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1. 发明授权

KR100981212B1 액처리방법 및 액처리장치 失效
标题翻译：液体加工方法和液体加工设备
公开(公告)号：KR100981212B1
公开(公告)日：2010-09-10
申请号：KR1020090125972
申请日：2009-12-17
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 야히로슈운이치 , 타테야마키요히사 , 모토다키미오
IPC分类号： G02F1/13
摘要： 본 발명은 기판에 대해서 처리액을 공급해 액처리를 실시하는 액처리장치에 관한 것으로서, 기판을 거의 수평인 자세에서 수평방향으로 반송하는 반송로와, 반송로상에서 기판에 소정의 처리액을 공급해 액처리를 실시하는 액처리부와, 증기를 분사하는 증기 분사 노즐을 1 개 또는 복수를 가져, 액처리부보다 하류측의 반송로상에서 기판에 증기를 내뿜어, 기판상으로부터 액을 쓸어 내는 건조처리부를 가진다.
본 발명에 의하면, 건조 처리후의 기판 표면에 얼룩, 잔존 침전물 및 워터마크 등이 발생하는 것을 억제할 수 있다.
기판, 액처리장치, 반송로, 증기 분사 노즐, 건조처리부

2. 发明授权

KR100979822B1 부상식 기판 반송 처리 장치 有权
标题翻译：表面处理型基材运输加工设备
公开(公告)号：KR100979822B1
公开(公告)日：2010-09-02
申请号：KR1020050007780
申请日：2005-01-27
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 미야자키카즈히토 , 타테야마키요히사 , 야마사키츠요시
IPC分类号： G02F1/13
摘要： 본 발명은 부상식 기판반송 처리장치에 관한 것으로서 표면으로부터 기체를 분사 또는 분사 및 흡인해 기판(G)을 다른 높이로 부상하는 부상스테이지(22)와 부상 스테이지(22)의 윗쪽으로 배치되고 기판(G)의 표면에 처리액을 띠형상으로 공급하는 레지스트 공급 노즐(23)과 기판(G)의 양측단을 각각 착탈 가능하게 흡인 보지하는 복수의 기판 보지 부재(24)와 부상 스테이지(22)의 양측으로 서로 평행으로 배치되는 가이드 레일(25)을 따라 슬라이더(26)를 이동하는 이동 기구와 기판 보지 부재(24)와 슬라이더(26)를 연결 함과 동시에 기판(G)의 부상 높이에 추종 하여 변위 가능한 연결 수단(50)을 설치하여 장치의 소형화 및 간략화를 도모하여 또한 처리 효율의 향상을 도모할수 있도록 한 부상식 기판 반송 처리 장치의 기술을 제공한다.

3. 发明公开

KR1020020097004A 기판처리장치, 액처리장치 및 액처리방법 失效
标题翻译：基板处理装置，装置和液体处理方法
公开(公告)号：KR1020020097004A
公开(公告)日：2002-12-31
申请号：KR1020020034344
申请日：2002-06-19
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 타테야마키요히사 , 모토다키미오 , 사다테츠야 , 미야자키카즈히토 , 시노기타케토라
IPC分类号： H01L21/31
摘要： PURPOSE: A substrate processing apparatus, a device and a method for processing liquid are provided to be capable of carrying out a uniform liquid processing in a whole substrate, even if the substrate is large. CONSTITUTION: A developing processing unit(DEV)(24) has a first developing liquid supply zone, where developing liquid is applied to the substrate(G), a liquid cutting/rinse zone, where developing liquid is removed from the substrate(G), and a roller transport mechanism(14) for transporting the substrate(G) in one direction in an almost horizontal attitude. In the liquid cutting/rinse zone, the substrate(G) is made in an inclined posture. The developing liquid is made to flow out and rinse liquid is supplied to the substrate(G), while a rinsing liquid discharge nozzle is moved at a predetermined speed along the surface of the substrate(G) kept in the inclined attitude. In the liquid cutting/rinse zone, the developing liquid can be removed from the substrate(G). Thus, the occurrence of development unevenness is prevented, and line width uniformity is enhanced.
摘要翻译：目的：提供一种基板处理装置，装置和液体处理方法，即使基板较大，也能够在整个基板上进行均匀的液体处理。构成：显影处理单元（DEV）（24）具有第一显影液供应区，其中将显影液施加到基板（G），液体切割/漂洗区，其中显影液从基板（G）移除，以及用于以几乎水平的姿态沿一个方向输送基板（G）的辊传送机构（14）。在液体切割/漂洗区域中，基板（G）制成倾斜的姿势。使冲洗液体排出喷嘴沿着保持在倾斜状态的基板（G）的表面以预定速度移动，使显影液流出并将冲洗液供给到基板（G）。在液体切割/漂洗区域中，可以从基板（G）移除显影液。因此，防止显影不均匀的发生，并且线宽均匀性增强。

