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    • 22. 发明授权
    • 동피복 선재 제조장치
    • 制造铜覆盖钢丝的方法
    • KR100221703B1
    • 1999-09-15
    • KR1019970012197
    • 1997-04-02
    • 한국기계연구원
    • 권식철김만변웅선이구현김성동
    • H01B13/00
    • [청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야]
      본 발명은 동피복 선재의 제조장치에 관한 것으로, 구리용탕속에 철선재를 통과시켜 철선재 표면에 구리를 피복하는 장치에 관한 것이다.
      [발명의 해결하려고 하는 기술적 과제]
      전기도금방식이나 튜브봉합방식이나 테이프 클래드법 등에서는 높은 생산비, 충분한 신선가공 그리고 복잡한 열처리 등의 문제점이 있음.
      [발명의 해결방법의 요지]
      선재이송장치, 구리용탕 공급장치, 전·후처리 설비의 3부분으로 구성된 본 발명의 동피복 선재 제조장치에 의해서 달성될 수 있음.
      [발명의 중요한 용도]
      연속적인 선재의 제조가 가능하고 생산성이 향상되며 무산소동의 피복이 가능하여 제품의 품질이 향상되며 다양한 제품의 생산과 생산원가를 절감하고 대용량의 신선설비가 필요없으며 공해의 문제를 해결함.
    • 23. 发明授权
    • 세라믹 코팅장치 및 코팅방법
    • 陶瓷涂层设备和涂层方法
    • KR100174150B1
    • 1999-02-18
    • KR1019960021788
    • 1996-06-17
    • 한국기계연구원
    • 백운승권식철이구현
    • B05D1/00
    • 본 발명은 경질 세라믹 코팅층을 얻기 위한 물리중착코팅에 있어서, 일측에 진공튜브(15)가 형성된 진공용기(16)와, 음극으로 연결된 관상형의 타겟(1)이 부착된 절연체(12)가 진공용기(16)의 상단 중앙부에 설치되며, 상기 절연체의 일측에 타겟과 이격되도록 양극(11)이 설치되고, 상기 관상형의 타겟과 관상형의 타겟 내부에 자석지지대(9)가 설치되어 증발원을 구성하며, 상기 자석지지대(9)는 회전 가능토록 모터(13)에 연결되고, 자석지지대와 타겟 사이에 냉각수가 흐르는 공간(10)을 형성하고, 타겟(1) 주위에 이격되어 시편(2)이 설치되도록 시편지지대(3)가 지지대(8)에 설치되며, 상기 지지대(8)는 진공용기(16)하단에 설치되며, 상기 지지대(8)가 회전하면 시편지지대(3)가 자전하도록 치구(6)가 시편지지대(3)의 하부에 설치된 세라믹 코팅장치와, 질화물과 � �화물 등의 경질 세라믹 코팅층을 얻을 수 있는 물리중착방법에 있어서, N열의 자석과 S열의 자석을 교대로 배열하도록 하여 타겟의 표면에서 전자의 이동이 다음으로 넘어가서 원점으로 되돌아오도록 하는 영구자석 배치방법을 취하거나, N열, S열 자석배치에 의해 타원이나 직사각형에 가까운 전자 회전루프를 하나에서 30개까지 만들어 관상형의 타겟안에 설치하여 증발원으로 구성하고, 상기 자석배치를 한 자석지지대를 모타로 회전하여 타겟의 증발을 균일하게 하는 것을 특징으로 하는 코팅방법에 관한 것으로서, 세라믹 코팅장치를 간단하게 할 수 있고, 코팅층의 균일성을 얻을 수 있으며, 타겟의 효율을 증대시킬 수 있는 효과를 갖는다.
    • 24. 发明公开
    • 동피복 선재 제조 방법
    • 铜线材的制造方法
    • KR1019980075839A
    • 1998-11-16
    • KR1019970012199
    • 1997-04-02
    • 한국기계연구원
    • 권식철김만변웅선이구현김성동
    • H01B13/00
    • 1. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야
      본 발명은 동피복 선재의 제조장치에 관한 것으로, 구리용탕 속에 철선재를 통과시켜 철선재 표면에 구리를 피복하는 장치에 관한 것이다.
      2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
      전기도금방식이나 튜브봉합방식이나 테이프 클래드법 등에서는 높은 생산비, 충분한 신선가공 그리고 복잡한 열처리 등의 문제점이 있음.
