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21. 发明公开

KR1020120029140A 고분자 확산 반사판 및 이 반사판 제작을 위한 고분자 수지 조성물 有权
标题翻译：聚合物反射器和反射器聚合物复合材料
公开(公告)号：KR1020120029140A
公开(公告)日：2012-03-26
申请号：KR1020100091049
申请日：2010-09-16
申请人： 연세대학교 산학협력단 , (주) 케이엠팩
发明人： 이경수 , 차성운 , 구선모 , 이상조 , 민병권 , 조성민 , 전병주
IPC分类号： B29C49/00 , C08K3/22 , C08L23/00 , G02B5/02
CPC分类号： B29C49/0005 , B29D11/00798 , B29K2023/16 , B29K2067/00 , B29K2503/04 , C08K2003/2241 , C08L23/00 , G02B1/04 , G02B5/0268
摘要： PURPOSE: A polymeric diffuse reflective plate and a polymer resin composition for manufacturing the same are provided to enable a wide effective roughness range to be ensured at high diffuse reflectance of light since TiO2(Titanium Dioxide) is mixed with crystalline resin at an appropriate ratio. CONSTITUTION: A polymeric diffuse reflective plate contains polymeric resin formed from crystalline resin. The polymeric resin is processed as a 2D plane or a 3D shape using a blow molding technique.
摘要翻译：目的：提供聚合物漫反射板和用于制造聚合物漫反射板和聚合物树脂组合物，以便能够在光的高漫反射率下确保宽的有效粗糙度范围，因为TiO 2（二氧化钛）以适当的比例与结晶树脂混合。构成：聚合物漫反射板包含由结晶树脂形成的聚合物树脂。使用吹塑技术将聚合树脂加工成2D平面或3D形状。

22. 发明授权

KR101097154B1 철-폴리머 복합체 제조방법, 이 제조방법에 의해 제조된 철-폴리머 복합체를 이용한 고경도 전도성 재료의 표면 연마방법 및 장치 失效
标题翻译：制造Fe-高分子化合物的方法，使用由此制造的Fe-聚合物的导电和高硬度材料的抛光方法和装置
公开(公告)号：KR101097154B1
公开(公告)日：2011-12-22
申请号：KR1020090088279
申请日：2009-09-18
申请人： 연세대학교 산학협력단
发明人： 민병권 , 이상조 , 석종원 , 장경인 , 이경수
IPC分类号： C08J3/12 , C08K3/10 , C08J3/20 , B24B29/00
摘要： 본발명은자성체인철 입자와탄성체인폴리머입자를분산및 혼합하고일정형태로성형한후 파쇄하여탄성연마제인철-폴리머복합체를생성하고, 이철-폴리머복합체와자성체인철 입자및 전해액이포함된기능성유체와가공대상물인고경도전도성재료사이에전기장을걸어전기분해에의한전기화학적산화작용에의해재료의표면을산화및 유화시키면서탄성연마제인철-폴리머복합체를이용하여재료의표면을연마가공함으로써고경도전도성재료의표면을스크래치(scratch) 없는고정도의표면으로연마가공할수 있도록하는철-폴리머복합체제조방법및 이제조방법에의해제조된철-폴리머복합체를이용한고경도전도성재료의표면연마방법및 장치에관한것이다.

23. 发明授权

KR101097153B1 다이아몬드-폴리머 복합패드의 제조방법, 다이아몬드-폴리머 복합패드를 이용한 실리콘 웨이퍼 연마방법 및 장치 失效
标题翻译：制造金刚石 - 高分子复合垫的方法，使用由其制造的金刚石 - 高分子复合垫的硅晶片的抛光方法和装置
公开(公告)号：KR101097153B1
公开(公告)日：2011-12-22
申请号：KR1020090102776
申请日：2009-10-28
申请人： 연세대학교 산학협력단
发明人： 이상조 , 민병권 , 석종원 , 장경인
IPC分类号： H01L21/304
摘要： 본발명은고경도연마제인다이아몬드입자와탄성체인폴리머입자를분산및 혼합하고일정형태로성형하여탄성연마제인다이아몬드-폴리머복합패드를제조하고, 이렇게제조된다이아몬드-폴리머복합패드를이용하여, CMP 공정으로는연마가불가능하였던실리콘웨이퍼의측면부를효과적으로연마가공할수 있도록함으로써, 실리콘웨이퍼의표면을스크래치(scratch)가없는고정도의연마표면으로가공할수 있고, 실리콘웨이퍼의사용가능한유효면적을확장시켜수율을높일수 있는다이아몬드-폴리머복합패드의제조방법, 그리고다이아몬드-폴리머복합패드를이용한실리콘웨이퍼연마방법및 연마장치에관한것이다.