4. 发明公开

KR1020010093066A 도포처리방법 및 도포처리장치 失效
标题翻译：涂层的方法和装置
公开(公告)号：KR1020010093066A
公开(公告)日：2001-10-27
申请号：KR1020010014631
申请日：2001-03-21
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 타테야마키요히사 , 모토다키미오 , 시모무라유지
IPC分类号： H01L21/027
摘要： PURPOSE: A method for coating a layer is provided to reduce the quantity of the coated layer, by making liquid outflow from a fine outflow hole of an outflow nozzle to a substrate while the substrate is rotated so that the liquid is supplied on the entire surface of the substrate. CONSTITUTION: The liquid flows out from a plurality of fine outflow holes formed on the lower surface of the outflow nozzle to the transferred substrate while the substrate is rotated so that the liquid of a band type is coated on the substrate. The supply of the liquid is stopped. A process for making the thickness of the layer formed on the substrate uniform is performed while the substrate is rotated.
摘要翻译：目的：提供一种涂覆层的方法，以便在旋转基板时使液体从流出喷嘴的细流出孔流出到基板，从而在整个表面上供应液体，以减少涂层的量的基底。构成：在基板旋转的同时，从形成在流出喷嘴的下表面的多个细流出孔流出到转印基板，使得带状的液体涂布在基板上。停止供应液体。在基板旋转的同时进行使在基板上形成的层的厚度均匀的工序。

5. 发明公开

KR1020000022860A 현상방법 및 현상장치 有权
标题翻译：开发方法和开发设备
公开(公告)号：KR1020000022860A
公开(公告)日：2000-04-25
申请号：KR1019990037063
申请日：1999-09-02
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 타테야마키요히사
IPC分类号： G02F1/1333
摘要： PURPOSE: Developing method and developing device are provided to perform a developing process about a glass substrate used to LCD, enhance a developing speed, and remove a bad developing. CONSTITUTION: A developing method discharges a developing liquid with a first developing speed about an object, and then discharges the developing liquid with a second developing speed faster than the first developing speed about the object. The developing liquid is discharged about an object with a first discharge speed, and is then discharged about the object with a second discharge speed smaller than the first discharge angle. The part(71) discharges a developing liquid about the object. Thereby, the developing method performs a developing process about a glass substrate(G) used to LCD, enhances a developing speed, and removes a bad developing.
摘要翻译：目的：提供显影方法和显影装置，以执行关于用于LCD的玻璃基板的显影过程，提高显影速度，并去除不良显影。构成：显影方法以关于物体的第一显影速度排出显影液，然后以比关于物体的第一显影速度快的第二显影速度排出显影液。显影液以第一排出速度以物体排出，然后以比第一排出角小的第二排出速度在物体周围排出。部件（71）围绕物体排放显影液。因此，显影方法执行关于用于LCD的玻璃基板（G）的显影处理，提高显影速度，并消除不良显影。