      3. 발명의 해결방법의 요지
      구리용탕 속에 철선재를 통과시켜 철선재 표면에 구리를 피복하는데 있어, 표면 전처리공정, 철 선재의 예비가열공정, 동피복 공정, 냉각 및 후처리 공정으로 구성된 본 발명에 의해서 해결됨.
      4. 발명의 중요한 용도
      연속적인 선재의 제조가 가능하고 생산성이 향상되며 무산소동의 피복이 가능하여 제품의 품질이 향상되며 다양한 제품의 생산과 생산원가를 절감하고 대용량의 신선설비가 필요없으며 공해의 문제를 해결함.
    • 25. 发明授权
    • Ti과 Cr 탄화물의 동시 확산 피복 방법
    • Ti和Cr碳化物的同时扩散涂层法
    • KR1019960012734B1
    • 1996-09-24
    • KR1019940008092
    • 1994-04-18
    • 한국기계연구원이기정
    • 이기정남기석이구현변응선남욱희
    • C04B41/81
    • C04B41/009C04B41/5057C04B41/52C04B41/4517C04B41/4545C04B41/4556C04B41/5031C04B41/5133C04B41/4529C04B41/4552C04B41/4558C04B35/52
    • (a)a first stage, filling a Cr raw material powder as first coating element into fluidized bed layer furnace including alumina of particle size #80-120(ASTM), fluidizing alumina powder and the Cr raw material powder by providing a fluidized gas N2 followed by introducing a coating article into the fluidized bed furnace and heating the article at a temperature of 800-1,250 deg.C (b)a secondary stage, replacing the fluidized gas N2 with a protective gas Ar in order to prevent forming a nitride product when a treated temperature is reached, reacting the Cr raw material powder with TiCl4 as a Ti material of secondary coating element to form vapor phase of Cr metal halide, reacting the vapor metal halide of Ti and Cr with carbon to coat a carbide of Ti and Cr with carbon to on the treated article surface for the required time to obtain coating layer of required thickness in the article (c)a third stage, stopping supply of the TiCl4 when the coating in the secondary stage is completed, maintaining the article to a quenching temperature, and then cooling the article in a suitable coolant.
    • (a)第一阶段,将Cr原料粉末作为第一涂料填充到包括粒径为#80-120(ASTM)的氧化铝的流化床层炉中,将氧化铝粉末和Cr原料粉末通过提供流化气体N2 然后将涂层制品引入流化床炉中并在800-1,250℃(b)次级阶段加热制品,用保护气体Ar替代流化气体N 2,以防止形成氮化物产物 当达到处理温度时,使Cr原料粉末与TiCl4作为第二涂层元素的Ti材料反应,形成Cr金属卤化物的气相,使Ti和Cr的蒸气金属卤化物与碳反应,以涂覆Ti和 Cr在处理过的制品表面上经过所需的时间以获得制品(c)中所需厚度的涂层第三阶段,当第二阶段的涂层完成时停止供应TiCl4, 将制品加工成淬火温度,然后用合适的冷却剂冷却制品。
    • 26. 发明授权
    • 레이저를 이용한 초고온 열충격 및 산화시험장치
    • 超高温冲击和氧化试验设备采用激光束
    • KR101438799B1
    • 2014-09-05
    • KR1020120152672
    • 2012-12-26
    • 한국기계연구원
    • 이구현남기석변응선이성훈
    • G01N3/60G01N17/02
    • 본 발명에 의한 레이저를 이용한 초고온 열충격 및 산화시험장치에 있어서,
      레이저를 이용한 초고온 열충격 및 산화시험장치의 구성에 있어서, 내부에 시편이 저장되는 공간을 구비하고, 시험자가 선택적으로 내부의 대기환경의 산화,환원 분위기와 진공상태 여부를 제어가능한 시험 챔버(Chamber)와; 상기 시험 챔버 내부에는, 시편을 안착시키는 시편 홀더와, 상기 시편 홀더를 지지하는 홀더 지지대로 구성된 시편 안착부와; 상기 시험 챔버의 일측과 연통되고, 내부의 압력을 측정가능하게 구비된 압력 게이지와; 상기 시험 챔버와 일측과 연통하여, 상기 시험 챔버 내부로 시험자가 선택한 가스를 투입가능하도록 구비된 가스 투입구와; 상기 시험 챔버 내부로 레이저를 이용하여 시편에 열을 가하는 레이저 가열부와; 상기 시험 챔버의 일측에는, 상기 시험 챔버와 연통하여 외부로 내부의 가스를 배출시키는 가스 배기구와; 상시 시험 챔버의 일측에는, 시험자의 선택에 따라 상기 시험 챔버의 내부를 진공상태로 변환시킬 수 있는 진공변환부와; 상기 시험 챔버의 일측에 구비되고, 상기 열충격 및 산화시험장치의 동작 여부를 제어하는 제어부; 그리고, 상기 레이저 가열부 일측에는, 상기 레이저 가열부를 냉각시켜주는 칠러(Chiller);를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.
