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11. 发明授权

KR101087087B1 수계 세정제 조성물 有权
标题翻译：水性工业清洁剂组合物
公开(公告)号：KR101087087B1
公开(公告)日：2011-11-25
申请号：KR1020080040526
申请日：2008-04-30
申请人： 주식회사 이엔에프테크놀로지
发明人： 정진배 , 이상대 , 문재웅 , 정현철 , 신효섭 , 오동주 , 박영진 , 김현정 , 이명호
IPC分类号： C11D1/18 , C11D1/16 , C11D1/66 , C11D3/20 , C11D3/30
摘要： 본 발명은 (a) 유기 알칼리, (b) 지방족 다가알코올 및 불포화 유기산의 혼합물, (c) 비이온성 계면활성제, (d) 알코올류 유기용제 및 (e) 물을 포함하는 수계 세정제 조성물에 관한 것이다. 본 발명의 수계 세정제 조성물은 금속배선에 대한 부식성이 낮고 물에 의한 헹굼성이 우수하여 잔류물을 남기지 않을 뿐 아니라 오염물에 대한 세정력이 우수하며 저기포성이므로, 전자부품 및 정밀부품의 표면, 특히 액정 디스플레이 기판의 세정공정에 유용하게 활용될 수 있다.

12. 发明公开

KR1020110124955A 포토레지스트 박리액 조성물 有权
标题翻译：光电剥离组合物
公开(公告)号：KR1020110124955A
公开(公告)日：2011-11-18
申请号：KR1020100044444
申请日：2010-05-12
申请人： 주식회사 이엔에프테크놀로지
发明人： 박영진 , 한두석 , 이상대 , 신효섭
IPC分类号： G03F7/42
CPC分类号： G03F7/425 , G03F7/426
摘要： PURPOSE: A photo-resist stripping composition is provided to prevent the occurrence of corrosion with respect to metal wirings under a photo-resist film in a stripping process and a deionized water-based rinsing process. CONSTITUTION: A photo-resist stripping composition includes 0.5 to 5 weight% of alkylammonium hydroxide, 60-90 weight% of an aprotic polar solvent, 0.1-3 weight% of aromatic polyalcohol, 0.1-5 weight% of linear polyalcohol, and 5-30 weight% of water. The aromatic alcohol includes one or more carboxylic groups or alkylester groups and includes three or more hydroxylic groups. The aromatic polyalcohol is selected from a group including gallic acid, methyl gallate, ethyl gallate, propyl gallate, butyl gallate, and the mixture of the same. The linear polyalcohol includes three or more hydroxyl groups. The alkylammonium hydroxide is selected from a group including tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, and the mixture of the same.
摘要翻译：目的：提供光阻剥离组合物，以防止在剥离过程和去离子水基漂洗工艺中在光致抗蚀剂膜下相对于金属布线发生腐蚀。构成：光阻剥离组合物包含0.5-5重量％的烷基氢氧化铵，60-90重量％的非质子极性溶剂，0.1-3重量％的芳族多元醇，0.1-5重量％的线性多元醇和5- 30重量％的水。芳族醇包括一个或多个羧基或烷基酯基，并且包括三个或更多个羟基。芳族多元醇选自不含有没食子酸，没食子酸甲酯，没食子酸乙酯，没食子酸丙酯，没食子酸丁酯及其混合物的组。线性多元醇包括三个或更多个羟基。烷基氢氧化铵选自氢氧化四甲基铵，氢氧化四乙铵，氢氧化四丙基铵及其混合物。

13. 发明公开

KR1020090114734A 수계 세정제 조성물 有权
标题翻译：水性工业清洁剂组合物
公开(公告)号：KR1020090114734A
公开(公告)日：2009-11-04
申请号：KR1020080040526
申请日：2008-04-30
申请人： 주식회사 이엔에프테크놀로지
发明人： 정진배 , 이상대 , 문재웅 , 정현철 , 신효섭 , 오동주 , 박영진 , 김현정 , 이명호
IPC分类号： C11D1/18 , C11D1/16 , C11D1/66 , C11D3/20 , C11D3/30
CPC分类号： C11D1/18 , C11D1/16 , C11D1/66 , C11D3/2065 , C11D3/30
摘要： PURPOSE: An aqueous cleaning agent composition is provided to be used in a cleaning process of the surface of electronic parts and precise parts, especially, a liquid crystal display substrate, due to low corrosion for metal wiring and excellent rinsing property for contaminant. CONSTITUTION: An aqueous cleaning agent composition comprises organic alkali 0.1-5 wt%, a mixture 0.2-4 wt% of aliphatic hydric alcohol and unsaturated organic acid, nonionic surfactant 0.01-2 wt%, alcoholic organic solvent 0.5-20 wt%, and the balance of water. The aqueous cleaning agent composition further comprises aliphatic hydric alcohol 0.1-2 wt% and unsaturated organic acid 0.1-2 wt%.
摘要翻译：目的：提供一种水性清洁剂组合物，用于电子部件表面和精密部件，特别是液晶显示基板的清洗工艺，由于金属布线的腐蚀低，污染物的漂洗性能优异。构成：含水清洗剂组合物包含0.1-5重量％的有机碱，0.2-4重量％的脂族羟基醇和不饱和有机酸的混合物，0.01-2重量％的非离子表面活性剂，0.5-20重量％的醇有机溶剂和水的平衡。含水清洗剂组合物还包含0.1-2重量％的脂族羟基醇和0.1-2重量％的不饱和有机酸。