6. 发明公开

KR1019980086815A 제전방법및제전기능을갖는처리장치와기판처리장치및기판처리방법 失效
标题翻译：具有擦除方法和擦除功能的处理装置和基板处理装置以及基板处理方法
公开(公告)号：KR1019980086815A
公开(公告)日：1998-12-05
申请号：KR1019980016274
申请日：1998-05-07
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 타테야마키요히사
IPC分类号： H01L21/027
摘要： 본 발명은, 예를들면 액정디스플레이(LCD) 기판이나 반도체 웨이퍼와 같이 처리되는 기판에 소정의 처리를 행하는 처리장치를 방전하는 방법 및 방전기능을 갖는 처리장치에 관한 것이다. 본 발명은 정전기 중화기능을 갖는 부재가 처리대상의 처리과정이나 적어도 그 처리과정의 일부 과정에서 처리장치로 반입되도록 하는 과정을 포함하여, 상기의 처리장치를 방전할 수 있고, 처리대상에 의해 정전기가 발생된 장치의 부분을 이온나이저와 같은 큰 크기의 장치를 사용하지 않고, 확실히 방전되도록 하는 처리대상에 소정의 처리를 행하는 처리장치의 방전방법을 제시하고 있다. 본 발명은 처리대상에 처리를 행하는 처리기구와, 상기 처리대상을 보지하는 대상홀딩부와, 정전기 중화기능을 갖는 부재를 대기조건에 놓이도록 하는 대기부와, 상기 처리대상을 선택적으로 반송하고, 상기 정전기 중화기능을 갖는 부재를 처리기구에 반입 및 반출하는 반송기구와, 상기 정전기 중화기능을 갖는 부재를 소정 매수의 대상처리가 종료된 후, 처리대상의 처리과정이나 적어도 그 처리과정의 일부 과정에서 처리장치로 반입되도록 하기 위해 상기 반송기구를 제어하는 제어기로 이루어짐으로써, 상기 정전기 중화기능을 갖는 부재에 의해 방전이 이루어지는 방전기능을 갖는 처리장치를 제시하고 있다.

7. 发明公开

KR1019980086814A 기판처리장치 失效
公开(公告)号：KR1019980086814A
公开(公告)日：1998-12-05
申请号：KR1019980016273
申请日：1998-05-07
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 타테야마키요히사
IPC分类号： H01L21/027
摘要： 본 발명은 LCD기판이나 반도체 웨이퍼와 같은 기판에 대해, 예를들면 레지스트 막의 현상과 레지스트액의 도포를 행하는 시스템에서 가열처리, 냉각처리 또는 소수화처리와 같은 열처리를 행하는 기판처리장치에 관한 것이다. 본 발명은 기판에 대해 가열 또는 냉각처리를 행하고 상기 기판의 아래에 배치되어 복수의 홀을 갖는 판과, 상기 판과 일체화되어 상하이동가능하고 상기 판에 형성된 홀에 각각 삽입되어 기판을 상하로 이동시키는 복수의 상승핀과, 상기 상승핀으로부터 분리되도록 배치되어 상기 상승핀을 밀어올리는 밀어올림기구가 구비되어, 상기 상승핀은 상하로 이동가능하도록 기판과 일체화되어 상기 판에 형성된 홀에 각각 삽입되어 기판을 상하로 이동시키고, 상기 밀어올림기구는 상승핀으로부터 분리되도록 배치되어 상기 상승핀을 밀어올림으로써, 상기 상승핀은 판의 가열 또는 냉각에 의해 홀에서의 변화를 따라 쉽게 움직일 수 있고, 상기 상승핀은 주위에 큰 간격을 필요로 하지 않고 아무 문제없이 얇게 될 수 있으며, 상기 기판 상에서의 온도분포� � 균일하지 않게 되는 것을 방지할 수 있는 효과가 있는 기판처리장치를 제시하고 있다.

