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1. 发明公开

KR1020150070727A 흑연-함유 박막을 포함하는 극자외선 리소그래피용 펠리클 막 有权
标题翻译：包含含石墨薄膜的超薄超薄膜薄膜
公开(公告)号：KR1020150070727A
公开(公告)日：2015-06-25
申请号：KR1020130157275
申请日：2013-12-17
申请人： 삼성전자주식회사 , 성균관대학교산학협력단 , 주식회사 에프에스티
发明人： 김문자 , 김슬기 , 유지범 , 조상진 , 유장동 , 장명식
IPC分类号： G03F1/62 , G03F1/22
CPC分类号： G03F1/64 , G03F1/22 , G03F1/62
摘要： 본원은흑연-함유박막을포함하는극자외선리소그래피용펠리클막에관한것이다.
摘要翻译：本发明涉及包含含石墨的薄膜的用于极紫外光刻的防护薄膜。

2. 发明授权

KR101552940B1 흑연-함유 박막을 포함하는 극자외선 리소그래피용 펠리클 막 有权
标题翻译： - 超薄薄膜薄膜，包括含薄膜的薄膜
公开(公告)号：KR101552940B1
公开(公告)日：2015-09-14
申请号：KR1020130157275
申请日：2013-12-17
申请人： 삼성전자주식회사 , 성균관대학교산학협력단 , 주식회사 에프에스티
发明人： 김문자 , 김슬기 , 유지범 , 조상진 , 유장동 , 장명식
IPC分类号： G03F1/62 , G03F1/22
CPC分类号： G03F1/64 , G03F1/22 , G03F1/62
摘要： 본원은흑연-함유박막을포함하는극자외선리소그래피용펠리클막에관한것이다.

3. 发明授权

KR101642832B1 펠리클 프레임, 펠리클, 리소그래피 장치 및 펠리클 프레임의 제조방법 有权
标题翻译：薄膜框架防护薄膜光刻设备及防护薄膜框架的制造方法
公开(公告)号：KR101642832B1
公开(公告)日：2016-07-27
申请号：KR1020090086670
申请日：2009-09-14
申请人： 삼성전자주식회사 , 주식회사 에프에스티
发明人： 김정진 , 안범현 , 전찬욱 , 유장동 , 김승완 , 김익준 , 최재혁 , 이한신
IPC分类号： G03F1/64 , H01L21/027
CPC分类号： G03F1/142 , C25D11/024 , C25D11/026 , C25D11/04 , C25D11/06 , C25D11/18 , G03F1/64 , Y10T428/13 , Y10T428/1317
摘要： 이물질발생을억제하고아웃개싱의양이저감된펠리클프레임, 펠리클, 리소그래피장치및 펠리클프레임의제조방법이제공된다. 펠리클프레임은제1 물질층및 상기제1 물질층상에형성된제2 물질층을포함하며, 상기제1 물질층은상기알루미늄을포함하여구성되며, 상기제2 물질층은상기산화알루미늄및 상기전이금속을포함하여구성된다. 펠리클또는리소그래피장치는상기펠리클프레임을포함한다. 상기제 2물질층은습식산화플라즈마또는건식산화플라즈마를사용하여형성한다.

4. 发明公开

KR1020110029005A 펠리클 프레임, 펠리클, 리소그래피 장치 및 펠리클 프레임의 제조방법 有权
标题翻译：薄膜框架，薄膜，平面设备和制作薄饼框架的方法
公开(公告)号：KR1020110029005A
公开(公告)日：2011-03-22
申请号：KR1020090086670
申请日：2009-09-14
申请人： 삼성전자주식회사 , 주식회사 에프에스티
发明人： 김정진 , 안범현 , 전찬욱 , 유장동 , 김승완 , 김익준 , 최재혁 , 이한신
IPC分类号： G03F1/64 , H01L21/027
CPC分类号： G03F1/142 , C25D11/024 , C25D11/026 , C25D11/04 , C25D11/06 , C25D11/18 , G03F1/64 , Y10T428/13 , Y10T428/1317 , G03F7/70983
摘要： PURPOSE: A pellicle frame, pellicle, a lithographic apparatus, and a method for manufacturing the pellicle frame are provided to effectively reduce the amount of outgas by implementing a cleaning process with high temperature ultra-pure water. CONSTITUTION: A pellicle frame(19) includes aluminum, an aluminum oxide, and transition metal. The pellicle frame includes a first material layer(11) and a second material layer(12) which is formed on the first material layer. The first material layer includes aluminum. The second material layer includes an aluminum oxide and transition metal. The second material layer is in direct contact with the first material layer. The second material layer is directly exposed around the pellicle frame.
摘要翻译：目的：提供防护薄膜组件，防护薄膜，光刻设备和防护薄膜组件框架的制造方法，以通过使用高温超纯水进行清洁处理来有效地减少排气量。构成：防护薄膜组件框架（19）包括铝，氧化铝和过渡金属。防护薄膜框架包括形成在第一材料层上的第一材料层（11）和第二材料层（12）。第一材料层包括铝。第二材料层包括氧化铝和过渡金属。第二材料层与第一材料层直接接触。第二材料层直接暴露在防护薄膜框架周围。

