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    • 8. 发明专利
    • Instrument and method for measuring impurity in gas
    • 用于测量气体中的污染物的仪器和方法
    • JP2005214827A
    • 2005-08-11
    • JP2004022936
    • 2004-01-30
    • Toshiba Corp株式会社東芝
    • KATANO MAKIKONISHIKI KAZUHIRO
    • G01N1/18G01N1/22G01N30/06G01N31/00
    • G01N31/005G01N1/18G01N2001/2217Y10T436/18
    • PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an instrument and a method for measuring impurities in gas capable of enhancing analytical precision by a simple measuring operation. SOLUTION: This instrument/method is provided with a capturing part for capturing impurities in gas into pure water, a dividing part for dividing a capturing solution captured by the capturing part into at least two, an oxidant addition part for adding an oxidant into at least either of the respective capturing solutions divided by the dividing part, and an analytical part for analyzing at least either of the capturing solution added with the oxidant or the capturing solution added with no oxidant. COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI
    • 要解决的问题:提供一种通过简单的测量操作提供能够提高分析精度的气体中的杂质的仪器和方法。 解决方案:该仪器/方法设置有用于将气体中的杂质捕获到纯水中的捕获部分,用于将捕获部分捕获的捕获溶液分成至少两个的分割部分,用于添加氧化剂的氧化剂添加部分 分解成由分割部分分割的各个捕获溶液中的至少一个,以及分析部分,用于分析添加有氧化剂的捕获溶液中的至少一种或不添加氧化剂的捕获溶液。 版权所有(C)2005,JPO&NCIPI