    • 27. 发明授权
    • 태양전지에 사용되는 반사방지막 표면에 나노돌기를 형성하는 방법 및 태양전지 반사방지막의 투과율을 증진시키는 방법
    • 在太阳能电池中使用的防反射膜上制备纳米草皮的方法以及提高太阳能电池防反射膜的透过率的方法
    • KR101073701B1
    • 2011-10-14
    • KR1020090085734
    • 2009-09-11
    • 한국기계연구원
    • 나종주이구현정용수김완두
    • H01L31/04
    • H01L31/02168H01L31/02366Y02E10/50
    • 본발명은태양전지에사용되는반사방지막표면에나노돌기를형성하는방법및 태양전지반사방지막의투과율을증진시키는방법에관한것으로, 더욱상세하게는유리에투명폴리머필름을부착시키는단계(단계 1); 상기단계 1에서제조된유리를챔버내부에구비된전극상측에설치하고진공분위기또는대기분위기를조성하는단계(단계 2); 및상기단계 2의분위기에서전극에전원을공급하여플라즈마를발생시켜유리표면에부착된투명폴리머필름을에칭하여원뿔형상의나노돌기를형성하는단계(단계 3)를포함하는태양전지에사용되는반사방지막표면에나노돌기를형성하는방법및 태양전지반사방지막표면에나노돌기를도입하여입사되는빛의굴절률이변경되도록제어함으로써빛이반사되는것을방지하여태양전지반사방지막의투과율을증진시키는방법에관한것이다. 본발명에따른태양전지에사용되는반사방지막표면에나노돌기를형성하는방법은투명한폴리머필름을먼저유리에부착함으로써나노돌기형성에안정성을확보할수 있고, 플라즈마를이용하여제조공정이간단하며, 태양전지에원뿔형상의나노돌기가도입되어빛을굴절률이변경되도록제어함으로써빛이반사되는것을방지하므로, 태양전지의광효율을증진시키는데유용하게이용할수 있다.
    • 28. 发明授权
    • 마이크로 디바이스용 극저마찰 탄소보호막 및 그 제조방법
    • 用于微器件的超低摩擦碳膜和相同的方法
    • KR100711619B1
    • 2007-04-30
    • KR1020050067878
    • 2005-07-26
    • 한국기계연구원
    • 나종주이구현남기석권식철
    • C23C16/26
    • 본 발명은 마찰계수가 낮으면서도 충분한 내마모성을 구비하고 있는 마이크로 디바이스용 극저마찰 탄소보호막 및 그 제조방법에 관한 것으로, 순수한 탄소를 이용한 카본박막 제조공정에 의해 제조되고 다이아몬드 구조와 흑연 구조가 소정의 비율로 혼재된 비정질상으로 이루어지고; 라만분석에서 D-peak의 위치가 1390±10㎝
      -1 , G-peak의 위치가 1580±20㎝
      -1 , I
      D /I
      G 가 1.2~2를 만족하며; 경도 2~30㎬, 잔류응력 10㎫~2㎬, 표면조도 0.4~6.0㎚, 탄성계수 10~270㎬, 전기저항 1~100mΩ-㎝의 범주에 속하는 것이며, 전압밀도 4.4~13.2W/㎠, 기판온도 상온~400℃, 아르곤(Ar) 압력 1~10mTorr의 조건에서 탄소를 스퍼터링 타겟으로 하여, 상기 기판의 온도와 바이어스 전압을 변화시키면서 기판에 펄스 RF 바이어스를 인가하여 DLC(Diamond Like Carbon)박막과 흑연박막이 혼합된 다층박막을 형성한다.
      따라서, 마찰계수가 낮아 마이크로 디바이스 제품의 작동성능을 저해하지 않고 높은 내마모성에 의해 제품의 수명이 길어지며 물에 대한 높은 접촉각으로 인해 습식공정 후에도 물이 거의 남지 않게 되므로 부품간 응착이 일어나지 않게 된다.
      마이크로 디바이스, 보호막, 내마모성, 라만분석, 비정질, 스퍼터링, DLC박막, 흑연박막, 마찰계수, 접촉각