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1. 发明专利

JP2006049860A Composition for stripping and cleaning and use thereof 审中-公开
标题翻译：用于剥离和清洁的组合物及其用途
公开(公告)号：JP2006049860A
公开(公告)日：2006-02-16
申请号：JP2005190183
申请日：2005-06-29
申请人： Air Products & Chemicals Inc , エアプロダクツアンドケミカルズインコーポレイテッドAir Products And Chemicals Incorporated
发明人： EGBE MATTHEW I , LEGENZA MICHAEL , WIEDER THOMAS , RIEKER JENNIFER M
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/027
CPC分类号： H01L21/02071 , C11D7/10 , C11D7/263 , C11D7/3209 , C11D11/0047 , C23G1/061 , C23G1/18 , G03F7/425 , H01L21/02063 , H01L21/31133
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a composition for cleaning removing a residue caused by selective etching and to provide a processing method.
SOLUTION: A composition comprises: one or more water-soluble organic solvents containing a glycol ether; water; a fluorine-containing compound on condition that further fluorine-containing compounds are not added to the composition in such a case that the fluorine-containing compound is ammonium fluoride; optionally a quaternary ammonium compound; and furthermore optionally a corrosion inhibitor. In addition, a processing method includes providing contact between the composition and a substrate.
COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于清洁去除由选择性蚀刻引起的残留物的组合物，并提供加工方法。解决方案：组合物包含：一种或多种含有二醇醚的水溶性有机溶剂; 水; 在含氟化合物为氟化铵的情况下，在组合物中不加入含氟化合物的条件下，含氟化合物; 任选的季铵化合物; 以及任选的腐蚀抑制剂。此外，加工方法包括提供组合物与基材之间的接触。版权所有（C）2006，JPO＆NCIPI

2. 发明专利

JP2005529363A Microelectronics cleaning and arc removal composition 有权
公开(公告)号：JP2005529363A
公开(公告)日：2005-09-29
申请号：JP2004511911
申请日：2003-05-27
申请人：マリンクロッド・ベイカー・インコーポレイテッドMallinckrodt Baker Inc.
发明人：チェン−ピン・シャーマン・シュ
IPC分类号： C11D1/00 , C11D7/50 , C23G1/00 , C23G1/06 , G03F7/42 , H01L21/027 , H01L21/304 , H05K3/26
CPC分类号： C23G1/061 , C11D11/0047 , G03F7/425 , H05K3/26 , H05K2203/0783 , H05K2203/121 , H05K2203/122
摘要：二酸化珪素、低κまたは高κの誘電体、および、銅またはアルミニウム金属被覆を有するマイクロエレクトロニクス構造の洗浄に適する洗浄組成物は、アミド類、スルホン類、スルホレン類、セレノン類および飽和アルコール類から選択される極性有機溶媒および強アルカリ塩基を含有する。

3. 发明专利

JP2004506322A Chemical mechanical planarization apparatus cleaning composition 审中-公开
公开(公告)号：JP2004506322A
公开(公告)日：2004-02-26
申请号：JP2002518507
申请日：2001-08-03
申请人：イーケーシーテクノロジー,インコーポレイティド
发明人：スモール，ロバート，ジェイ． , リー，ジョー−ユン
IPC分类号： C11D1/68 , C11D3/20 , C11D3/30 , C11D11/00 , C23G1/06 , C23G1/18 , H01L21/304 , H01L21/306
CPC分类号： H01L21/02052 , C11D3/30 , C11D11/0047 , C23G1/061 , C23G1/18
摘要：本発明は、ＣＭＰスラリーを必要な場所に配送する配管内部を含むＣＭＰ装置の清浄化用化学組成物およびその使用方法に関する。本発明の化学組成物はまた、ウエハそのものの、後ＣＭＰ清浄化（ｐｏｓｔ−ＣＭＰｃｌｅａｎｉｎｇ）に有用である。３種類の化学組成物を記載するが、これらはすべて水溶液である。第１の種類は、約１１から約１２を好適なｐＨ範囲として機能し、好適には１つ以上の非イオン性界面活性剤、１つ以上の単純アミン、界面活性剤または１つ以上の溶解性ジアルコール有機化合物のような固着剤、および１つ以上の第４級アミンを含む。第２の種類の清浄化組成物は、およそ８．５のｐＨの範囲で機能し、１つ以上のクエン酸、およびシュウ酸を含む。第３の種類の組成物は酸性であり、好ましくは約１．５から約３のｐＨ範囲を有し、好ましくは少なくとも１つの酸化酸、少なくとも１つのキレート剤、少なくとも１つの固着剤および少なくとも１つのアニオン性界面活性剤を含む。本発明の好適な組成物は、本質的にＨＦおよびＫＯＨを含まない。本発明の組成物の一部は、ＣＭＰ装置のスラリー配送システムの清浄化に有利に使用されることが示される。

