专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

JP2021096133A 包装袋用ガス濃度測定装置审中-公开
公开(公告)号：JP2021096133A
公开(公告)日：2021-06-24
申请号：JP2019226983
申请日：2019-12-17
申请人：ゼネラルパッカー株式会社
发明人：大島雅志 , 長田直樹
IPC分类号： G01N21/39
摘要：【課題】コンベア上を個別に移送される包装袋をレーザー式ガス濃度計で測定することができ、特にピロー包装袋内のガス濃度を測定することができる包装袋用ガス濃度測定装置を提供する。【解決手段】ガス濃度測定装置10は、主ヘッド25から特定波長のレーザー光を、ピロー包装袋Bを透過するように射出し、当該レーザー光を副ヘッド26で受光して包装袋の透過前後で変化する特定波長の吸収スペクトルに基づいて包装袋の内部に残留している特定ガスのガス濃度を測定するように構成されている。包装袋を載置して間欠移送するコンベア11aを挟んで、コンベアの幅方向の両側に一対のガイド13a,13bを対向するように配置し、コンベアに載置された包装袋が主ヘッドと副ヘッドの間に移送されたとき、両ガイドで包装袋が挟み込まれて包装袋の上部が膨らむことによって形成された包装袋の内部の被測定空間をレーザー光が透過するようにした。【選択図】図1

2. 发明专利

JP2021085789A オンラインガス分析装置、電気集塵器の運転方法および脱硫塔の運転方法审中-公开
公开(公告)号：JP2021085789A
公开(公告)日：2021-06-03
申请号：JP2019215779
申请日：2019-11-28
申请人： JFEスチール株式会社
发明人：柿沼友行 , 青沼毅
IPC分类号： G01N21/03 , G01N21/39
摘要：【課題】オンラインかつ連続的に未精製のコークス炉ガス中の所定成分の濃度を分析できるオンラインガス分析装置を提案する。【解決手段】オンラインガス分析装置1は、サンプルガス採取管路20と、ガス分析部30と、抜出管路41、42とを備える。ガス分析部30は、中央部にサンプルガス採取管路30の他端20bが接続され、一端30a近傍に抜出管路41が接続され、他端30b近傍に抜出管路42が接続された測定管路31と、レーザー光を照射する発光部32と、レーザー光を受光する受光部33と、サンプルガスS中の所定成分の濃度を解析する解析部34と、不活性ガスを測定管路31内に流入させるガス導入部37、38とを有し、連結管路35、36の端部35a、36aが測定管路31よりも小さい径を有して測定管路31内に挿入されている。【選択図】図2

3. 发明专利

JP2021076431A 気体検知濃度測定装置审中-公开
公开(公告)号：JP2021076431A
公开(公告)日：2021-05-20
申请号：JP2019202036
申请日：2019-11-07
申请人：学校法人慶應義塾
发明人：津田裕之
IPC分类号： G01N21/39
摘要：【課題】単一の半導体レーザで、誤差の少ない気体検知及び濃度測定を実現する。【解決手段】半導体レーザと、半導体レーザ駆動回路と、光出射部と、光受光部と、電力計と、制御回路を有する気体検知濃度測定装置において、前記半導体レーザから出力される光を測定光と参照光に分岐する光分岐素子と、前記参照光に所定の遅延を与える遅延線と、遅延された前記参照光と、前記光出射部から出力され前記光受光部で受光された前記測定光を差動で受光する差動受光回路と、前記差動受光回路の出力に接続されるフィルタ回路と、を有し、前記半導体レーザの主発光線のスペクトル線幅が200MHz以下であり、前記半導体レーザ駆動回路による変調周波数f 0 が50kHz以下であり、前記フィルタ回路は、周波数n×f 0 (n=0、1、2、…)の信号を抽出し、前記フィルタ回路の出力に前記電力計が接続されている。【選択図】図1

4. 发明专利

JP2021043117A レーザ式ガス分析計审中-公开
公开(公告)号：JP2021043117A
公开(公告)日：2021-03-18
申请号：JP2019166584
申请日：2019-09-12
申请人：富士電機株式会社
发明人：中野芳樹 , 小泉和裕 , 山内芳准 , 武田直希
IPC分类号： H01S5/022 , H01S5/06 , H01S5/0687 , G01N21/39
摘要：【課題】波長ロス発生を防ぐ補正のための参照ガスセルを不要とし、装置を単純化してコストを低減したレーザ式ガス分析計を提供する。【解決手段】レーザ式ガス分析計は、レーザ光の第1波長掃引範囲に存在するガス吸収波形から測定対象ガスの濃度を測定する信号処理回路を備え、信号処理回路は、第1波長掃引範囲よりも範囲が拡張された第2波長掃引範囲でレーザ光の波長を掃引することで検出した複数のガス吸収波形のピーク波長の位置の相対関係により、測定対象ガスのガス吸収波形の第2波長掃引範囲におけるピーク波長の位置を特定し、特定した位置に基づいてレーザ光の第1波長掃引範囲を補正する補正部を有する。【選択図】図4

