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1. 发明专利

JPWO2019163468A1 アクリルゴム組成物、架橋ゴム積層体及び燃料ホース审中-公开
公开(公告)号：JPWO2019163468A1
公开(公告)日：2021-02-25
申请号：JP2019003415
申请日：2019-01-31
申请人：日本ゼオン株式会社
发明人：成田智幸 , 茂▲崎▼ 紫穂
IPC分类号： C08K5/17 , C08F22/16 , B32B25/14 , F16L11/04 , C08L33/06
摘要：本発明の一態様は、アクリルゴム組成物において、カルボキシル基含有アクリルゴムと、多価アミン化合物と、ヘテロ原子含有アルコールを含む。

2. 发明专利

JPWO2016178429A1 撥水撥油剤組成物及び撥水撥油性繊維製品の製造方法审中-公开
公开(公告)号：JPWO2016178429A1
公开(公告)日：2018-02-22
申请号：JP2017516620
申请日：2016-05-02
申请人：日華化学株式会社 , ニッカコリアカンパニーリミテッド
发明人：吉野豪 , 西川誠 , 鄭旻時 , ▲裴▼ 恵媛 , 任智赫
IPC分类号： C09K3/18 , C08F20/18 , C08F22/16 , C08F22/18 , D06M15/277
CPC分类号： C08F220/22 , C09K3/18 , D06M15/256
摘要：本発明の撥水撥油剤組成物は、下記一般式(1)で表される単量体(A)と、下記一般式(2)で表される単量体及び下記一般式(3)で表される単量体からなる群から選ばれる少なくとも1種の単量体(B)と、を含む単量体組成物を共重合してなる共重合体を含有するものである。【化1】[式中、R1及びR2はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、R3及びR4はそれぞれ独立に、オキシ基、カルボニル基及びヒドロキシ基からなる群から選ばれる少なくとも1種の基を含んでいてもよい1価の含フッ素炭化水素基、又は、オキシ基、カルボニル基及びヒドロキシ基からなる群から選ばれる少なくとも1種の基を含んでいてもよいフッ素原子を含まない炭素数1〜30の1価の炭化水素基を表し、R3及びR4のうちの少なくとも一方は、オキシ基、カルボニル基及びヒドロキシ基からなる群から選ばれる少なくとも1種の基を含んでいてもよい1価の含フッ素炭化水素基であり、X1及びX2はそれぞれ独立に2価の有機基又は単結合を表す。]【化2】[式中、R5及びR6はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、R7は、オキシ基、カルボニル基及びヒドロキシ基からなる群から選ばれる少なくとも1種の基を含んでいてもよい、炭素数1〜30の1価の炭化水素基若しくは1価の含フッ素炭化水素基を表し、R8は水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、X3は2価の有機基又は単結合を表す。]【化3】[式中、R9及びR10はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、R11及びR12はそれぞれ独立に、オキシ基、カルボニル基及びヒドロキシ基からなる群から選ばれる少なくとも1種の基を含んでいてもよいフッ素原子を含まない炭素数1〜30の1価の炭化水素基を表し、X4及びX5はそれぞれ独立に2価の有機基又は単結合を表す。]

3. 发明专利

JPH0617413B2 失效
公开(公告)号：JPH0617413B2
公开(公告)日：1994-03-09
申请号：JP21351085
申请日：1985-09-26
申请人： MITSUBISHI PETROCHEMICAL CO
发明人： KANAYAMA KAORU , YOSHINO SHOJI
IPC分类号： C08G73/00 , C08F2/44 , C08F22/10 , C08F22/16 , C08F22/36 , C08F22/40 , C08G73/10 , C08G73/12 , C08L33/24 , C08L35/00 , C08L77/00 , C08L79/08

4. 发明专利

JP2729850B2 失效
公开(公告)号：JP2729850B2
公开(公告)日：1998-03-18
申请号：JP12514990
申请日：1990-05-15
申请人： FUJI SHASHIN FUIRUMU KK
发明人： MAEMOTO KAZUO , KAWAMURA KOICHI
IPC分类号： G03F7/038 , C08F22/16 , G03F7/039

5. 发明专利

JPH0629966B2 失效
公开(公告)号：JPH0629966B2
公开(公告)日：1994-04-20
申请号：JP9130283
申请日：1983-05-24
申请人： KOGYO GIJUTSUIN
发明人： ICHIMURA KUNIHIRO
IPC分类号： C08F20/00 , C08F2/44 , C08F2/48 , C08F20/10 , C08F22/16 , G03F7/004 , G03F7/038

