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1. 发明授权

KR100991329B1 ＣＶＤ용 원료 화합물 및 이리듐 또는 이리듐 화합물박막의 화학기상증착방법 有权
标题翻译：用于CVD的原料化合物和用于生产IRIDI或IRIDIUM薄膜的化学气相沉积
公开(公告)号：KR100991329B1
公开(公告)日：2010-11-01
申请号：KR1020030026660
申请日：2003-04-28
申请人： 다나까 홀딩스 가부시끼가이샤
发明人： 사이토마사유키 , 사가에타케유키
IPC分类号： C07F15/00
CPC分类号： C23C16/18 , C23C16/40 , H01L28/55 , H01L28/60
摘要： 본 발명은, 유기 이리듐 화합물을 주성분으로 하는 CVD용 원료 화합물로서, 유기 이리듐 화합물이 트리스(5-메틸-2,4-헥산디오네이트)이리듐으로 이루어지는 CVD용 원료 화합물이다. 이 원료화합물을 사용한 화학기상증착법에 의하면, 우수한 모폴로지의 순이리듐박막 및 산화이리듐박막을 좋은 효율로 제조할 수가 있다.

유기 이리듐 화합물, CVD, 화학기상증착방법

2. 发明公开

KR1020100048982A ＣＶＤ용 원료화합물 및 루테늄 또는 루테늄 화합물 박막의 화학기상 증착방법 无效
标题翻译：在CVD中使用的原料化合物和RUMENIUM或RENHENIUM复合薄膜的化学气相沉积
公开(公告)号：KR1020100048982A
公开(公告)日：2010-05-11
申请号：KR1020100034811
申请日：2010-04-15
申请人： 다나까 홀딩스 가부시끼가이샤
发明人： 사이토마사유키 , 사가에타케유키
IPC分类号： C23C16/18 , H01L21/205 , C01G55/00
CPC分类号： C07F15/0046 , C23C16/18
摘要： PURPOSE: A compound for CVD and a chemical vapor deposition method for a ruthenium film or a ruthenium compound film are provided to provide an organic ruthenium compound, and to improve stability and vapor pressure. CONSTITUTION: A compound for CVD is composed of an organic ruthenium compound. The organic ruthenium compound is formed by coordinating two beta-diketones and two organic ligands with a ruthenium. Olefin coordinating in the ruthenium is one of ethylene, propylene, 2-methyl propylene, butane, and 1,3-butadiene. Nitrile coordinating in the ruthenium is acetonitrile or acrylonitrile.
摘要翻译：目的：提供一种用于CVD的化合物和用于钌膜或钌化合物膜的化学气相沉积方法以提供有机钌化合物，并提高稳定性和蒸气压。构成：用于CVD的化合物由有机钌化合物组成。有机钌化合物通过使钌与两个β-二酮和两个有机配位体配位而形成。在钌中配位的烯烃是乙烯，丙烯，2-甲基丙烯，丁烷和1,3-丁二烯之一。在钌中配位的腈是乙腈或丙烯腈。

3. 发明授权

KR100553194B1 ＬＰＣＶＤ 장치 및 박막 제조방법 有权
标题翻译：低压CVD装置和制造薄膜的方法
公开(公告)号：KR100553194B1
公开(公告)日：2006-02-22
申请号：KR1020020067651
申请日：2002-11-02
申请人： 다나까 홀딩스 가부시끼가이샤
发明人： 사이토마사유키
IPC分类号： H01L21/205
摘要： 본 발명은, 원료가 되는 금속화합물을 수용하는 용기체(container)와, 상기 용기체를 가열하는 것에 의해 유기 금속화합물을 기화시켜서 원료가스로 하는 가열수단과, 박막을 석출시키는 기판을 수용하는 반응기와, 반응기를 저압분위기로 하기 위한 배기펌프와, 배기펌프의 상류쪽에 설치되어 반응기로부터의 사용이 끝난 원료가스를 냉각하는 트랩(trap)으로 이루어지는 LPCVD 장치에 있어서, 트랩은 사용이 끝난 원료가 흐르는 유로에 설치되고 복수의 구멍이 길이 방향으로 관통되도록 형성되어 벌집 형태로 형성된 통체(筒體)를 구비하는 LPCVD 장치이다. 본 발명에 의하면, 펌프의 배기효율의 감소를 동반하는 경우 없이, 다량의 사용이 끝난 원료를 회수할 수 있다.
박막, 트랩, 화학기상 증착법, LPCVD 장치, 벌집구조, 루테늄(ruthenium)

