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    • 8. 发明专利
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    • 半导体设备
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    • 2015-11-13
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    • 半導体装置(100)は、バンプ搭載面(2S)を有する半導体集積回路(2)と、バンプ搭載面にバンプ(22)によって接続される薄膜キャパシタ部(1)とを備える。半導体集積回路(2)は、一方の極性の電源電圧(Vdd)が印加される第1電源パッド(21V)と、他方の極性の電源電圧(Gnd)が印加される第2電源パッド(21G)とを含む。薄膜キャパシタ部(1)は、第1電源パッドに接続される第1電極層(11)と、第2電源パッドに接続される第2電極層(12)と、第1電極層と第2電極層との間に形成された誘電体層(13)と、を含む。半導体装置は、半導体集積回路に電力を供給する電力供給経路(30)と、電力供給経路中に設けられ、第1電極層および第2電極層の体積抵抗率より高い体積抵抗率を有する金属系高抵抗材料からなる薄板状の金属抵抗部(17)とを備える。
    • 的半导体器件(100)包括具有凸块安装表面(2S)的半导体集成电路(2),薄膜电容器部通过凸块(22)连接到该凸块安装表面和(1)。 半导体集成电路(2),所述第二电源焊盘和电源电压(VDD)的一种极性的所述第一电源焊盘被施加(21V)时,供电电压(GND)的另一极性被施加(21G) 包括门。 薄膜电容器部(1)包括连接到所述第一电源焊盘(11),连接到所述第二电源焊盘(12),所述第一电极层和第二电极的第二电极层的第一电极层 包括层(13)之间形成的介电层,所述。 该半导体器件包括在所述供电路径设置用于为半导体集成电路(30)供给电力的电力供给路径,金属,带高体积电阻率比所述第一电极层的体积电阻率和所述第二电极层 和薄的板状的金属电阻器部分制成的高电阻材料(17)的。