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    • 9. 发明专利
    • 多層配線基板の製造方法
    • 多层接线板制造方法
    • JP2015097254A
    • 2015-05-21
    • JP2014147757
    • 2014-07-18
    • 日立化成株式会社
    • 吉田 信之
    • H05K3/46H05K3/40
    • H05K3/423H05K3/0026H05K3/0035H05K3/421H05K3/4652H05K2201/0355H05K2201/09863H05K2201/2072H05K2203/1184H05K2203/1476H05K2203/1492
    • 【課題】表面の金属箔上の電解めっき層が厚くならないようにしつつ、ビアホール用穴内のめっきボイドの発生を抑制し、かつ、電解フィルドめっきにより充填されない一般的なビアホールを、電解フィルドめっき設備によって形成可能とする多層配線基板の製造方法を提供することを目的とする。 【解決手段】コンフォーマル工法又はダイレクトレーザ工法を用いて、上層配線用の金属箔から内層配線に到るビアホール用穴を設ける工程(1)と、前記ビアホール用穴内に、電解フィルドめっき層を形成することによって、ビアホールを形成する工程(2)とを有し、前記工程(2)における、電解フィルドめっき層の形成が、電解フィルドめっきの電流密度を電解フィルドめっきの途中で一旦低下させた後に再び増加させる電流密度変化を、前記電解フィルドめっき層が前記ビアホール用穴の開口部を塞ぐ前に、2回以上繰り返して行われる多層配線基板の製造方法。 【選択図】図1
    • 要解决的问题:提供一种多孔线路板制造方法,其抑制通孔的孔中的电镀空隙的发生,同时限制表面上的金属箔上的电解电镀层的厚度,并且允许电解填充电镀设备 以形成通孔,而不填充电解填充电镀。解决方案:多层布线板的制造方法包括:(1)从用于上层布线的金属箔到达内层布线的通孔的孔 通过使用保形法或直接激光法; (2)通孔形成电解填充镀层形成通孔的工序。 在步骤(2)中形成电解填充电镀层时,在电解填充电镀步骤中电解填充电镀的电流密度一度降低并且随后再次增加的电流密度变化反复进行两次及更多次 电解填充镀层填充用于通孔的孔的开口。