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热词
    • 92. 发明公开
    • 반사막 또는 반투과 반사막용 박막, 스퍼터링 타겟 및 광기록 매체
    • 薄膜用作反射膜或半透射反射膜,溅射目标和光学记录介质
    • KR1020090087052A
    • 2009-08-14
    • KR1020097011861
    • 2006-11-17
    • 다나까 홀딩스 가부시끼가이샤
    • 오바타도모카즈야나기하라히로시
    • G02B5/08C23C14/06C23C14/34
    • C23C14/0688C23C14/205C23C14/3414G02B1/105G02B1/14G02B5/0833G11B7/24038G11B7/259G11B7/266Y10T428/12056Y10T428/1209Y10T428/12097Y10T428/21Y10T428/31678
    • A thin film for use as reflective film or semi-transmissive reflective film, comprising a matrix of silver or silver alloy and, dispersed therein, a phase of at least one compound selected from among gallium, palladium and copper nitrides, oxides, composite oxides, nitroxides, carbides, sulfides, chlorides, silicides, fluorides, borides, hydrides, phosphides, selenides and tellurides. The compound phase of the thin film may contain, as well as the above compounds, at least one compound selected from among silver nitride, oxide, composite oxide, nitroxide, carbide, sulfide, chloride, silicide, fluoride, boride, hydride, phosphide, selenide and telluride. This thin film reduces drop of reflectance in the long-term use, thus attaining prolongation of the life span of optical recording medium, display and other various apparatuses using the reflective film. This thin film is also useful as a semi-reflective/semi-transmissive film for use in optical recording medium. ® KIPO & WIPO 2009
    • 一种用作反射膜或半透射反射膜的薄膜,包括银或银合金的基体并分散在其中的至少一种选自镓,钯和铜氮化物的化合物的相,氧化物,复合氧化物, 氮氧化物,碳化物,硫化物,氯化物,硅化物,氟化物,硼化物,氢化物,磷化物,硒化物和碲化物。 所述薄膜的复合相可以含有上述化合物中的至少一种选自氮化银,氧化物,复合氧化物,氮氧化物,碳化物,硫化物,氯化物,硅化物,氟化物,硼化物,氢化物,磷化物, 硒化物和碲化物。 这种薄膜可以减少长期使用中的反射率下降,从而延长了使用该反射膜的光记录介质,显示器和其他各种装置的使用寿命。 该薄膜也可用作用于光记录介质的半反射/半透射膜。 ®KIPO&WIPO 2009
    • 98. 发明公开
    • 슬라이딩 접점 및 그 제조방법
    • 슬라이딩접점및그제조방법
    • KR1020040053109A
    • 2004-06-23
    • KR1020047002115
    • 2003-02-07
    • 다나까 홀딩스 가부시끼가이샤
    • 사야마미츠요시타니켄이치로스즈키히로히토
    • H01C10/00
    • H01C10/30H01H1/36H01H11/04H01H2011/0087Y10T29/49117Y10T29/49204Y10T29/49211Y10T29/49213Y10T29/49222
    • 슬라이딩 접점 제조시의 제품수율이 높고, 슬라이딩 접점 브러시의 돌기 선단부(先端部) 표면을 확실하게 평활하게 할 수 있는 슬라이딩 접점의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 하는 것이다.
      본 발명은, 금속제 브러시를 가지는 슬라이딩 접점의 제조방법에 있어서, 슬라이딩 접점편(10')의 돌기(12a')의 선단부를 용융시킨 후, 기체중에서 응고시켜 돌기(12a') 선단부의 표면을 평활하게 하는 것이다. 예를들면, 금속제의 얇은 판재를 블랭킹(Blanking)하여 슬라이딩 접점을 제조하는 경우이면, 블랭킹으로 얻은 슬라이딩 접점편(10')의 브러시(12')의 돌기(12a')의 선단에 레이저 빔을 조사(照射)하여 상기 선단부를 가열, 용융시킨다. 그렇게 하면, 용융전에 있었던 예리한 부분이나 버어(Burr)가 소멸한다. 용융후, 돌기(12a')의 선단을 기체중에서 응고시키면, 선단면이 평활한 곡면모양인 돌기를 구비한 브러시를 가지는 슬라이딩 접점이 제조되는 것이다.
    • 本发明的目的是提供一种制造滑动触头的制造成品率高且能够可靠地使滑动触头的刷子的指尖的前端面平滑化的滑动触头的制造方法。 根据本发明,在制造具有金属刷的滑动触头的方法中,滑动接触片10'的指状件12a'的尖端部分被熔化,并且此后尖端部分在气体中固化,由此表面 尖端部分变得光滑。 例如,当通过冲切金属片材制造滑动接触件时,通过冲切获得的滑动接触件10'的电刷12'的指状件12a'的尖端部分被激光束照射, 末端部分被加热并熔化。 然后,熔化前存在的尖锐部分和毛刺消失。 当手指12a'的末端部分在熔化后的气体中固化时,制造具有刷子的滑动接触,该刷子设置有尖端部分表面为平滑曲面的手指。 <图像>