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1. 发明专利

JP5935852B2 光学ユニット、照明光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法有权
标题翻译：一种光学单元，照明光学装置，曝光装置，以及元件制造方法
公开(公告)号：JP5935852B2
公开(公告)日：2016-06-15
申请号：JP2014196217
申请日：2014-09-26
申请人：株式会社ニコン
发明人：谷津修
IPC分类号： G02B19/00 , G03F7/20
CPC分类号： G02B27/0927 , F21V13/02 , F21V14/003 , F21V9/14 , G02B27/0938 , G02B27/1086 , G02B27/126 , G02B27/286 , G03F7/70058 , G03F7/70116 , G03F7/70566

2. 发明专利

JPWO2012137842A1 照明装置、露光装置、デバイス製造方法、導光光学素子及び導光光学素子の製造方法审中-公开
公开(公告)号：JPWO2012137842A1
公开(公告)日：2014-07-28
申请号：JP2013508910
申请日：2012-04-04
申请人：株式会社ニコン
发明人：圭奈良 , 圭奈良
IPC分类号： H01L21/027 , G02B19/00 , G03F7/20
CPC分类号： G02B27/0927 , G02B5/0816 , G02B6/0006 , G02B27/0938 , G03F7/70075
摘要：被照射面に照明光を照射する照明装置であって、第1面および第2面を有し、前記第1面から入射した前記照明光を導光して前記第2面から出射させる導光光学素子と、前記第2面と前記被照射面とを光学的に共役にし、前記第2面から出射した前記照明光を前記被照射面に集光させる集光光学系と、を備え、前記導光光学素子は、前記第1面および前記第2面をそれぞれ端面として柱状に形成され、前記第1面から入射した前記照明光の少なくとも一部を側面により全反射させて前記第2面から出射させる柱状光学部材と、前記第2面の周囲の前記側面のうち少なくとも一部に被覆された被覆部材と、を含み、前記被複部材は、前記側面のうち該被複部材に覆われた被覆側面部において前記照明光が全反射可能な屈折率を有する。

3. 发明专利

JP5141491B2 Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method 有权
公开(公告)号：JP5141491B2
公开(公告)日：2013-02-13
申请号：JP2008263405
申请日：2008-10-10
申请人：株式会社ニコン
发明人：修谷津
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G02B27/0927 , F21V9/14 , F21V13/02 , F21V14/003 , G02B27/0938 , G02B27/1086 , G02B27/126 , G02B27/286 , G03F7/70058 , G03F7/70116 , G03F7/70566
摘要： The present invention pertains to an optical unit which can be arranged in optical system of an illumination apparatus for illuminating a first surface with light from a light source, the optical unit comprising a light splitter to split an incident beam traveling in an incident light path, into a plurality of beams; a first spatial light modulator which can be arranged in an optical path of a first beam out of the plurality of beams and which forms a desired illuminant distribution at a pupil plane of the illumination apparatus; a second spatial light modulator which can be arranged in an optical path of a second beam out of the plurality of beams and which forms a desired illuminant distribution at the pupil plane of the illumination apparatus; and a light combiner to combine a beam having passed via the first spatial light modulator, with a beam having passed via the second spatial light modulator, and to direct a resultant beam to an exiting light path; wherein at least one spatial light modulator out of the first spatial light modulator and the second spatial light modulator includes a plurality of optical elements arranged two-dimensionally and controlled individually; wherein the incident light path on the light splitter side and the exiting light path on the light combiner side extend in the same direction; and, wherein the light splitter includes a polarization separating film.

4. 发明专利

JPWO2005010592A1 レーザ装置审中-公开
公开(公告)号：JPWO2005010592A1
公开(公告)日：2007-04-19
申请号：JP2005512035
申请日：2004-07-23
申请人：浜松ホトニクス株式会社
发明人：要武馬 , 要武馬
IPC分类号： G02B27/10 , G02B6/42 , G02B27/09
CPC分类号： G02B6/4206 , G02B19/0014 , G02B19/0057 , G02B27/0938
摘要：レ−ザ装置10は、半導体レ−ザアレイ28を光源として有する。半導体レ−ザアレイの出力ビ−ムは、ビ−ム分割素子18によって複数のビ−ムに分割される。これらのビ−ムは、鉛直面内で分岐した光路上を進行する。視野レンズ20およびビ−ム合成素子22は、これらの分割ビ−ムを水平面内で重ね合わせ、一本のビ−ムに合成する。このビ−ムは集光レンズ24によって集光された後、光ファイバ26に入射する。