8. 发明公开

KR1019980081800A 처리장치 失效
公开(公告)号：KR1019980081800A
公开(公告)日：1998-11-25
申请号：KR1019980015107
申请日：1998-04-28
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 타테야마키요히사
IPC分类号： H01L21/027
摘要： 본 발명은, 예를들면 LCD기판이나 반도체 웨이퍼와 같은 기판의 연부로부터 처리제를 제거하는 처리장치에 관한 것이다. 본 발명은 기판의 주변부를 노즐 요부의 입구로 안내하는 안내수단을 설치하여, 기판의 주변에 휨등이 발생하는 경우에도, 기판 주변부에 용제를 공급하는 노즐수단의 요부에 기판을 용이하게 삽입할 수 있으며, 상기 요부의 입구에 배치한 회전체에 용제를 분사하는 세정용취출홀을 그 근방에 배치함으로써, 용해된 처리제가 롤러에 부착하는 것을 방지할 수 있기 때문에 기판에 악영향이 미치지 않도록 하는 효과가 있다. 또한, 상기 노즐 요부 내에 기판의 단면에 맞닿아 기판 단면 및 그 근방에 부착한 처리제를 제거하는 제거부재를 설치함으로써, 용제를 공급하여 기판 주변부에 부착된 처리제를 확실히 제거할 수 있는 효과가 있는 처리장치를 제시하고 있다.

9. 发明公开

KR1019980019115A 처리액도포용도포장치 失效
标题翻译：治疗液体应用系统
公开(公告)号：KR1019980019115A
公开(公告)日：1998-06-05
申请号：KR1019970042105
申请日：1997-08-28
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 타테야마키요히사 , 가와사키테쯔
IPC分类号： H01L21/027
摘要： LCD 기판(2)에 포토 레지스트의 현상액(4)을 도포하기 위한 도포 장치(1)는, 기판(2)을 방향(D1)에 따라 직선적으로 반송하기 위한 반송 기구(5)를 갖는다. 반송 기구(5)는, 구동 롤러인 복수의 하측 반송 롤러(6)와 종동(從動) 롤러인 복수의 상측 반송 롤러(7)를 갖는다. 하측 반송 롤러(6) 중의 1개를 치환하는 형태로, 공급 노즐(3)의 바로 아래에 주(主)지지 롤러(8)가 배설(配設)된다. 기판(2)이 주(主)지지 롤러(8)상을 통과할 때, 현상액(4)을 공급하기 위해 현상액 공급 노즐(3)이 배설된다. 공급 노즐(3)은 가로방향으로 가늘고 긴 공급구(3a)를 가지며, 기판(2)의 피처리영역의 반송 방향(D1)에 대하여 직각인 폭 전체에 걸쳐 현상액(4)을 띠형상으로 한번에 공급할 수 있다.

10. 发明授权

KR100869553B1 기판처리장치, 액처리장치 및 액처리방법 失效
标题翻译：基板加工设备，液体加工设备和液体加工方法
公开(公告)号：KR100869553B1
公开(公告)日：2008-11-19
申请号：KR1020020034344
申请日：2002-06-19
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 타테야마키요히사 , 모토다키미오 , 사다테츠야 , 미야자키카즈히토 , 시노기타케토라
IPC分类号： H01L21/31
摘要： 본 발명은, 기판처리장치, 액처리장치 및 액처리방법에 관한 것으로, 수평방향으로 부설된 반송로상에서 피처리기판에 공급한 처리액을 기판상에서 단시간에 효율적으로 액제거하는 것을 목적으로 한다. 반송로(108)상에서 기판(G)이 소정위치에 걸리면, 반송롤러(138)의 회전을 멈추고 기판(G)을 정지시킨다. 직후에 구동부(188)를 작동시키고 승강축(186)을 상승시킨다. 그렇게 하면 베이스판(182) 및 리프트핀(184)도 상승하고 리프트핀(184)이 아래로부터 밀어올리듯이 하여 기판(G)을 반송로(108) 위쪽으로 들어올린다. 다음으로 베이스판(182)을 반송로(108)의 폭방향으로 연재하는 축(196)을 중심으로 하여 뒤쪽방향으로 소정 각도만큼 회전이동시킨다. 그렇게 하면 리프트핀(192), 스토퍼부재(194), 기판(G)도 반송로(108)위에서 뒤쪽방향으로 동일 각도만큼 기울인다. 기판(G)은 스토퍼부재(194)에 안착하고, 기판(G)상의 액(Q)은 중력으로 기판경사면을 뒤쪽으로 미끌어져 내리게 하여 기판 바깥쪽으로 낙하한다. 기판(G)에서 떨어진 액(Q)은 팬(130)에 수집되도록 하는 기술이 제시된다.

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