24. 发明授权

KR101078895B1 패턴 제어 또는 입사광 제어를 이용한 반사광 제어 유닛 및 반사광 제어 방법과, 이를 이용한 광학적 디스플레이 장치 및 반사광 제어 시스템 失效
标题翻译：反射光控制单元和控制方式通过图案控制或入射光控制，以及使用它的光学显示装置和反射光控制系统
公开(公告)号：KR101078895B1
公开(公告)日：2011-11-01
申请号：KR1020090099961
申请日：2009-10-20
申请人： 연세대학교 산학협력단
发明人： 민병권 , 이상조 , 한진
IPC分类号： G02B26/08
摘要： 본발명은패턴제어또는입사광제어를이용한반사광제어유닛및 반사광제어방법과, 이를이용한광학적디스플레이장치및 반사광제어시스템에관한것이다. 더욱상세하게는, 본발명은 i) 표면에일정한패턴이형성되며, 외부자극에의해상기패턴의피치및 형상이변화하는매질, ii) 상기매질에자극을가하는자극수단및 iii) 상기매질표면에특정파장및 입사각을가지는입사광을조사하는조사수단을포함하는패턴제어를이용한반사광제어유닛과, i) 표면에일정한피치및 형상을가지는패턴이형성된매질; ii) 상기매질표면에특정파장및 입사각을가지는입사광을조사하는조사수단및 iii) 상기조사수단에서상기매질표면으로조사되는입사광의파장및 입사각을조절하는제어수단을포함하는입사광제어를이용한반사광제어유닛, 및이를이용한반사광제어방법, 광학적디스플레이장치및 반사광제어시스템에대한것이다.

25. 发明公开

KR1020110030721A 고경도 전도성 재료의 표면 연마 장치 및 방법 有权
标题翻译：抛光装置和导电和高硬度材料的方法
公开(公告)号：KR1020110030721A
公开(公告)日：2011-03-24
申请号：KR1020090088278
申请日：2009-09-18
申请人： 연세대학교 산학협력단
发明人： 민병권 , 이상조 , 석종원 , 장경인
IPC分类号： B23H5/08 , B23H5/06 , B24B37/00 , B24D3/34
CPC分类号： B23H5/08 , B24B37/00 , B24D3/34
摘要： PURPOSE: An apparatus for polishing high-hardness conductive materials and a method thereof are provided to polish the surface of high-hardness conductive materials at high precision, since the surface of the materials are oxidized and emulsified by electrochemical oxidation. CONSTITUTION: An apparatus for polishing high-hardness conductive materials comprises a magnetic member, functional fluid, an electrolyte(116), a drive unit, a transfer unit, and a power applying unit. The fluid is attached to the outer surface of the magnetic member. The fluid comprises magnetic particles and an abrasive(113). The electrolyte is mixed with the functional fluid. The drive unit drives the magnetic member. The transfer unit transfers high-hardness conductive materials(120). The power applying unit applies power between the functional fluid mixed with the electrolyte and the hardness conductive material.
摘要翻译：目的：提供一种用于研磨高硬度导电材料的设备及其方法，以高精度抛光高硬度导电材料的表面，因为材料的表面被电化学氧化氧化和乳化。构成：用于抛光高硬度导电材料的装置包括磁性构件，功能流体，电解质（116），驱动单元，转移单元和电力施加单元。流体附着到磁性部件的外表面。流体包括磁性颗粒和磨料（113）。电解质与功能流体混合。驱动单元驱动磁性部件。转印单元转移高硬度导电材料（120）。动力施加单元在与电解质混合的功能流体与硬度导电材料之间施加动力。