5. 发明专利

KR20210028327A KR20210028327A - System for optical emission spectrometer and method for calibration of optical emission spectrometer 审中-公开
公开(公告)号：KR20210028327A
公开(公告)日：2021-03-12
申请号：KR1020190109125A
申请日：2019-09-03
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김경훈 , 박태균 , 이용석 , 문정일 , 선종우 , 이형주
IPC分类号： G01J3/12 , G01J3/02 , G01N21/39
CPC分类号： G01J3/12 , G01J3/0202 , G01N21/39
摘要： 공정 챔버 내에 배치되는 가이드 레일; 및 상기 가이드 레일에 가동적으로 결합되는 광 조사부; 를 포함하되, 상기 광 조사부는 공정 챔버에 결합된 관측부를 향해 표준광을 조사하는 표준광 광원을 포함하는 OES 시스템이 제공된다.

6. 发明专利

KR102226368B1 KR102226368B1 - TDLAS gas detection apparatus comprising sonic standing wave 有权
公开(公告)号：KR102226368B1
公开(公告)日：2021-03-11
申请号：KR1020190147724A
申请日：2019-11-18
申请人： 한국생산기술연구원
发明人： 이창엽 , 유미연 , 소성현 , 정낙원
IPC分类号： G01N21/39 , G01N29/024 , G01N29/32
CPC分类号： G01N21/39 , G01N29/024 , G01N29/32 , G01N2021/399
摘要： 본원발명은 음향 정상파를 포함하는 TDLAS 기체 검출 장치 및 이를 이용한 기체 검출 방법이다. 구체적으로 시멘트 제조 공정 등의 다량의 분진이 발생하는 공정에 있어서, 음향의 정상파를 이용하여 분진을 일정한 영역에 포집하고 분진이 포집된 공간 이외에 레이저를 조사하여 기체의 농도 및 온도를 측정하는 검출장치 및 이를 이용한 기체 검출 방법에 관한 것이다.

7. 发明专利

JP2021507221A 水素ガスセンサ並びに周囲圧力下及び高い圧力下における水素の測定方法审中-公开
公开(公告)号：JP2021507221A
公开(公告)日：2021-02-22
申请号：JP2020532705
申请日：2018-12-17
申请人：ネオモニターズアクティーゼルスカブ , NEO MONITORS AS
发明人：アヴェティソフ、ヴャチェスラフ
IPC分类号： G01N21/39
摘要：ガスセンサは、水素ガス(H2)のin−situ非接触光学測定が可能であり、方法は、非常に長い光路長のセルを必要とせずに周囲圧力下及び高い圧力下で水素ガスを測定する。ガスセンサは、H2及びCO2等のデュアルガス測定用に構成され得る。

8. 发明专利

JP6802963B2 炭素同位体分析装置および炭素同位体分析方法有权
公开(公告)号：JP6802963B2
公开(公告)日：2020-12-23
申请号：JP2015035912
申请日：2015-02-25
申请人：国立大学法人東海国立大学機構 , 積水メディカル株式会社
发明人：井口哲夫 , 富田英生 , 西澤典彦 , 大原利成 , 井手野晃 , 佐藤淳史
IPC分类号： G01N21/01 , G01N21/3504 , G02F1/35 , G02F1/37 , G01N21/39

9. 发明专利

JP6779982B2 分子分光分析用顕微鏡有权
公开(公告)号：JP6779982B2
公开(公告)日：2020-11-04
申请号：JP2018509994
申请日：2016-05-06
申请人：バーデン−ヴュルテンベルクシュティフタンゲーゲーエムべーハー
发明人：クローガー−ルイ、ニールス
IPC分类号： G01N21/27 , G01N21/39 , G01N21/35 , G02B21/00 , G02B21/06 , G01J3/42

10. 发明专利

JPWO2019116660A1 半導体レーザ装置、半導体レーザ装置の駆動方法及び駆動プログラム审中-公开
公开(公告)号：JPWO2019116660A1
公开(公告)日：2020-10-22
申请号：JP2018034924
申请日：2018-09-20
申请人：株式会社堀場製作所
发明人：粟根悠介 , 西村克美 , 渋谷享司
IPC分类号： H01S5/024 , G01N21/39 , G01N21/3504 , H01S5/0687
摘要：本発明は、半導体レーザ素子の発振波数が周囲温度影響を受けて変動することを抑制するものであり、半導体レーザ素子2と、半導体レーザ素子2を温調する温調部32と、温調部32の温度を検出する温度センサ4と、温度センサ4の検出温度が所定の目標温度となるように温調部32への供給信号を制御する温度制御装置5とを備え、温度制御装置5は、温調部32への供給信号に応じて、温調部32の目標温度を変更する。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式