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1. 发明专利

JP2018200971A 光加熱装置审中-公开
公开(公告)号：JP2018200971A
公开(公告)日：2018-12-20
申请号：JP2017105473
申请日：2017-05-29
申请人：ウシオ電機株式会社
发明人：福原雄揮
IPC分类号： F27D11/00 , F27D15/02 , H05B3/00 , H01L21/26
摘要：【課題】ヒータランプと、凹面反射面を有するリフレクタとからなる照射ユニットを複数並置してなる光加熱装置において、隣接するヒータランプの間に位置するリフレクタの区画壁を冷却してリフレクタ全体からの排熱を効果的に行うことができるようにした構造を提供することである。【解決手段】前記リフレクタには、前記ヒータランプの間に位置する区画壁が形成されており、隣接する前記照射ユニット間の分割面が、前記区画壁を避けるように形成されていて、前記区画壁の内部には冷却媒体流路が形成されていることを特徴とする。【選択図】図1

2. 发明专利

JP2018142461A マイクロ波加熱処理装置审中-公开
公开(公告)号：JP2018142461A
公开(公告)日：2018-09-13
申请号：JP2017036356
申请日：2017-02-28
申请人：株式会社日立国際電気
发明人：藤本直也 , 福嶋崇嗣 , 伊藤裕
IPC分类号： H05B6/72 , D01F9/32 , F27D11/00 , F27D21/00 , F27B9/06 , H05B6/78
摘要：【課題】被加熱繊維の炭素化処理を高品質で行うことができる技術を提供すること。【解決手段】加熱処理室1の中でマイクロ波による加熱処理を行うマイクロ波加熱装置において、被加熱繊維3を挟むような配置で1対のアンテナを加熱処理室内もしくは室外に設置する。一方のアンテナから被加熱繊維に向かって高周波を照射する。被加熱繊維に照射した高周波の透過波と反射波とを、1対のアンテナにより検出する。検出した透過波と反射波の数値と誘電率との相関から、炭化の進行具合の良否を判断する。判断結果に従い、加熱に用いるマイクロ波の出力制御もしくはマイクロ波加熱の時間を調整する。【選択図】図4

3. 发明专利

JP2017010800A ランプ加熱装置审中-公开
标题翻译：灯加热装置
公开(公告)号：JP2017010800A
公开(公告)日：2017-01-12
申请号：JP2015125584
申请日：2015-06-23
申请人：光洋サーモシステム株式会社
发明人：服部昌
IPC分类号： F27D11/00 , H05B3/68
摘要：【課題】複数の線状発光体を被処理物に対して適正に配置することで、発光体の設計の複雑化や交換作業の煩雑化を伴うことなく平板状の被処理物の全面を均一に加熱できるようにする。【解決手段】線状発光体41〜43は、正方形の板状の被処理物Wの上面WAに対して、それぞれ法線方向について高さh1,h2,h3の高さ位置で、それぞれの間に水平方向について距離L2,L3の間隔を設けて配置した。高さh1は高さh2より長く、高さh2は高さh3より長くした。線状発光体44〜46は、線状発光体41〜43と左右対称となる位置に配置した。線状発光体41と線状発光体44との間には距離L2より長い距離L1の間隔が設けた。【選択図】図2
摘要翻译：多元线性发光体通过相对于所述物体适当地定位，以进行处理，而无需光的设计的发光元件均匀的更换作业的复杂化和复杂性要处理的板形物体的整个表面被加热到。线性发光体41至43，方形板状物体的上表面WA被处理W，或分别的高度h1，H2，H3为法线方向的高度位置时，每个之间它被放置在水平方向上的距离L2，L3的间隔。高度H1长于高度H2，高度H2大于高度H3长。线性发光体44至46被放置在适当的位置，其中所述线性发光体41至43对称。比线性发光元件41和线性发光体44之间的距离L2间隔长的距离L1被提供。 .The

4. 发明专利

JP2007120930A Heating device 审中-公开
标题翻译：加热装置
公开(公告)号：JP2007120930A
公开(公告)日：2007-05-17
申请号：JP2005317683
申请日：2005-10-31
申请人： Bando Densen Kk , 坂東電線株式会社
发明人： FURUHAMA KAZUMITSU , SHIBA KATSUMI
IPC分类号： F27D11/00 , C21D9/56 , C22C9/02 , C22C13/00 , C22F1/00 , C22F1/08 , C22F1/16 , F27B9/36 , H01B13/00 , H05B3/10
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a heating device capable of performing stable heating with a simple structure and reducing power consumption.
SOLUTION: This heating device comprises a first heating plate 1, a second heating plate 2 mounted in opposition to the first heating plate 1 at a prescribed distance and having a plurality of holes 5, and a halogen heater 3 mounted at a prescribed distance from a face 2a of the second heating plate 2. The heating device heats a heated object 4 in a state of placing the heated object 4 between the first heating plate 1 and the second heating plate 2.
COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够以简单的结构进行稳定加热并降低功耗的加热装置。解决方案：该加热装置包括第一加热板1，第二加热板2，其以规定距离安装成与第一加热板1相对并具有多个孔5;以及卤素加热器3，其安装在规定的距离第二加热板2的表面2a的距离。加热装置在将加热物体4放置在第一加热板1和第二加热板2之间的状态下加热被加热物体4.（C） 2007年，日本特许厅和INPIT