26. 发明公开

KR1020100085377A 미세방전 디버링 가공장치 및 가공공정 有权
标题翻译：用于加工微型放电的装置和方法
公开(公告)号：KR1020100085377A
公开(公告)日：2010-07-29
申请号：KR1020090004629
申请日：2009-01-20
申请人： 연세대학교 산학협력단
发明人： 이상조 , 민병권 , 정영훈 , 유병한
IPC分类号： B23H9/02 , B23H9/00 , B23H11/00 , B23H1/00
CPC分类号： B23H9/02 , B23H1/02 , B23H11/00 , B23H2200/00 , B23H2500/20
摘要： PURPOSE: A device and a method for machining micro-discharge deburring are provided to uniformly eliminate burrs regardless of the size of a workpiece. CONSTITUTION: A device for machining micro-discharge deburring comprises a scan unit(10) and an electrode. The scan unit cans a burr by tracing the location of the burr formed in a workpiece. The electrode performs a deburring processs by moving the top of the burr scanned in the scan unit.
摘要翻译：目的：提供一种用于加工微放电去毛刺的装置和方法，以均匀地消除毛刺，而与工件的尺寸无关。构成：用于加工微放电去毛刺的装置包括扫描单元（10）和电极。扫描单元通过跟踪在工件中形成的毛刺的位置来形成毛刺。电极通过移动在扫描单元中扫描的毛刺的顶部来执行去毛刺处理。

27. 发明公开

KR1020100084779A 자기유변연마공정에 적용되는 자화가능한 고경도의 연마제 및 그에 따른 연마공정 无效
标题翻译：高硬度磁化学抛光抛光方法及抛光组合
公开(公告)号：KR1020100084779A
公开(公告)日：2010-07-28
申请号：KR1020090004105
申请日：2009-01-19
申请人： 연세대학교 산학협력단
发明人： 민병권 , 이상조 , 석종원 , 장경인 , 정봉수
IPC分类号： C09K3/14
摘要： PURPOSE: A magnetizable polishing compound of high hardness is provided to uniformly polishing the surface of a processed product by increasing the viscosity of a magnetorheological fluid and magnetizing the polishing compound when the polishing compound is applied to a magnetorheological fluid pad. CONSTITUTION: A magnetorheological fluid pad(10) includes a polishing compound(11) of high hardness megnetizable for a magnetorheological polishing process. A polishing method using the polishing compound of the high hardness comprises the following steps: molding a magnetorheological fluid into a magnetorheological fluid pad by adding an abrasive to the magnetorheological fluid; positioning the magnetorheological fluid pad on the surface of a product(30) to be processed; sanctioning magnetic field to the magnetorheological fluid pad; and polishing the surface of the product while the magnetorheological fluid pad is rotating.
摘要翻译：目的：提供高硬度的可磁化抛光剂，通过增加磁流变流体的粘度，并将研磨用化合物施用于磁流变液垫时，使研磨用化合物磁化，对加工品的表面进行均匀研磨。构成：磁流变液垫（10）包括用于磁流变抛光工艺的具有高硬度的抛光化合物（11）。使用高硬度的研磨用化合物的研磨方法包括以下步骤：通过向磁流变流体添加研磨剂将磁流变流体成型为磁流变液垫; 将磁流变液垫定位在待加工的产品（30）的表面上; 制定磁场到磁流变液垫; 并且在磁流变液垫旋转的同时抛光产品的表面。

