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1. 发明专利

JP2011082178A Method for forming transparent electrode 审中-公开
标题翻译：形成透明电极的方法
公开(公告)号：JP2011082178A
公开(公告)日：2011-04-21
申请号：JP2010249019
申请日：2010-11-05
申请人： Asahi Glass Co Ltd , 旭硝子株式会社
发明人： MITSUI AKIRA , ODAKA HIDEFUMI , YONEMORI SHIGEAKI , AKAO YASUHIKO
IPC分类号： H01B13/00 , C01G19/02 , C03C17/245 , C23C14/08 , C23C14/34 , G02F1/1343 , H01B5/14 , H01J9/02 , H01L31/18
CPC分类号： C03C17/245 , C03C2217/231 , C03C2218/154 , C03C2218/328 , C03C2218/33 , G02F1/13439 , H01J9/02 , H01J2217/04 , H01L31/1884 , Y02E10/50
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing a transparent electrode, including a tin oxide film capable of being easily patterned and realized at low cost and having a low resistance and excelling transparency.
SOLUTION: The method of manufacturing the transparent electrode on the substrate of which the patterned tin oxide film is formed includes a step of forming a SnO
2 -x film (0.3≤x≤1.95) on a substrate; a step of removing a part of the SnO
2 -x film and patterning it; and a step of turning the patterned SnO
2 -x film into the tin oxide film, by heat treatment, or the method includes a step for forming a tin oxide film whose film density is 6.5 g/cm
3 or less on the substrate; a step of removing a part of the tin oxide film whose film density is 6.5 g/cm
3 or less and patterning it; and a step of turning the patterned tin oxide film whose film density is 6.5 g/cm
3 or less into a tin oxide film by heat treatment.
COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT
摘要翻译：解决的问题：提供一种制造透明电极的方法，其包括能够以低成本容易地图案化和实现的具有低电阻和优异透明度的氧化锡膜。＆lt; P＆gt;解决方案：在其上形成图案化氧化锡膜的基板上制造透明电极的方法包括以下步骤：将SnO 2 SBS-x薄膜（0.3≤x≤1.95）形成在底物; 去除部分SnO 2 SB薄膜并使其图案化的步骤; 以及通过热处理将图案化SnO 2 SBS-2膜转变成氧化锡膜的步骤，或者该方法包括形成膜密度为6.5g / cm 3的氧化锡膜的步骤， SP> 3 以下; 除去膜密度为6.5g / cm 3以上的氧化锡膜的一部分，使其图案化的工序; 以及通过热处理将膜密度为6.5g / cm 3以上的图案化氧化锡膜转印到氧化锡膜中的工序。版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

2. 发明专利

JPWO2005076292A1 透明電極の製造方法有权
公开(公告)号：JPWO2005076292A1
公开(公告)日：2007-10-18
申请号：JP2005517712
申请日：2005-02-02
申请人：旭硝子株式会社
发明人：光井　彰 , 彰光井 , 秀文小高 , 秀文小高 , 重明米森 , 重明米森 , 赤尾　安彦 , 安彦赤尾
IPC分类号： H01B13/00 , C03C17/245 , C23C14/08 , G02F1/1343 , H01B5/14 , H01J9/02 , H01L31/18
CPC分类号： C03C17/245 , C03C2217/231 , C03C2218/154 , C03C2218/328 , C03C2218/33 , G02F1/13439 , H01J9/02 , H01J2217/04 , H01L31/1884 , Y02E10/50
摘要：容易にパターニングが可能で、かつ低コストで実現可能な低抵抗で透明性に優れた酸化スズ膜からなる透明電極の製造方法の提供。基板上にパターニングされた酸化スズ膜を形成した透明電極の製造方法であって、基板上に光吸収性を有する酸化スズ膜を形成する工程、光吸収性を有する酸化スズ膜の一部をエッチング液で溶解してパターニングする工程、パターニングされた光吸収性を有する酸化スズ膜を加熱処理し酸化スズ膜とする工程とを含むことを特徴とする透明電極の製造方法。

3. 发明专利

JP4655939B2 The method for producing a transparent electrode 有权
公开(公告)号：JP4655939B2
公开(公告)日：2011-03-23
申请号：JP2005517712
申请日：2005-02-02
申请人：旭硝子株式会社
发明人：彰光井 , 秀文小高 , 重明米森 , 安彦赤尾
IPC分类号： H01B13/00 , C03C17/245 , C23C14/08 , G02F1/1343 , H01B5/14 , H01J9/02 , H01L31/18
CPC分类号： C03C17/245 , C03C2217/231 , C03C2218/154 , C03C2218/328 , C03C2218/33 , G02F1/13439 , H01J9/02 , H01J2217/04 , H01L31/1884 , Y02E10/50

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