14. 发明授权

KR101445668B1 포토레지스트 박리액 조성물 有权
标题翻译：光电剥离器
公开(公告)号：KR101445668B1
公开(公告)日：2014-10-02
申请号：KR1020130102825
申请日：2013-08-29
申请人： 주식회사 이엔에프테크놀로지
发明人： 이상대 , 박영진 , 강영한 , 유진호 , 임찬규
IPC分类号： G03F7/42 , G03F7/34 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/425 , G03F7/343 , H01L21/0273 , H01L21/306
摘要： A photoresist stripper solution composition according to the present invention improves adhesion to a thin film layer laminated on the top by preventing an uneven surface by a color filter swelling phenomenon, prevents defects by making the thickness of a part filled with liquid crystal uniform, and obtaining high process efficiency by improving the removal of photoresist due to the activation of amine compounds by a small amount of water.
摘要翻译：根据本发明的光致抗蚀剂剥离剂溶液组合物通过防止由滤色器溶胀现象引起的不均匀表面来改善对层压在顶部的薄膜层的粘合性，通过使填充有液晶的部分的厚度均匀而获得缺陷，并获得通过改善由于少量的水活化胺化合物而导致的光致抗蚀剂的去除而使工艺效率高。

15. 发明授权

KR101132618B1 포토레지스트 사용량을 절감할 수 있는 신너 조성물 有权
标题翻译：可以减少光电消耗的薄膜组合物
公开(公告)号：KR101132618B1
公开(公告)日：2012-04-06
申请号：KR1020090078827
申请日：2009-08-25
申请人： 주식회사 이엔에프테크놀로지
发明人： 이상대 , 박영진 , 한두석
IPC分类号： G03F7/42
摘要： 본 발명은 포토레지스트 사용량을 절감할 수 있는 신너 조성물에 관한 것으로서, 조성물 총 중량을 기준으로, (1) 비점이 180℃ 이상이고 수소결합 가능한 유기용제 0.01 내지 20 중량%, (2) 상기 유기용제와 수소결합할 수 있는 비점 150℃ 이하의 글리콜류 10 내지 70 중량%, 및 (3) 에스터류 10 내지 89.99 중량%를 포함하는 본 발명에 따른 신너 조성물은 패턴 구현을 위해 사용되는 포토레지스트의 양을 획기적으로 절감할 수 있을 뿐만 아니라 포토레지스트의 균일한 도포를 달성할 수 있고, 기판의 가장자리부 또는 후면부에 도포된 불필요한 포토레지스트를 효과적으로 제거할 수 있다.

16. 发明公开

KR1020110021189A 포토레지스트 사용량을 절감할 수 있는 신너 조성물 有权
标题翻译：可以减少光电消耗的薄膜组合物
公开(公告)号：KR1020110021189A
公开(公告)日：2011-03-04
申请号：KR1020090078827
申请日：2009-08-25
申请人： 주식회사 이엔에프테크놀로지
发明人： 이상대 , 박영진 , 한두석
IPC分类号： G03F7/42
CPC分类号： G03F7/425 , C11D7/263 , C11D7/266 , C11D11/0047 , G03F7/0048 , G03F7/0236 , G03F7/38 , G03F7/422
摘要： PURPOSE: A thinner composition which can reduce consumption of photoresists is provided to spread evenly photoresists on the whole surface of a substrate by firstly surface-treating the photoresists on the substrate before the photoresists is applied to the substrate. CONSTITUTION: A thinner composition which can reduce consumption of photoresists comprises, based on the total weight of the composition, 0.01-20 weight% of organic solvents which has a boiling point of 180°C or more and can perform hydrogen bond, 10-70 weight% of glycols which has a boiling point of 150°C or less and can perform hydrogen bond with organic solvents, and 10-89.99 weight% of esters.
摘要翻译：目的：提供可以减少光致抗蚀剂消耗的较薄组合物，以便在将光致抗蚀剂施加到基底之前首先对基片上的光致抗蚀剂进行表面处理，以使基片的整个表面均匀分布光刻胶。构成：可以减少光致抗蚀剂消耗的较薄的组合物包括：基于组合物的总重量为0.01-20重量％的沸点为180℃或更高并可以进行氢键的有机溶剂，10-70 沸点为150℃以下且可与有机溶剂进行氢键的二元醇的重量％，以及10-89.99重量％的酯。

17. 发明授权

KR101557778B1 포토레지스트 박리액 조성물 有权
标题翻译：光刻胶剥离剂的组成
公开(公告)号：KR101557778B1
公开(公告)日：2015-10-06
申请号：KR1020140024119
申请日：2014-02-28
申请人： 주식회사 이엔에프테크놀로지
发明人： 이상대 , 박영진 , 전경민 , 임찬규
IPC分类号： G03F7/42 , H01L21/027
摘要： 본발명은포토레지스트박리액조성물에관한것으로, 보다상세하게는알킬렌글리콜 t-부틸에테르계화합물을 2종이상포함하여, 포토레지스트의제거속도가매우뛰어나고절연체손상을최소화할 수있는포토레지스트박리액조성물에관한것이다.