5. 实用新型

KR200473341Y1 펠리클 수납용기용 보관 케이스 有权
标题翻译：用于薄膜储存容器的储存箱
公开(公告)号：KR200473341Y1
公开(公告)日：2014-07-04
申请号：KR2020120007127
申请日：2012-08-09
申请人： 주식회사 에프에스티
发明人： 장명식 , 유장동 , 김승완 , 박진영
IPC分类号： G03F1/66 , H01L21/027 , B65D85/86
摘要： 본 고안은 수납용기에 포장된 펠리클을 비닐 포장재 대신 보관 케이스에 보관함으로써, 펠리클을 개봉할 때 발생하는 미세 먼지를 최소화할 수 있는 펠리클 수납용기용 보관 케이스에 관한 것이다. 본 고안에 따른 펠리클 수납용기용 보관 케이스는, 펠리클이 수용된 수납용기를 보관하는 하부 수용부의 수평면에 이격된 위치에 각각 복수의 하부 지지부가 형성된 하부 케이스와, 하부 케이스와 조립되고 수납용기를 보관하는 상부 수용부의 수평면에 이격된 위치에 복수의 상부 지지부가 형성된 상부 케이스를 포함하고, 복수의 하부 지지부와 상부 지지부는, 수납용기의 대응되는 각각의 하부면과 상부면의 모서리 양 측면을 지지하기 위해서 돌출된 한 쌍의 지지돌기를 포함한다.
摘要翻译：本主题创新涉及一种防护薄膜组件包装在储存容器到储存容器的防尘薄膜组件储存盒能够最小化细粉尘打开由储存盒，而不是塑料包装材料存储在，防尘薄膜组件时发生的。根据本发明的存储盒防尘薄膜组件的储存容器包括每个部分中形成多个下部支撑的在水平平面内间隔开的位置的下壳体防护薄膜组件，用于存储所接收到的储存容器，所述组件和所述下壳体的下储存部分，并且所述存储容器存储上壳体，以及多个下支撑和上支撑多个上支撑部的形成在所述接收部的上方的水平面间隔开的位置，以支持每个下表面和边缘的上表面上的对应于该接收容器两侧并包括一对突出的支撑突起。

6. 发明授权

KR1019970003687B1 방진막 失效
标题翻译：薄皮
公开(公告)号：KR1019970003687B1
公开(公告)日：1997-03-21
申请号：KR1019930019731
申请日：1993-09-25
申请人： 주식회사 에프에스티
发明人： 유장동
IPC分类号： G03F1/62
摘要： A pellicle capable of preventing an alien substance attachment of a recticle or photo mask or pollution at a photolithography process of a semiconductor element is disclosed. In the pellicle, an adhesive(6) adheres a transparent film(1) and a photo mask(5) to one and other sides of a fixed frame(2), respectively. The adhesive(6) is formed at the fixed frame(2) in a melting state. When the adhesive(6) is solidified, a peeling plate(7) is disposed at an upper portion of the adhesive(6) and heated at a temperature higher than a melting temperature of the adhesive(6). Therefoere an upper surface of the adhesive(6) is flattened by a load of the peeling plate(7).
摘要翻译：公开了一种能够防止半导体元件的光刻工艺中的外周物质附着或光掩模或污染的防护薄膜组件。在防护薄膜组件中，粘合剂（6）分别将透明膜（1）和光掩模（5）粘附到固定框架（2）的一侧和另外侧。粘合剂（6）以熔化状态形成在固定框架（2）处。当粘合剂（6）固化时，在粘合剂（6）的上部设置剥离板（7），并在高于粘合剂（6）的熔融温度的温度下加热。由于剥离板（7）的载荷使粘合剂（6）的上表面变平。

