会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 6. 实用新型
    • ガスクロマトグラフ
    • 气相色谱仪
    • JP3200787U
    • 2015-11-05
    • JP2015004292
    • 2015-08-25
    • 株式会社島津製作所
    • 小島 雅弘
    • G01N30/62G01N30/02G01N30/54
    • 【課題】検出器用基板によって、検出器の検出信号を精度よく処理できるガスクロマトグラフを提供する。 【解決手段】ガスクロマトグラフ1は、オーブン3内を温調する温調部13と、検出器6に接続される検出器用基板16とを備えている。温調部13は、筐体2内において背面2B側に配置され、検出器用基板16は、筐体2内において前面側に配置されている。すなわち、検出器用基板16は、筐体2における温調部13の発熱の影響を受けない位置に配置されている。これにより、検出器用基板16が温調部13の発熱の影響を受けることを防止できる。その結果、検出器用基板16によって、検出器6の検出信号を精度よく処理できる。 【選択図】図2
    • 通过检测器基底,以提供检测器的气相色谱仪检测信号可以被精确地加工。 的气相色谱仪1包括调节烘箱3的温度的温度调整部13,以及连接到检测器6的检测器基板16。 温度控制部13在壳体2布置在后侧2B侧,探测器基板16在外壳2中被设置在正面上。 也就是说,检测器衬底16被布置在不受由壳体2的温度控制部13所产生的热量的位置处。 因此,检测器衬底16可以从受着由温度调整部13产生的热来防止。 其结果是,在检测器基板16中,检测器6的检测信号,可以准确地进行处理。 .The
    • 10. 发明专利
    • Gas chromatography device
    • 气相色谱仪
    • JP2014185953A
    • 2014-10-02
    • JP2013061352
    • 2013-03-25
    • Shimadzu Corp株式会社島津製作所
    • OBAYASHI KENICHI
    • G01N30/32G01N30/26G01N30/54G01N30/62G01N30/72G01N30/86
    • PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent air flowing into a sample vaporization chamber from the outside from flowing into a column to oxidize the inside of the column, when gas residual quantity in a carrier gas cylinder runs short.SOLUTION: If a user inputs a gas residual quantity determination condition item (for example, a carrier gas inflow flow rate into sample vaporization chamber 12), a determination threshold, a control object during column protective operation, and a control parameter value (for example, a target value of a gas flow rate in a flow controller 14), those information is stored in a column protective protection memory portion 42. During the execution of measurement, a carrier gas residual quantity determining portion 41 obtains, for example, a latest value of the carrier gas inflow flow rate, and compares that with the determination threshold. If it is determined that the gas residual quantity runs short, a column protective control portion 43 lowers the target value of the gas flow rate and a temperature setting value of a column oven 10. Therefore, gas pressure in the sample vaporization chamber 12 is lowered, so that the inflow of air can be avoided. Furthermore, the temperature of a column 11 is lowered, so that oxidation in the column 11 can be prevented.
    • 要解决的问题:为了防止从外部流入样品蒸发室的空气流入塔中,以使柱内部氧化,当载气气瓶中的气体残留量不足时。解决方案:如果用户输入气体 剩余量确定条件项目(例如,进入样品蒸发室12的载气流入流量),确定阈值,列保护操作期间的控制对象和控制参数值(例如,气流的目标值 流量控制器14中的速率),这些信息被存储在列保护保护存储部分42中。在执行测量期间,载气剩余量确定部分41获得例如载气流入流量的最新值 ,并将其与确定阈值进行比较。 如果确定气体残留量不足,则塔保护控制部43降低气体流量的目标值和塔式炉10的温度设定值。因此,样品蒸发室12中的气体压力降低 ,从而可以避免空气的流入。 此外,柱11的温度降低,从而可以防止柱11中的氧化。