4. 发明公开

KR1020030052240A ＬＰＣＶＤ 장치 및 박막 제조방법 有权
标题翻译： LPCVD装置和薄膜沉积方法
公开(公告)号：KR1020030052240A
公开(公告)日：2003-06-26
申请号：KR1020020067651
申请日：2002-11-02
申请人： 다나까 홀딩스 가부시끼가이샤
发明人： 사이토마사유키
IPC分类号： H01L21/205
摘要： PURPOSE: An LPCVD(Low Pressure Chemical Vapor Deposition) apparatus and a thin film deposition method are provided to be capable of collecting organic metal compounds from used raw materials with a trap which can recycle more metal compounds without increasing the trap capacity. CONSTITUTION: An LPCVD apparatus includes a vessel body, a heating unit, a reactor, an evacuation pump and a trap for cooling the used raw gas for the reactor. The vessel body accommodates metal compounds as raw materials. The heating unit heats the vessel body to vaporize the organic metal compounds into raw gas. The reactor stores a substrate with a thin film deposited thereon. The evacuation pump keeps the reactor at a low pressure atmosphere. The trap has a cylinder having a honeycomb structure in a flow passage through which the used raw materials flow.
摘要翻译：目的：提供LPCVD（低压化学气相沉积）设备和薄膜沉积方法，以便能够从具有捕集器的收集器中收集有机金属化合物，所述阱可以循环更多的金属化合物而不增加捕集能力。构成：LPCVD装置包括容器主体，加热单元，反应器，抽空泵和用于冷却用于反应器的废气的捕集阱。容器主体容纳金属化合物作为原料。加热单元加热容器体，将有机金属化合物蒸发成原料气体。反应器存储其上沉积有薄膜的衬底。排气泵将反应器保持在低压气氛。捕集器具有在所使用的原料流过的流动通道中具有蜂窝结构的圆筒。

5. 发明授权

KR101201190B1 ＣＶＤ용 원료화합물 및 루테늄 또는 루테늄 화합물박막의 화학기상 증착방법 有权
标题翻译：在CVD中使用的原料化合物和RUMENIUM或RENHENIUM复合薄膜的化学气相沉积
公开(公告)号：KR101201190B1
公开(公告)日：2012-11-13
申请号：KR1020030023681
申请日：2003-04-15
申请人： 다나까 홀딩스 가부시끼가이샤
发明人： 사이토마사유키 , 사가에타케유키
IPC分类号： C23C16/18
CPC分类号： C07F15/0046 , C23C16/18
摘要： 본 발명은, 유기루테늄 화합물을 주성분으로 하는 CVD용 원료 화합물에 있어서, 루테늄에 2개의 β-디케톤류가 배위하고, 또한 디엔류, 디아민류, 2개의 유기 배위자가 더 배위한 유기루테늄 화합물을 주성분으로 하는 것이다. 본 발명에서는, 배위하는 β-디케톤류의 탄소수, 디엔류 등의 종류를 규정하는 것으로 유기루테늄 화합물의 증기압을 바람직하도록 하고 있다.

CVD, 루테늄, 증기압

6. 发明授权

KR100982109B1 화학 증착용 유기 루테늄 화합물 및 이 유기 루테늄화합물을 사용한 화학 증착방법 有权
标题翻译：用于化学气相沉积的有机钌化合物和使用有机钌化合物的化学气相沉积方法
公开(公告)号：KR100982109B1
公开(公告)日：2010-09-14
申请号：KR1020087012637
申请日：2007-09-27
申请人： 다나까 홀딩스 가부시끼가이샤
发明人： 다니우치준이치 , 사이토마사유키 , 이시다미노루
IPC分类号： C07F15/00 , C23C16/18 , H01L21/28 , H01L21/285
CPC分类号： C07F15/0046 , C07F17/02 , C23C16/18 , H01L21/28556
摘要： 본 발명은 화학 증착법에 의해 루테늄 박막 또는 루테늄 화합물 박막을 제조하기 위한 유기 루테늄 화합물에 있어서, 다음 화학식으로 나타내어지는, 루테늄에 아렌기 및 노르보르나디엔이 배위(配位)된 유기 루테늄 화합물에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 리액턴트 가스가 되는 산소의 공존을 요하지 않고, 또한 상온에서 액체의 취급성, 리사이클성이 우수한 화학 증착용 유기 루테늄 화합물에 관한 것이다.