5. 发明专利

JPS6122323A Method and apparatus for altering phase characteristic of beam in coherent radiation 失效
标题翻译：用于改变相干辐射中光束相位特性的方法和装置
公开(公告)号：JPS6122323A
公开(公告)日：1986-01-30
申请号：JP8995585
申请日：1985-04-27
申请人： Crosfield Electronics Ltd
发明人： EDOWAADO KURISUTOFUAA IIDON
IPC分类号： G01M11/00 , G02B27/09 , G02F1/03 , G02F1/11
CPC分类号： G02B27/0938 , G02B27/09 , G02B27/0911 , G02F1/0327 , G02F1/11

6. 发明专利

JPS5969728A Formation of elliptical beam 失效
标题翻译：椭圆形梁的形成
公开(公告)号：JPS5969728A
公开(公告)日：1984-04-20
申请号：JP18118282
申请日：1982-10-14
申请人： Fujitsu Ltd
发明人： ANDOU MORITOSHI , MITA KIKUO , KAKIGI GIICHI
IPC分类号： G01N21/88 , G01N21/956 , G02B27/09 , G02B27/28
CPC分类号： G02B27/0938 , G02B27/09
摘要： PURPOSE:To form light which is emitted by irradiating a laser to a double refraction crystal plate to an elliptical beam which is small in a ratio of a short axis and a long axis, and to raise reflection intensity at the time of scanning, by providing plural pieces of a combination in which double refraction crystal plates having different thicknesses are alternately combined with a 1/2 wavelength plate, respectively. CONSTITUTION:A 1/2 wavelength plate 23 is placed between double refraction crystal plates 21, 22 whose thickness is different from each other, and when a laser light 24 is made incident to the double refraction crystal plate 21, laser light is separated into optical beams 25, 26. When these separated optical beams 25, 26 are made incident to the 1/2 wavelength plate 23, and its emitted optical beams 27, 28 are made incident to the double refraction crystal plate 22, four optical beams 29-32, whose beam center positions are displaced from the original beam, are obtained. This optical beam has no mutual interference since the deflecting face is separated by 45 deg. by the 1/2 wavelength plate 23, and an elliptical beam having intensity of the sum of each light intensity is formed.
摘要翻译：目的：为了形成通过将激光照射到双折射晶体板而发射到短轴和长轴的比率小的椭圆光束而发射的光，并且通过提供扫描时提高反射强度分别具有不同厚度的双折射晶体板与1/2波长板交替组合的多个组合。构成：将1/2波长板23放置在厚度彼此不同的双折射晶体板21,22之间，并且当激光24入射到双折射晶体板21时，将激光分离成光当这些分离的光束25,26入射到1/2波长板23，并且其发射的光束27,28入射到双折射晶体板22时，四个光束29-32 ，其光束中心位置与原始光束位移。由于偏转面分离了45度，该光束没有相互干扰。通过1/2波长板23形成具有每个光强度之和的强度的椭圆光束。

7. 发明专利

JPWO2013157605A1 ビーム整形装置有权
标题翻译：光束整形机构
公开(公告)号：JPWO2013157605A1
公开(公告)日：2015-12-21
申请号：JP2014511246
申请日：2013-04-18
申请人：浜松ホトニクス株式会社
发明人：直也松本 , 直也松本 , 卓井上 , 卓井上 , 優瀧口 , 優瀧口
IPC分类号： G02F1/01 , B23K26/064 , G02B26/06 , G02F1/13
CPC分类号： G02B27/0927 , G02B21/16 , G02B26/06 , G02B27/0938 , G02F1/19 , G02F2203/50
摘要：ビーム整形装置10Aは、位相変調型のSLMにより構成され、入射光P1の位相を変調するための第一位相パターンを表示する第一位相変調部12と、位相変調型のSLMにより構成され、第一位相変調部12と光学的に結合され、第一位相変調部12によって位相変調された光P2の位相を更に変調するための第二位相パターンを表示する第二位相変調部14と、第一、第二位相変調部12、14それぞれに第一、第二位相パターンを与える制御部16とを備える。第一、第二位相パターンは、第二位相変調部14から出力される光P3の強度分布及び位相分布を所定の分布に近づけるための位相パターンである。
摘要翻译：束变换器10A由SLM相位调制型，用于显示第一相位图案来调制入射光P1的相位的第一相位调制器部分12，由SLM相位调制型构成构成，所述单相调制器12和光学耦合到所述第二相位调制器14，用于显示第二相位图案由所述第一相位调制器12，第一，以进一步调制相位调制光P2的相和第一控制单元16，以提供第二相位图案到每个第二相位调制部12，14。第一和第二相位图案是相位图案从所述第二相位调制器14的光P3输出的强度分布和相位分布接近到预定的分布。

