다.
    • 式(A-1)的化合物 在上式中,n是常数并且R是C烷基。 在某些情况下,n是1至20或5至15的数字。 R可以被取代或未被取代。 该粘合剂组合物可以包含式A-1的化合物。 粘合剂组合物可以包括交联剂,催化剂和溶剂中的至少一种。 压印光刻堆叠并且可以包括粘附到所述基板和所述基板,其中所述粘合剂层包含式A-1的化合物的粘合剂层。 形成压印光刻衬底上的粘合剂层的方法,包括将粘合剂组合物放置到所述压印光刻衬底,聚合粘合剂组合物到基底上,其中所述粘合剂组合物中,n李正秀上得到粘合剂层,R为C烷基 Lt; A-1。。。。。。。。。。。。。。。。。
    • 55. 发明公开
    • 도포장치, 도포방법 및 도막을 가진 수지 필름의 제조방법
    • 涂料装置涂料方法和生产具有涂膜的树脂膜的方法
    • KR1020160138945A
    • 2016-12-06
    • KR1020167019788
    • 2014-09-18
    • 도레이 카부시키가이샤
    • 니시모리유타카이노우에히로유키
    • B05C1/08B05D1/28B29C47/00
    • B05C1/0813B05C1/0808B05C1/0834B05D1/28B05D3/0227B05D2252/02B29C47/0021B29L2007/008B29L2009/005
    • 본발명의도포장치는도포액도입구와상부개구부를갖는용기(34) 내에배치된회전가능한도포바(1)와, 도포바(1)의길이방향을따라간헐적으로복수쌍 배치되어도포바(1)를하방으로부터지지하는회전가능한지지체(2a, 2b)와, 적어도지지체(2b)의외주면에근접하는보(37)를갖고, 지지체(2b)의축중심(13b)과보(37)의단부가장자리부이고지지체(2b)로부터가장가까운점(A)을연결하는선을직선(L1)이라고하고, 또한직선(L1)이지지체(2b)의외주면과교차하는점을교점(B)이라고하면, 선분 AB의중점을지나는직선(L1)에직교하는직선(L2)이도포바(1)와교차하지않도록지지체(2b)와보(37)의위치관계를규정하는것이다. 상기구성에의해, 수반류에의한용기내의액면의맥동을억제할수 있고, 또한도포부분에서의기포의말려들어감을방지할수 있다.
    • 该涂布装置包括:可旋转涂布条(1),其设置在具有涂料流体入口和上部开口的容器(34)的内部; 沿着涂布条(1)的纵向方向间歇地布置并从下方支撑涂布条(1)的多对可旋转支撑件(2a,2b) 以及位于至少所述支撑件(2b)的外周附近的堰(37)。 确定支撑件(2b)和堰(37)之间的位置关系,使得如果连接支撑件(2b)的轴心(13b)的线和作为支撑件(2b)的端部边缘的点(A) 将最靠近支撑件(2b)的堰(37)定义为直线(L1),并且如果直线(L1)与支撑件(2b)的外周相交的点被定义为交点 点(B),垂直于直线(L1)并且穿过线段(AB)的中点的直线(L2)不与涂布条(1)相交。 利用这种结构,可以抑制由伴随的流动引起的容器内的液面上的波纹,并且还防止气泡夹带并伴随涂覆部分。