5. 发明专利

JP2007502549A Retention mechanism of the heating coil of high temperature diffusion furnace 审中-公开
公开(公告)号：JP2007502549A
公开(公告)日：2007-02-08
申请号：JP2006533357
申请日：2004-05-24
申请人：エムアールエルインダストリーズ
发明人：ビー．ペック，ケビン
IPC分类号： H01L21/22 , F27B17/00 , F27D11/00 , H01L21/00 , H05B3/66
CPC分类号： H05B3/66 , F27B17/0025 , F27D11/00 , H01L21/67109
摘要：電気炉内において使用する加熱アセンブリは、断熱材によって取り囲まれたらせん状の加熱要素と、加熱要素の巻線を既定の距離だけ離隔した状態に維持するためのスペーサの列と、を含んでいる。各スペーサは、加熱要素の略円周方向において対向し、断熱材が当接する半径方向のアンダーカットを形成するべくスペーサの中央領域に向かって収束している円周方向の側部部分を含んでいる。各列のスペーサは、加熱要素の長手方向の軸に平行に延長するスルーホールを具備している。スペーサの各列のスルーホールを貫通して、ガイドロッドが延長している。

6. 发明专利

JP2006523906A Apparatus and method for thermal treatment 有权
公开(公告)号：JP2006523906A
公开(公告)日：2006-10-19
申请号：JP2006504171
申请日：2004-04-13
申请人：ユナキス・バルツェルス・アクチェンゲゼルシャフト
发明人：アイゼンハンマー，トーマス , シュトリットマッター，ゲープハルト , ツァップフ，クラウス , マット，トーマス
IPC分类号： G11B7/26 , A21B1/00 , A21B1/22 , F27D11/00 , H01L21/00 , H01L21/687 , H05B3/06
CPC分类号： H01L21/67109 , G11B7/26 , H01L21/67098 , H01L21/68714
摘要：本発明は、基板の熱処理のための装置および方法に関するものであり、基板保持部を受けるための回転皿を伴なう環状の熱処理領域を含み、上記基板保持部は、各熱処理ゾーン内に少なくとも２つずつ相前後して配置され、上記熱処理ゾーンは、上記回転皿の中心点まわりに径方向にスポーク状に配置される。

7. 发明专利

JP2005331158A Microwave heat treatment device 审中-公开
标题翻译：微波热处理装置
公开(公告)号：JP2005331158A
公开(公告)日：2005-12-02
申请号：JP2004149445
申请日：2004-05-19
申请人： Takasago Ind Co Ltd , 高砂工業株式会社
发明人： OSHIMA SHIGETSU , KATO TETSUYA
IPC分类号： H05B6/74 , F27B7/34 , F27B7/42 , F27D11/00 , F27D19/00 , F27D21/00 , H05B6/80
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a rotary kiln type microwave heat treatment device capable of efficiently obtaining a homogeneous heat-treated object by microwave.
SOLUTION: This microwave heat treatment device comprises a furnace wall composed of a furnace shell of a steel material, and a heat insulating material mounted inside of the furnace shell, and sectioning a heating chamber 11, a shell 15a having a heated object supply port at its one end and a discharge port for discharging the heated object at the other end, penetrating through the heating chamber and rotating around an axis, and a microwave generator 16 for introducing microwave W into the heating chamber 11. A heat generating means H generating the heat by irradiation of microwave is mounted in the heating chamber 11.
COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI
摘要翻译：解决的问题：提供能够通过微波有效地获得均质的热处理物体的回转窑式微波热处理装置。解决方案：该微波热处理装置包括由钢材的炉壳构成的炉壁和安装在炉壳内部的绝热材料，并且分割加热室11，具有加热物体的壳体15a 供给端口和用于排出另一端的加热物体的排出口，穿过加热室并围绕轴线旋转;以及微波发生器16，用于将微波W引入加热室11.热产生装置通过微波照射产生热量的H安装在加热室11中。版权所有（C）2006，JPO＆NCIPI