8. 发明专利

JP2012515935A New optical devices based on conical refraction 有权
$New optical devices based on conical refraction$
公开(公告)号：JP2012515935A
公开(公告)日：2012-07-12
申请号：JP2011545796
申请日：2010-01-21
申请人：ザユニバーシティオブダンディーThe University Of Dundee
发明人：アブドルバンド，アミン , カルカンドジエブ，トドル , ラファイロフ，エディック
IPC分类号： G02B27/00 , H01S3/16
CPC分类号： H01S3/09415 , G02B27/0927 , G02B27/0938 , H01S3/0014 , H01S3/08 , H01S3/094053 , H01S3/1611 , H01S3/1675 , H01S2301/203
摘要：入力ビームを光軸に沿って投影する入力光源（３３）と、入力ビーム（３５）から円錐屈折ビーム（４１）を生成し、次いで入力ビーム（４９）を復元する光素子（３７、４３）とを備える光学システム（３１）。この光素子は、円錐屈折ビームを生成し、光素子（４３）を用いて円錐屈折ビームに位相シフトを印加して、ビームを復元する第１の円錐屈折素子（３７）を備えることができる。この光学システムを用いて、レーザー、またはレーザー用利得媒質を形成することができる。

9. 发明专利

JP2007516455A Diffuse structure 审中-公开
公开(公告)号：JP2007516455A
公开(公告)日：2007-06-21
申请号：JP2006518280
申请日：2004-07-02
申请人：サン−ゴバングラスフランス
发明人：プラー，オーレリア , ベルティン−ムーロ，トーマス
IPC分类号： G02B5/02 , G02B5/30 , G02B27/00 , G02B27/09 , G02F1/13357
CPC分类号： G02B27/0938 , G02B5/0226 , G02B5/0278 , G02F1/1336 , Y10T428/10 , Y10T428/25 , Y10T428/31504 , Y10T428/31678
摘要：本発明の拡散構造は光源を均質化する少なくとも１つの拡散層を含む拡散構造において、前記光源からの電磁波スペクトルの一部をフィルターして除去する少なくとも１つの熱可塑性シートを含む。本発明は背面照明システムおよび／又は映写システムおよび／又はフラットランプシステムにおける拡散構造の利用にも関する。

10. 发明专利

JP2005157375A Photomask including shadowing element, and related method and system 有权
标题翻译：照片包括阴影元素，相关方法和系统
公开(公告)号：JP2005157375A
公开(公告)日：2005-06-16
申请号：JP2004339143
申请日：2004-11-24
申请人： Samsung Electronics Co Ltd , 三星電子株式会社
发明人： KIM SOONHO , SAI SEIUN , BUN SEIYO , BOKU CHINKO
IPC分类号： G03F1/60 , G03F7/20 , H01L21/027 , G03F1/14
CPC分类号： G03F7/70191 , G02B5/1871 , G02B27/09 , G02B27/0927 , G02B27/0938 , G02B27/46 , G03F1/50
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photomask including a shadowing element, and to provide a method and system relating to the same.
SOLUTION: The photomask 311 for patterning an integrated circuit device 303 by using pattern irradiation 321 includes a transparent substrate 315, an irradiation blocking pattern 317, and an array 319a, 319b of shadowing elements. The transparent substrate 315 has first and second opposing surfaces, and the irradiation blocking pattern 317 is formed on at least one of the first and second surfaces of the transparent substrate 315. The irradiation blocking pattern 317 defines a pattern to be transferred onto the integrated circuit device 303. The array 319a, 319b of shadowing elements are disposed inside the transparent substrate 315 between the first and second surfaces. The shadowing elements of the array 319a, 319b have light transmitting characteristics different from those of an adjacent part of the transparent substrate 315.
COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI
摘要翻译：要解决的问题：提供包括阴影元件的光掩模，并提供与其相关的方法和系统。解决方案：通过使用图案照射321图案化集成电路器件303的光掩模311包括透明衬底315，照射阻挡图案317和阴影元件的阵列319a，319b。透明基板315具有第一和第二相对表面，并且照射阻挡图案317形成在透明基板315的至少一个第一表面和第二表面上。照射阻挡图案317限定要转印到集成电路上的图案遮蔽元件的阵列319a，319b设置在第一和第二表面之间的透明基板315的内部。阵列319a，319b的阴影元件具有与透明基板315的相邻部分不同的透光特性。（C）2005，JPO＆NCIPI

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