6. 发明专利

JPH02238002A PHOTOSENSITIVE COMPOSITION 失效
公开(公告)号：JPH02238002A
公开(公告)日：1990-09-20
申请号：JP5818889
申请日：1989-03-10
申请人： NIPPON PAINT CO LTD
发明人： KAWABATA MASAMI
IPC分类号： C08F2/46 , C08F2/48 , C08F2/50 , C08F20/34 , C08F20/36 , C08F20/52 , C08F20/58 , C08F22/00 , C08F22/16 , G03F7/038
摘要： PURPOSE:To provide a polymer containing a specific group in the main chain skeleton as a radical-generation site and giving a negative-type photosensitive composition free from the thinning of the exposed film after development and exhibiting high sensitivity and resolution. CONSTITUTION:The objective polymer has a main chain skeleton consisting of C-C bond and containing the group of formula I or II [X is O, S or NR (R is H, 1-3C alkyl, etc.)] capable of causing decarbonation reaction of carboxyl group and generating a radical by the direct absorption of light or the light absorption of a sensitizer. The polymer is preferably produced by homopolymerizing a polymerizable compound having the group of formula I or II [e.g. N-(2-hydroxy-3-methacryloxypropyl)-N-phenylglycine], copolymerizing the compound with other monomer or copolymerizing two or more kinds of the compounds of formula I or II.

7. 发明专利

JPS6169744A Low viscosity polyester composition and manufacture 失效
标题翻译：低粘度聚酯组合物和制造
公开(公告)号：JPS6169744A
公开(公告)日：1986-04-10
申请号：JP14072585
申请日：1985-06-28
申请人： Union Carbide Corp
发明人： HIYUU CHIESUTAA GAADONAA
IPC分类号： C09K3/10 , C07C67/47 , C07C69/60 , C07C69/675 , C08F20/00 , C08F20/10 , C08F22/16 , C08F290/00 , C08F299/00 , C08F299/02 , C08G63/553
CPC分类号： C08G63/553

8. 发明专利

JPS5646581B2 失效
公开(公告)号：JPS5646581B2
公开(公告)日：1981-11-04
申请号：JP386976
申请日：1976-01-16
IPC分类号： G03F7/038 , C08F2/00 , C08F2/46 , C08F2/54 , C08F22/00 , C08F22/10 , C08F22/16 , C08F290/00 , C08F299/00 , C08J3/24 , C08J3/28 , G03F7/004 , G03F7/20 , G03G5/00 , H01L21/027 , H01L21/312 , H05K3/06

9. 发明专利

JPWO2014148345A1 接着剤組成物审中-公开
标题翻译：粘合剂组合物
公开(公告)号：JPWO2014148345A1
公开(公告)日：2017-02-16
申请号：JP2015506724
申请日：2014-03-13
申请人：日本ゼオン株式会社
发明人：友則中島 , 友則中島 , 正人坂本 , 正人坂本
IPC分类号： C09J109/04 , B32B25/10 , C08F20/42 , C08F22/16 , C08F36/04 , C09J11/06 , D06M15/693
CPC分类号： C09J4/06 , C08F220/44 , C08F222/10 , C08J5/128 , C08J2315/00 , C08J2377/06 , C08J2409/04 , C08L9/02 , C09J133/18 , D06M15/693
摘要： α,β−エチレン性不飽和ニトリル単量体単位10〜55重量%、共役ジエン単量体単位25〜89重量%、およびα,β−エチレン性不飽和ジカルボン酸モノエステル単量体単位1〜20重量%を有し、ヨウ素価が120以下である高飽和ニトリルゴム(A)のラテックス、ならびに、エチレン性不飽和基を分子中に2以上有する架橋助剤(B)を含有する接着剤組成物を提供する。【選択図】なし
摘要翻译： α，β-烯属不饱和腈单体单元10〜55重量％，共轭二烯单体单元为25〜89％（重量），和α，β-烯属不饱和二羧酸单酯单体单元1 已经20重量％，胶乳高饱和丁腈橡胶的碘值为120以下的（a），和粘合剂含有烯键式不饱和基团更在分子中具有交联助剂（B）的组合物提供的东西。系统技术领域

10. 发明专利

JP2004318080A Negative resist composition and resist pattern forming method 审中-公开
公开(公告)号：JP2004318080A
公开(公告)日：2004-11-11
申请号：JP2004051608
申请日：2004-02-26
申请人： Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd , 東京応化工業株式会社
发明人： IWASHITA ATSUSHI , TACHIKAWA TOSHIKAZU
IPC分类号： C08F22/16 , C08F220/28 , G03F7/033 , G03F7/038 , H01L21/027
CPC分类号： C08F22/16 , G03F7/0382
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a negative resist composition having improved resistance to dry etching and to electron beams from a scanning electron microscope (SEM) while solubility in an alkaline developing solution is maintained.
SOLUTION: The negative resist composition contains a polymer having any one kind of the dicarboxylic acid monoester compounds represented by general formula (1) and general formula (2) (where R1 and R2 represent 0-8C alkyl chains and R3 represents a substituent having at least ≥2 alicyclic structures, and R4 and R5 represent hydrogen atoms or 1-8C alkyl groups) as monomer components and an acid forming agent which generates an acid by receiving irradiation with light. According to such composition, a large quantity of polarizing plates having antireflection films excellent in physical strength and weatherability (more particularly light resistance) as surface protective films can be obtained at a low cost.
COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

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