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31. 发明公开

KR1020140052899A 텅스텐 카바이드 코팅된 플라즈마 반응기 챔버의 금속 컴포넌트 및 코팅 방법 审中-实审
标题翻译：等离子体反应器室的碳纳米管涂层金属组分和涂层方法
公开(公告)号：KR1020140052899A
公开(公告)日：2014-05-07
申请号：KR1020130127442
申请日：2013-10-24
申请人： 램 리써치 코포레이션
发明人： 시홍 , 서린 , 컨스존마이클 , 아마디오앤서니 , 아웃카듀안 , 팡얀 , 로네엘렌 , 오닐로버트지. , 딘드사라진더 , 테일러트래비스
IPC分类号： H01L21/205 , H01L21/3065
CPC分类号： C23C16/32 , C23C16/4404 , C23C18/165 , C23C18/1689 , C23C18/32 , C23C28/322 , C23C28/341 , C25D5/36 , C25D17/001 , Y10T428/12472 , Y10T428/12576 , Y10T428/31678
摘要： A tungsten carbide coated chamber component of semiconductor processing equipment includes a metal surface, an optional intermediate nickel coating, and an outer tungsten carbide coating. The component is manufactured by optionally depositing the nickel coating on the metal surface of the component and depositing the tungsten carbide coating on the metal surface or nickel coating to form an outermost surface.
摘要翻译：半导体加工设备的碳化钨涂层室组件包括金属表面，可选的中间镍涂层和外碳化钨涂层。该组件通过任选地将镍涂层沉积在组件的金属表面上并将碳化钨涂层沉积在金属表面或镍涂层上以形成最外表面来制造。

32. 发明授权

KR101127780B1 전극 트랜스포터 및 그를 포함한 구조체 세트들 有权
标题翻译：电极运输机和固定装置
公开(公告)号：KR101127780B1
公开(公告)日：2012-04-13
申请号：KR1020090051468
申请日：2009-06-10
申请人： 램 리써치 코포레이션
发明人： 아보얀아멘 , 시홍 , 아웃카듀안
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/302
CPC分类号： C25D17/005 , C25D17/06 , Y10T29/53961
摘要： 트랜스포터 프레임, 복수의 천이 지지 엘리먼트들, 및 복수의 이면 지지 엘리먼트들을 포함하는 전극 트랜스포터가 제공된다. 이면 지지 엘리먼트들은, 천이 지지 엘리먼트들 및 이면 지지 엘리먼트들에 의해 정의되는 전극 수용 공간에 위치된 전극의 주면 (major face) 에 수직인 중력 벡터에 따라 전극을 고정하도록 구성된다. 천이 지지 엘리먼트들은, 중력 벡터와 반대방향인 대향력 (opposing force) 벡터를 따라 전극이 더 고정되는 고정 상태와 전극이 대향력 벡터를 따라 상대적으로 이동가능한 비고정 상태 사이에서 천이하도록 구성된다. 추가적인 실시형태들은, 트랜스포터 트라이포드 (tripod) 의 사용 및 트랜스포터 프레임으로부터 전극을 제거하기 위한 전극 제거 퍽 (puck) 및 리프팅 포크 (lifting fork) 의 사용에 관한 것이다.
전극 트랜스포터, 지지 엘리먼트

33. 发明公开

KR1020110105772A 실리콘 전극 연마를 용이하게 하는 플래튼 및 어댑터 어셈블리 有权
标题翻译：用于促进硅电极抛光的板和适配器组件
公开(公告)号：KR1020110105772A
公开(公告)日：2011-09-27
申请号：KR1020117013443
申请日：2009-12-10
申请人： 램 리써치 코포레이션
发明人： 아보얀아멘 , 아웃카듀안 , 주캐서린 , 시홍
IPC分类号： H01L21/304 , B24B19/00 , B24B49/00 , B24B21/00
CPC分类号： B24B41/06 , B08B3/08 , B08B3/12 , C11D7/08 , C11D7/261 , C11D7/265 , C11D11/0047
摘要： 연마 턴테이블 및 이중 기능 전극 플래튼을 사용하여 실리콘 전극을 연마하는 프로세스가 제공된다. 이중 기능 전극 플래튼은 연마 턴테이블에 고정되고 이중 기능 전극 플래튼의 전극 결합 면으로부터 돌출되게 배열되고 복수의 전극 마운트들(mounts)을 포함한다. 전극 마운트들은 연마될 실리콘 전극의 플래튼 결합 면에 형성된 마운트 리셉터클들의 각각의 위치들을 보완한다. 전극 마운트들 및 마운트 리셉터클들은 전극 플래튼의 전극 결합 면 및 실리콘 전극의 플래튼 결합 면의 비파괴적인 결합 및 분해를 허용하도록 구성된다. 이중 기능 전극 플래튼은 전극 마운트들의 내부에 반경 방향으로 위치한 플래튼 어댑터 어버트먼트들(abutments)을 더 포함한다. 플래튼 어댑터 어버트먼트들은 플래튼 어댑터가 회전 연마 축에 근사적으로 배열되게 구성된다. 실리콘 전극은 (ⅰ) 전극 마운트들 및 마운트 리셉터클들을 통해 전극 플래튼의 전극 결합 면 및 실리콘 전극의 플래튼 결합 면을 결합, (ⅱ) 결합된 실리콘 전극에 회전 동작을 부여하는 연마 턴테이블을 이용, 및 (ⅲ) 실리콘 전극이 회전 연마 축에 대해 회전함에 따라 연마 면과 실리콘 전극의 노출면을 접촉함으로써 연마된다. 추가적인 실시예들도 고려되고, 개시되고 주장된다.
摘要翻译：提供一种清洁硅电极的方法，其中硅电极浸泡在搅拌的含水洗涤剂溶液中，并且在从洗涤剂水溶液中除去之后用水漂洗。然后将冲洗的硅电极浸泡在搅拌的异丙醇（IPA）溶液中并漂洗。然后在从IPA溶液中除去之后，将硅电极进行超声波清洗操作。然后通过将硅电极浸入包含氢氟酸，硝酸，乙酸和水的搅拌的混合酸溶液中从硅电极中除去污染物。在从混合酸溶液中除去之后，对硅电极进行附加的超声波清洗操作，随后漂洗并干燥。在本公开的其它实施例中，预期硅电极可以浸泡在搅拌的含水洗涤剂溶液，搅拌的异丙醇（IPA）溶液中或两者中。额外的实施例被设想，公开和要求保护。

