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1. 发明专利

JP6054112B2 光学リソグラフィでの照明光源形状定義有权
标题翻译：照明光源的形状在光学光刻定义
公开(公告)号：JP6054112B2
公开(公告)日：2016-12-27
申请号：JP2012204768
申请日：2012-09-18
申请人：アイメック , IMEC , アーエスエムエル・ネザーランズ・ベスローテン・フェンノートシャップ , ASML Netherlands B.V.
发明人：岩瀬和也 , ペーテル・デ・ビショップ
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/36
CPC分类号： G03F7/70125 , G03F1/36 , G03F7/70425 , G03F7/70433 , G03F7/70441

2. 发明专利

JP2015534123A マイクロリソグラフィ装置を作動させる方法有权
标题翻译：一种操作微光刻设备的方法
公开(公告)号：JP2015534123A
公开(公告)日：2015-11-26
申请号：JP2015535993
申请日：2012-10-08
申请人：カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
发明人：ミヒャエルパトラ , ミヒャエルパトラ
IPC分类号： G03F7/20 , G02B19/00 , G02B26/08
CPC分类号： G03F7/70558 , G03F7/70075 , G03F7/70083 , G03F7/70091 , G03F7/70116 , G03F7/70125 , G03F7/70133 , G03F7/70358 , G03F7/704 , G03F7/7055
摘要：マイクロリソグラフィ装置を作動させる方法は、アレイ上の光放射照度分布が第1の線(76)に沿って少なくとも50%だけ変化する傾斜可能ミラー(M)のアレイ(34)を含む照明系(20)を与える段階と、走査方向(Y)と平行に延びて第1の線(76)の像である第2の線(76’)に沿って、照明視野(26)を通して移動する点に対して走査積分ターゲット角度光分布及びターゲット光エネルギを指定する段階と、第1の線(76)が通って延びるミラー(M)の群(80)を決定する段階と、その点に対する実角度光分布及び実光エネルギがそれぞれのターゲット値を近似するような群(80)のミラー(M)の傾斜角を決定する段階と、アレイ(34)の像をマスク(14)上に形成することによって照明視野(26)を生成する段階と、マスク(14)が走査方向(Y)に沿って移動する間にマスク(14)の一部分を面(16)上に結像する段階とを含む。【選択図】図3
摘要翻译：一种操作光刻设备的微方法，包括在阵列上可倾斜反射镜的光的辐照分布的阵列的照明系统是由至少50％沿着第一线（76）（M）（34）（20改变）包括提供，沿扫描方向的步骤（Y）和第二线（76延伸的第一线（76平行的图像）“），以通过照明场移动的点（26）指定扫描积分目标角度光分布和目标光能量碲，确定线中的第一组（76）反射镜延伸穿过（M）（80），该点的实际角度光分布的一个步骤和实际的光能量的步骤，以确定该组（80）的反射镜（M）的倾斜角度，从而通过在掩模上形成的阵列（34）的图像，以分别接近于目标值，照明（14）产生的视图（26）的场，图像上表面（16）的掩模（14）的部分，而所述掩模（14）被沿着扫描方向（Y）要和舞台。点域

3. 发明专利

JP5686567B2 露光条件及びマスクパターンを決定するプログラム及び方法有权
标题翻译：程序和方法，用于确定曝光条件和掩模图案
公开(公告)号：JP5686567B2
公开(公告)日：2015-03-18
申请号：JP2010234915
申请日：2010-10-19
申请人：キヤノン株式会社
发明人：禎荒井 , 禎荒井
IPC分类号： H01L21/027 , G03F1/70 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/705 , G03F1/70 , G03F7/70125 , G03F7/70441