7. 外观设计

KR3004599570001S 失效
公开(公告)号：KR3004599570001S
公开(公告)日：2013-10-29
申请号：KR3020120019328
申请日：2012-04-23
申请人： 주식회사 에프에스티
设计人： 장명식 , 유장동 , 김승완 , 박진영

8. 发明公开

KR1020130088565A 그래핀을 이용한 초극자외선용 펠리클 및 그 제조방법 无效
标题翻译： EUV PELLICLE UGING GRAPHENE及其制造方法
公开(公告)号：KR1020130088565A
公开(公告)日：2013-08-08
申请号：KR1020120009883
申请日：2012-01-31
申请人： 주식회사 에프에스티
发明人： 박성호 , 유장동 , 장명식
IPC分类号： G03F1/62
CPC分类号： G03F1/62 , G03F1/22 , G03F1/38 , G03F1/64 , G03F7/70916 , G03F7/70983
摘要： PURPOSE: A pellicle for an ultra infrared ray and a manufacturing method thereof are provided to prevent damage to a base circuit board by using a large graphene film. CONSTITUTION: A pellicle for an ultra infrared ray includes a pellicle film (10) and pellicle frame (20) supporting the pellicle film. The pellicle film is a graphene film. A method for manufacturing the pellicle includes a first step for forming the graphene film on a circuit board and a second step for forming an exposure area in which an ultra infrared ray is passed through by eliminating a center unit of the circuit board.
摘要翻译：目的：提供一种用于超红外线的防护薄膜组件及其制造方法，以通过使用大的石墨烯膜来防止对基底电路板的损坏。构成：用于超红外线的防护薄膜组件包括防护薄膜（10）和防护薄膜组件（20），其支撑防护薄膜。防护薄膜是石墨烯膜。防护薄膜组件的制造方法包括在电路基板上形成石墨烯膜的第一工序，以及除去电路基板的中心部，形成超红外线的曝光区域的第二工序。

9. 发明授权

KR100117856B1 방진막 失效
公开(公告)号：KR100117856B1
公开(公告)日：1997-07-08
申请号：KR1019930019731
申请日：1993-09-25
申请人： 주식회사 에프에스티
发明人： 유장동
IPC分类号： G03F1/62

10. 发明授权

KR101278519B1 펠리클 프레임의 제조방법 有权
标题翻译：制作花岗岩框架的方法
公开(公告)号：KR101278519B1
公开(公告)日：2013-06-25
申请号：KR1020120026710
申请日：2012-03-15
申请人： 주식회사 에프에스티
发明人： 장명식 , 유장동 , 김승완 , 김현태
IPC分类号： G03F1/64
CPC分类号： G03F1/64 , G03F1/142 , G03F1/62 , G03F7/70916 , G03F7/70983
摘要： PURPOSE: A fabricating method of a pellicle frame is provided to uniformly form an aluminum oxide film by plasma electrolytic oxidation through an aluminum hydroxide film formed on the surface of an aluminum alloy which is activated in a treatment process. CONSTITUTION: A fabricating method of a pellicle frame includes the steps of: forming an aluminum hydroxide on the surface of an aluminum alloy frame; and forming an aluminum oxide film containing transition metal oxide on the surface of the aluminum alloy frame by plasma electrolytic oxidation. The aluminum hydroxide film is formed on the surface of the aluminum alloy frame by reacting ultrapure water at 70-100 degrees centigrade and the aluminum alloy frame.
摘要翻译：目的：提供一种防护薄膜组件框架的制造方法，通过在处理过程中激活的铝合金表面上形成的氢氧化铝膜，通过等离子体电解氧化均匀地形成氧化铝膜。构成：防护薄膜框架的制造方法包括以下步骤：在铝合金框架的表面上形成氢氧化铝; 并通过等离子体电解氧化在铝合金框架的表面上形成含有过渡金属氧化物的氧化铝膜。通过使超纯水与70-100摄氏度的铝合金框架反应，在铝合金框架的表面上形成氢氧化铝膜。

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