8. 发明专利

JP2005093727A Thermal treatment equipment, thermal treatment method, and substrate treating device 有权
标题翻译：热处理设备，热处理方法和基板处理设备
公开(公告)号：JP2005093727A
公开(公告)日：2005-04-07
申请号：JP2003325113
申请日：2003-09-17
申请人： Dainippon Screen Mfg Co Ltd , 大日本スクリーン製造株式会社
发明人： FUKUMOTO YASUHIRO , MASUDA MITSUHIRO , AZUMA TORU
IPC分类号： H01L21/677 , F27B17/00 , F27D3/00 , F27D5/00 , F27D11/00 , H01L21/00 , H01L21/027 , H01L21/68
CPC分类号： H01L21/67184 , F27B17/0025 , F27D3/0084 , F27D5/0037 , H01L21/67109 , H01L21/67178 , H01L21/67748
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide thermal treatment equipment, a thermal treatment method, and a substrate treating device by which the heat accumulation in the holding section of a substrate transporting means can be suppressed with a simple structure without lowering the throughput of substrate treatment. SOLUTION: In a thermal treatment unit PHP, a substrate W is transported between a receiving/delivering section 201 and a heating section 202 in a state where the substrate W is held by a local transport hand RHR and the substrate W is heat-treated by means of the heating section 202. In addition, the local transport hand RHR is cooled by means of the cooling plate 250 of the receiving/delivering section 201. COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI
摘要翻译：要解决的问题：提供热处理设备，热处理方法和基板处理装置，通过该处理装置可以以简单的结构抑制基板输送装置的保持部中的热积聚而不降低生产量底物处理。解决方案：在热处理单元PHP中，在基板W被本地运送手RHR保持的状态下，基板W在接收/传送部分201和加热部分202之间传送，并且基板W是热的通过加热部202进行处理。此外，本地运送手RHR通过接收/传送部201的冷却板250被冷却。（C）2005年，JPO和NCIPI

9. 发明专利

JP2004515878A uv furnace for magnetic wire coating curing 审中-公开
公开(公告)号：JP2004515878A
公开(公告)日：2004-05-27
申请号：JP2001533799
申请日：2000-10-27
申请人：フュージョン・ユーヴィー・システムズ・インコーポレイテッド
发明人：エルヴィン、ロバート , シンボルスキー、チャールズ , レワレン、エド
IPC分类号： B01J19/12 , B05C9/12 , B05D3/02 , B05D3/06 , C21D9/52 , F26B3/28 , F26B13/00 , F27B9/36 , F27D11/00 , H05B3/00
CPC分类号： F26B13/002 , B01J19/123 , B01J19/127 , B01J19/128 , B01J2219/0879 , B05D3/0263 , B05D3/067 , B05D2202/45 , B05D2256/00 , F26B3/28 , H05B3/0038 , H05B2203/032
摘要：【課題】磁気ワイヤ又はワイヤ状要素上のコーティングを硬化するためにＵＶ照射、可視光照射、赤外線照射及び対流熱を発生する装置を提供する。
【解決手段】ワイヤ（１２）又はワイヤ状要素上のコーティングを硬化するためのＵＶ炉（２）が、第１及び第２の焦点ラインをもつコンパクトな縦長楕円形反射器（４）と、第２の焦点ラインを通るワイヤ状要素上のコーティングを硬化させるべく短波長ＵＶ照射及びＩＲ照射を発生する前記第１の焦点ラインに沿って設置された縦長バルブ（６）とを有し、反射器が短波長ＵＶ照射及びＩＲ照射の反射率を高めるための材料でコーティングされた内面を具備する。
【選択図】図１

10. 发明专利

JP2003251691A HEATING DEVICE FOR FOAMABLE RESIN SHEET 审中-公开
公开(公告)号：JP2003251691A
公开(公告)日：2003-09-09
申请号：JP2002057204
申请日：2002-03-04
申请人： USHIO ELECTRIC INC
发明人： MIZUKAWA YOICHI , HOSHIOKA AKIO
IPC分类号： H05B3/00 , B29C51/42 , B29K105/04 , F27D11/00
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a heating device of a foamable resin sheet whereby the whole of the foamable resin sheet of which one surface is provided with a pattern or a color and the other with nothing can be foamed sufficiently to be in an optimum state. SOLUTION: The heating device of the foamable resin sheet heats, by infrared rays, the foamable resin sheet in one surface A of which values of a color system are nonuniform and in the other surface B of which the values are uniform. On the opposite sides of the foamable resin sheet 1, a first heater 2 is disposed at a position opposite to one surface A wherein the values of the color system are nonuniform and a second heater 3 is disposed at a position opposite to the other surface B wherein the values are uniform. The value of the peak wavelength of the infrared rays radiated from the first heater 2 is larger than that of the peak wavelength from the second heater 3. COPYRIGHT: (C)2003,JPO

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