18. 发明授权

KR101169332B1 포토레지스트 박리액 조성물 有权
标题翻译：光刻胶剥离液溶液组成
公开(公告)号：KR101169332B1
公开(公告)日：2012-07-30
申请号：KR1020100044444
申请日：2010-05-12
申请人： 주식회사 이엔에프테크놀로지
发明人： 박영진 , 한두석 , 이상대 , 신효섭
IPC分类号： G03F7/42
CPC分类号： G03F7/425 , G03F7/426
摘要： 본 발명은 반도체/LED/LCD소자를 제조하는 공정에서 포토레지스트를 제거하기 위해 사용되는 포토레지스트 박리액 조성물에 관한 것으로서, 알킬암모늄 수산화물 0.5 내지 5 중량%, 비양자성 극성용매 60 내지 90 중량%, 방향족 다가알콜 0.1 내지 3 중량%, 직쇄구조 다가알콜 0.1 내지 5 중량% 및 물 5 내지 30 중량%의 조성으로 이루어지며, 포지티브 포토레지스트와 네거티브 포토레지스트에 대한 박리력이 우수하고 하부 금속배선에 대한 부식이 없다.
摘要翻译：本发明涉及用于在制造半导体/ LED / LCD器件的工艺中用于去除光刻胶的光刻胶剥离液体组合物，其包含0.5至5重量％的烷基氢氧化铵，60至90重量％的非质子极性溶剂，，芳香族多元醇0.1〜3重量％，直链多元醇0.1〜5重量％，水5〜30重量％，对正型光致抗蚀剂和负型光致抗蚀剂的剥离性优异，没有腐蚀。

19. 发明公开

KR1020170072410A 액정 표시 장치 审中-实审
标题翻译：液晶显示器
公开(公告)号：KR1020170072410A
公开(公告)日：2017-06-27
申请号：KR1020150180188
申请日：2015-12-16
申请人： 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 손옥수 , 노성인 , 박승현 , 박영진 , 이재학
IPC分类号： G02F1/133 , G02F1/1337 , G02F1/1335
CPC分类号： G02F1/136286 , G02F1/133514 , G02F1/1337 , G02F1/134336 , G02F2001/134345 , G02F2201/52
摘要： 액정표시장치를제공한다. 본액정표시장치는, 제1 방향으로연장된복수개의데이터배선들, 제1 방향과교차하는제2 방향으로연장된복수개의게이트배선들및 데이터배선들중 어느하나와게이트배선들중 어느하나와각각연결되고, 각각액정층을포함하는복수개의화소들을포함하고, 제1 방향은상기액정층의초기배향방향과평행하다.
摘要翻译：提供了一种液晶显示装置。该液晶显示装置中，多个在第一方向上延伸的数据线，多个在第二方向延伸的栅极线和数据线的栅极线中的任何一个中的任何一个交叉的第一方向和以及多个像素，每个像素包括液晶层，其中第一方向平行于液晶层的初始对准方向。

20. 发明公开

KR1020150114639A 표시 장치 审中-实审
标题翻译：显示设备
公开(公告)号：KR1020150114639A
公开(公告)日：2015-10-13
申请号：KR1020140038838
申请日：2014-04-01
申请人： 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 황태형 , 김원호 , 박영진 , 임성수
IPC分类号： G02F1/136
CPC分类号： G02F1/13306 , G02F1/13318 , G02F1/1368
摘要： 본발명은광원의휘도를보정할수 있는표시장치에관한것으로, 본발명의일 실시예에의한표시장치는영상을표시하는표시패널, 상기표시패널에광을공급하는광원부, 상기표시패널에내장되어, 상기광원부로부터공급되는광량을감지하는광 감지부, 및상기광 감지부로부터광량에대한정보를전달받아상기광원부의공급광량을제어하는광원제어부를포함하고, 상기광 감지부는광 감지층, 및상기광 감지층위에서로이격되도록형성되어있는제1 전극및 제2 전극을포함하는것을특징으로한다.
摘要翻译：本发明涉及能够校正光源的亮度的显示装置。根据本发明的实施例的显示装置包括：显示图像的显示面板; 向显示面板提供光的光源单元; 光检测单元，其被嵌入在所述显示面板中，并感测由所述光源单元提供的光量; 以及光源控制单元，其接收关于来自光感测单元的光量的信息，并控制由光源单元提供的光量。光感测单元包括：光感测层; 以及形成在光感测层上以彼此分开放置的第一电极和第二电极。

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