4. 发明专利

JP5676476B2 集積回路の物理的配置を最適化するためのリソグラフィ装置の照明条件セットの選択方法有权
标题翻译：放置WO最好月为场选择方法贮存场光刻设备卢照明条件集成电路卢物理目标
公开(公告)号：JP5676476B2
公开(公告)日：2015-02-25
申请号：JP2011545313
申请日：2010-01-08
申请人：タクミテクノロジーコーポレイション , タクミテクノロジーコーポレイション
发明人：マリアベルケンス，マルティヌス , マリアベルケンス，マルティヌス , ミタル，アニュラグ
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70658 , G03F7/70125 , G03F7/705 , G03F7/70525 , G03F7/70558

5. 发明专利

JP5178257B2 Parameter determining method, exposure method, device manufacturing method, and program 有权
公开(公告)号：JP5178257B2
公开(公告)日：2013-04-10
申请号：JP2008064823
申请日：2008-03-13
申请人：キヤノン株式会社
发明人：啓人吉井 , 好一郎辻田 , 晃司三上
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70441 , G03F1/36 , G03F7/70125 , G03F7/705

8. 发明专利

JP2012098397A Program for creating data of mask 有权
标题翻译：创建面膜数据的程序
公开(公告)号：JP2012098397A
公开(公告)日：2012-05-24
申请号：JP2010244368
申请日：2010-10-29
申请人： Canon Inc , キヤノン株式会社
发明人： ISHII HIROYUKI , TSUJITA KOICHIRO
IPC分类号： G03F1/68
CPC分类号： G03F1/36 , G03F7/70125 , G03F7/70441 , G03F7/705
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a mask data creation program and a method in which a resolution performance can be made compatible with suppression of mask manufacturing costs.SOLUTION: A program is provided which causes a computer to create data of a mask to be used for an exposure device which exposes a substrate using a projection optical system for projecting an image of a pattern of the mask on the substrate. The mask includes a main pattern for resolving a target pattern to be formed on the substrate and an auxiliary pattern not for resolving the target pattern, sets values of parameters of the main pattern and the auxiliary pattern, and calculates an image in the case where the main pattern and the auxiliary pattern determined with the values of the parameters of the main pattern and the auxiliary pattern are projected using the projection optical system. On the basis of a result of performing the calculation after changing the values of the parameters of the main pattern and the auxiliary pattern, the values of the parameters of the main pattern and the auxiliary pattern are determined, and data of a mask including the determined main pattern and auxiliary pattern are created.
摘要翻译：要解决的问题：提供掩模数据创建程序和可以使分辨率性能与抑制掩模制造成本兼容的方法。解决方案：提供了一种程序，其使得计算机创建用于曝光设备的掩模的数据，所述曝光设备使用投影光学系统曝光基板，用于将掩模图案的图像投影在基板上。掩模包括用于分辨要形成在基板上的目标图案的主图案和不用于分辨目标图案的辅助图案，设定主图案和辅助图案的参数值，并且计算图像的情况下使用投影光学系统投影使用主图案和辅助图案的参数的值确定的主图案和辅助图案。基于在改变主图案和辅助图案的参数的值之后执行计算的结果，确定主图案和辅助图案的参数的值，以及包括确定的掩模的掩模的数据创建主图案和辅助图案。版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

9. 发明专利

JP4812470B2 Photomask and an exposure method 有权
标题翻译：空值
公开(公告)号：JP4812470B2
公开(公告)日：2011-11-09
申请号：JP2006062994
申请日：2006-03-08
申请人：ルネサスエレクトロニクス株式会社
发明人：誠司松浦
IPC分类号： G03F1/70 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70441 , G03F1/36 , G03F7/70125 , G03F7/70433

10. 发明专利

JP4804294B2 Mask data generation program, mask data generation method, mask fabrication method, exposure method and device manufacturing method 有权
公开(公告)号：JP4804294B2
公开(公告)日：2011-11-02
申请号：JP2006254980
申请日：2006-09-20
申请人：キヤノン株式会社
发明人：賢治山添
IPC分类号： G03F1/68 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70433 , G03F1/36 , G03F7/70125

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