34. 发明公开

KR1020110097828A 실리콘 전극 세척용 이머시브 산화 및 에칭 프로세스 有权
标题翻译：用于清洁硅电极的强力氧化和蚀刻工艺
公开(公告)号：KR1020110097828A
公开(公告)日：2011-08-31
申请号：KR1020117013444
申请日：2009-12-10
申请人： 램 리써치 코포레이션
发明人： 주캐서린 , 아웃카듀안 , 아보얀아멘 , 시홍
IPC分类号： H05H1/34 , H05H1/42 , H01L21/3065
CPC分类号： B24B41/06 , B08B3/08 , B08B3/12 , C11D7/08 , C11D7/261 , C11D7/265 , C11D11/0047 , H05H1/34 , C23G1/02 , H01L21/3065 , H05H1/42
摘要： 실리콘 전극 세정 프로세스는 실리콘 전극이 수성 세제 용액에 담궈지고 수성 세제 용액으로부터 제거된 다음에 물에 헹궈진다. 헹궈진 실리콘 전극은 그 다음에 교반 이소프로필 알코올(IPA) 용액에 담궈지고 헹궈진다. 실리콘 전극은 그 다음에 IPA 용액으로부터 제거한 다음에 수중에서 초음파 세정 공정을 행한다. 그 다음에 오염 물질들이 실리콘 전극으로부터 플루오르화수소산, 질산, 아세트산, 및 물을 포함하는 교반 혼합 산성 용액 내에 실리콘 전극을 담금으로써 제거된다. 실리콘 전극은 혼합 산성 용액으로부터 제거된 이후에 추가적인 초음파 세척 공정을 행하고, 다음에 헹굼 및 건조된다. 본 발명의 다른 실시예들에서, 실리콘 전극이 교반 수성 세제 용액, 교반 이소프로필 알코올(IPA) 용액 중 어느 하나, 또는 양쪽에 담궈질 수 있는 것이 고려된다. 추가적인 실시예들이 고려되고, 개시되고, 주장된다.

35. 发明公开

KR1020110028641A 외연 맞물림 전극 캐리어 및 이를 통합한 어셈블리 有权
标题翻译：外围接合电极载体和组装
公开(公告)号：KR1020110028641A
公开(公告)日：2011-03-21
申请号：KR1020117002392
申请日：2009-06-26
申请人： 램 리써치 코포레이션
发明人： 어거스티노제이슨 , 아보얀아멘 , 팡옌 , 아웃카듀안 , 시홍 , 휘튼스티븐
IPC分类号： H05H1/34
CPC分类号： H01J37/32541 , H01J37/32009 , H01J37/32605 , H01L21/67069
摘要： 본 개시물의 일 실시형태에 따르면, 멀티-컴포넌트 전극 및 외연 맞물림 전극 캐리어를 포함하는 어셈블리가 제공된다. 외연 맞물림 전극 캐리어는 캐리어 프레임 및 복수의 왕복 전극 지지부를 포함한다. 멀티-컴포넌트 전극은 캐리어 프레임의 전극 수용 개구에 위치된다. 전극의 백킹 플레이트가 그것의 외연 주위에 형성된 복수의 탑재 리세스를 포함한다. 왕복 전극 지지부는, 탑재 리세스 이내로 및 외부로 왕복될 수 있다. 더 넓고 더 좁은 범위의 추가의 실시형태가 예상된다.

36. 发明公开

KR1020070033419A 플라즈마 프로세싱 챔버용 컴포넌트 쿼츠면을 습식세정하는 방법 无效
标题翻译：用于等离子体处理室的湿法清洁组件石英表面的方法
公开(公告)号：KR1020070033419A
公开(公告)日：2007-03-26
申请号：KR1020077000592
申请日：2005-06-03
申请人： 램 리써치 코포레이션
发明人： 시홍 , 후앙퉈촨 , 아웃카듀안 , 쿠오잭 , 리우선지앙 , 모렐브루노 , 천앤소니
IPC分类号： B08B3/12 , H01L21/304
CPC分类号： C23C16/4407 , H01J37/32862
摘要： 에칭 챔버 및 레지스트 챔버와 같이, 반도체 기판이 프로세싱되는 플라즈마 프로세싱 챔버용 컴포넌트의 쿼츠면을 습식 세정하는 방법은, 쿼츠면으로부터 유기 및 금속 불순물을 제거하기 위해, 쿼츠면을 하나 이상의 유기 용매, 염기성 용액 및 상이한 산성 용액과 접촉시키는 단계를 포함한다. 쿼츠면은 바람직하게는 상기 산성 용액들 중 하나와 2 회 이상 접촉된다.
플라즈마 프로세싱 챔버, 반도체 기판.

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