(화학식 중, 아렌기의 치환기인 R
1 ~R
6 는 수소 또는 알킬기이다. 또한, R
1 ~R
6 의 탄소수의 합계(R
1 +R
2 +R
3 +R
4 +R
5 +R
6 )는 6 이하이다.)

7. 发明公开

KR1020030082909A ＣＶＤ용 원료화합물 및 루테늄 또는 루테늄 화합물박막의 화학기상 증착방법 有权
标题翻译： CVD用原料化合物和钌或钌化合物薄膜的化学气相沉积法
公开(公告)号：KR1020030082909A
公开(公告)日：2003-10-23
申请号：KR1020030023681
申请日：2003-04-15
申请人： 다나까 홀딩스 가부시끼가이샤
发明人： 사이토마사유키 , 사가에타케유키
IPC分类号： C23C16/18
CPC分类号： C07F15/0046 , C23C16/18
摘要： 본 발명은, 유기루테늄 화합물을 주성분으로 하는 CVD용 원료 화합물에 있어서, 루테늄에 2개의 β-디케톤류가 배위하고, 또한 디엔류, 디아민류, 2개의 유기 배위자가 더 배위한 유기루테늄 화합물을 주성분으로 하는 것이다. 본 발명에서는, 배위하는 β-디케톤류의 탄소수, 디엔류 등의 종류를 규정하는 것으로 유기루테늄 화합물의 증기압을 바람직하도록 하고 있다.

8. 发明公开

KR1020080095233A 화학 증착용 유기 루테늄 화합물 및 이 유기 루테늄화합물을 사용한 화학 증착방법 有权
标题翻译：用于化学蒸气沉积的有机元素化合物和使用有机金属化合物的化学气相沉积方法
公开(公告)号：KR1020080095233A
公开(公告)日：2008-10-28
申请号：KR1020087012637
申请日：2007-09-27
申请人： 다나까 홀딩스 가부시끼가이샤
发明人： 다니우치준이치 , 사이토마사유키 , 이시다미노루
IPC分类号： C07F15/00 , C23C16/18 , H01L21/28 , H01L21/285
CPC分类号： C07F15/0046 , C07F17/02 , C23C16/18 , H01L21/28556
摘要： Disclosed is an organic ruthenium compound for use in the production of a ruthenium thin film or a ruthenium compound thin film by chemical vapor deposition technique. The organic ruthenium compound is represented by the general formula, wherein an arene group and norbornadiene are coordinated to ruthenium. The organic ruthenium compound for chemical vapor deposition does not require the co-presence of oxygen which can act as a reactant gas, takes a liquid form at ambient temperature, and is excellent in handling properties and recyclability. [Chemical formula] wherein R1 to R6, which are substituents for the arene group, independently represent a hydrogen or an alkyl group, provided that the sum total of the number of carbon atoms in R1 to R6 (R1+R2+R3+R4+R5+R 6) is 6 or less.
摘要翻译：公开了用于通过化学气相沉积技术生产钌薄膜或钌化合物薄膜的有机钌化合物。有机钌化合物由通式表示，其中芳族基团和降冰片二烯与钌配位。用于化学气相沉积的有机钌化合物不需要可以作为反应气体的氧的共存，在环境温度下呈液态，并且处理性能和可回收性优异。 [化学式]其中作为芳基的取代基的R 1〜R 6分别独立地表示氢或烷基，条件是R 1〜R 6（R 1 + R 2 + R 3 + R 4+）中的碳原子数的总和， R5 + R6）为6以下。

9. 发明公开

KR1020030086902A ＣＶＤ용 원료 화합물 및 이리듐 또는 이리듐 화합물박막의 화학기상증착방법 有权
标题翻译： CVD用原料化合物和铱或铱化合物薄膜的化学气相沉积法
公开(公告)号：KR1020030086902A
公开(公告)日：2003-11-12
申请号：KR1020030026660
申请日：2003-04-28
申请人： 다나까 홀딩스 가부시끼가이샤
发明人： 사이토마사유키 , 사가에타케유키
IPC分类号： C07F15/00
CPC分类号： C23C16/18 , C23C16/40 , H01L28/55 , H01L28/60
摘要： 본 발명은, 유기 이리듐 화합물을 주성분으로 하는 CVD용 원료 화합물로서, 유기 이리듐 화합물이 트리스(5-메틸-2,4-헥산디오네이트)이리듐으로 이루어지는 CVD용 원료 화합물이다. 이 원료화합물을 사용한 화학기상증착법에 의하면, 우수한 모폴로지의 순이리듐박막 및 산화이리듐박막을 좋은 효율로 제조할 수가 있다.

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