28. 发明公开

KR1020090082825A 집속이온빔을 이용한 나노패턴 형성방법 失效
标题翻译：使用聚焦离子束的纳米方式
公开(公告)号：KR1020090082825A
公开(公告)日：2009-07-31
申请号：KR1020080008794
申请日：2008-01-28
申请人： 연세대학교 산학협력단
发明人： 이상조 , 민병권 , 한진 , 한민희
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027 , B82B3/00 , B82Y40/00
CPC分类号： G03F7/2004 , B82B3/0009 , B82Y40/00 , G03F7/2022 , G03F7/2063 , G03F9/703 , H01L21/0275 , H01L21/0337
摘要： A nano-patterning method using focused ion beam is provided to form patterns with microsize and stable space in the same properties and processing condition of a focused ion beam device. A nano-patterning method using focused ion beam comprises the steps of: forming a resist layer on the surface of a processing object, wherein the resist layer is formed by coating at least one of HSQ(hydrogen silsesquioxane), Silicon oxide, PP(Polypropylane film), PMMA(polymethyl methacrylate), and SU-8 photoresist; irradiating focused ion beam on the surface of the object and milling it; and removing the resist layer left on the surface of the object.
摘要翻译：提供了使用聚焦离子束的纳米图案化方法，以在聚焦离子束装置的相同特性和处理条件下形成具有微尺寸和稳定空间的图案。使用聚焦离子束的纳米图案化方法包括以下步骤：在加工对象的表面上形成抗蚀剂层，其中通过涂覆HSQ（氢倍半硅氧烷），氧化硅，PP（聚丙烷）中的至少一种形成抗蚀剂层膜），PMMA（聚甲基丙烯酸甲酯）和SU-8光致抗蚀剂; 将聚焦离子束照射在物体的表面上并对其进行研磨; 并且去除留在物体表面上的抗蚀剂层。

29. 发明授权

KR101874519B1 전해방전가공장치 및 이를 이용한 전해방전가공방법 有权
公开(公告)号：KR101874519B1
公开(公告)日：2018-07-04
申请号：KR1020160050840
申请日：2016-04-26
申请人： 연세대학교 산학협력단 , 한국산업기술대학교산학협력단
发明人： 민병권 , 채기운 , 한민섭
IPC分类号： B23H5/02 , B23H7/14 , B23H1/10 , B23H3/10 , B23H7/36 , B23H11/00
摘要： 본발명은전해방전가공장치및 이를이용한전해방전가공방법에관한것으로서, 가공대상물(W)이침지되는전해액을수용하는전해액용기; 상기전해액내에일단부가침지된공구전극; 상기공구전극과전기적으로연결된양의전극; 상기공구전극과양의전극사이에전력을공급하는전원; 및상기공구전극의일단부와상기가공대상물(W) 사이에존재하는전해액의수위를조절하는수단을포함하되, 상기전해액의수위를조절하는수단은노즐등을통하여기체를분사하는기체공급수단인것을특징으로한다.

30. 发明公开

KR1020140056771A 위상변조기를 이용한 휴대용 홀로그래픽 현미경 및 이를 구비한 모바일 기기 有权
标题翻译：便携式数字全息显微镜使用相位移动器和具有相同功能的移动设备
公开(公告)号：KR1020140056771A
公开(公告)日：2014-05-12
申请号：KR1020120122448
申请日：2012-10-31
申请人： 연세대학교 산학협력단
发明人： 박노철 , 이상조 , 민병권 , 이경수 , 조장현 , 김도형 , 전성빈 , 박재형
IPC分类号： G02B21/00 , G02B21/14 , G02B21/36
CPC分类号： G02B21/361 , G02B21/0008 , G02B21/14 , G02B21/362 , G02B21/365 , H04B1/3833
摘要： The present invention relates to a portable holographic microscope capable of observing a three-dimensional image of an object with high resolution in real time and being manufactured in a simple and compact structure with low costs. To this end, the present invention comprises a light source which generates light; a pin hole which is formed on an optical path at the back side of the light source and filters the light generated from the light source; a light separator which separates the parallel light passing through the pin hole into two optical paths; a reflector which reflects the light reflected by the light separator; a phase modulator which controls the phase of the reflected light through the reflector; and an image sensor which detects the reflected light through the reflector and light including information of the object and converts the light into an image signal.
摘要翻译：本发明涉及一种便携式全息显微镜，其能够实时观察高分辨率物体的三维图像，并且以简单且紧凑的结构以低成本制造。为此，本发明包括产生光的光源; 销孔，其形成在光源背面的光路上，并对从光源产生的光进行滤光; 将通过所述销孔的平行光分离成两个光路的光分离器; 反射由光分离器反射的光的反射器; 相位调制器，其通过反射器控制反射光的相位; 以及图像传感器，其检测通过反射器的反射光和包括对象的信息的光，并将光转换成图像信号。

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