4. 发明专利

JP2018514645A 汚れた金属表面を洗浄する方法及びそのような方法に有用な物質审中-公开
公开(公告)号：JP2018514645A
公开(公告)日：2018-06-07
申请号：JP2017544780
申请日：2016-02-16
申请人：ビーエーエスエフソシエタス・ヨーロピア , BASF SE
发明人：フーファー,ステファン , ガルシアマルコス,アレハンドラ , ライス−ワルター,エヴァ−マリア
IPC分类号： C23G1/00 , C08G73/04 , C11D1/38 , C11D1/72 , C11D3/37 , C11D7/22
CPC分类号： C23G1/061 , C08G73/0213 , C08G73/024 , C08L79/02 , C10G33/04 , C11D1/72 , C11D1/835 , C11D3/3723 , C11D11/0029 , C23G5/06
摘要：汚れた金属表面を洗浄する方法であって、そのような洗浄が、多分散度Q=Mw/Mnが少なくとも3.5であり、平均分子量Mwが2,500〜1,500,000g/molの範囲である少なくとも1種のアルコキシル化ポリエチレンイミン(B)を含む組成物を用いて実施されることを特徴とする、方法。【選択図】なし

6. 发明专利

JP2017122242A 腐食防止剤としてのアゾール化合物审中-公开
公开(公告)号：JP2017122242A
公开(公告)日：2017-07-13
申请号：JP2017058518
申请日：2017-03-24
申请人：ピーアールシー−デソトインターナショナルインコーポレーテッド
发明人：モリス、エリックエル.
IPC分类号： C09D7/12 , C09D5/08 , C09D163/00 , C09D175/04 , C23F11/00 , C09D201/00
CPC分类号： C23F11/149 , C09D5/086 , C09D7/40 , C23C22/56 , C23C22/66 , C23C22/68 , C23F11/08 , C23F11/185 , C23G1/061 , C23G1/063 , C23G1/22 , C23G1/26 , C08K3/10 , C08K5/34
摘要：【課題】金属基体に適用するための組成物を提供する。【解決手段】金属基体への適用のための組成物は、金属カチオン、アゾール化合物、及び水性担体を含む。基体をコーティングするための組成物は、エポキシ担体、ウレタン担体、又はフッ化ウレタン担体を含む担体、及びアゾール化合物を含む。コーティングされた基体は金属基体に適用するための組成物及び組成物上のコーティングを含む。基体に組成物を適用し、組成物を乾燥して化成コーティングを形成させ、化成コーティングにコーティングを適用することを含む、コーティングされた基体の作成方法。【選択図】なし

7. 发明专利

JPS5943884A Pickling method of metal 失效
标题翻译：金属的拾取方法
公开(公告)号：JPS5943884A
公开(公告)日：1984-03-12
申请号：JP15267882
申请日：1982-09-03
申请人： Nitto Chem Ind Co Ltd , Tokai Denka Kogyo Kk
发明人： KAWABE YASUMASA , KUSHIBE KAZUYOSHI , TAKAHASHI TERUO , WAKABAYASHI KUNIO
IPC分类号： C23G1/06
CPC分类号： C23G1/061
摘要： PURPOSE:To prevent corrosion of a ground metal of a boiler etc. at pickling, by adding N,N-dialkylhydroxylamine compounds to inorg. or org. acid for pickling and removing scales formed and deposited to the boiler. CONSTITUTION:Upon dissolving and removing scales of iron oxides such as Fe2O3, Fe3O4 formed and deposited to a heating surface of a boiler etc. by inorg. acid such as hydrochloric or sulfuric acid and/or org. acid such as citric or tartaric acid, about 0.1-1% N,N-dialkylhydroxylamine expressed by the general formula ( I ) such as N,N-diethylhydroxylamine, or its water-soluble compound is added and incorporated to prevent corrosion of a ground metal of the boiler by these acids. Ferric ion in the pickling liq. is reduced to ferrous ion having no corrosiveness, and the ground metal of the boiler is not corroded by the pickling liquid.
摘要翻译：目的：为了防止在酸洗时对锅炉等地面金属的腐蚀，通过向Inorg加入N，N-二烷基羟胺化合物。或组织。用于酸洗和去除形成并沉积到锅炉的垢。构成：通过inorg将氧化铁，如Fe 2 O 3，Fe 3 O 4等形成并沉积到锅炉的加热面上进行溶解除去。酸如盐酸或硫酸和/或组织。加入酸，如柠檬酸或酒石酸，约0.1-1％的N，N-二烷基羟胺，由通式（I）表示，如N，N-二乙基羟胺或其水溶性化合物，并加入其中以防止地面腐蚀这些酸的锅炉的金属。酸洗中的铁离子被还原成没有腐蚀性的亚铁离子，并且锅炉的研磨金属不被酸洗液腐蚀。

8. 发明专利

JP2017072134A 洗浄溶液及びタービンエンジンの洗浄方法有权
公开(公告)号：JP2017072134A
公开(公告)日：2017-04-13
申请号：JP2016187672
申请日：2016-09-27
申请人：ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ
发明人：ニコール・ジェシカ・ティベッツ , エバン・ジェイ・ドリー , バーナード・パトリック・ビューレイ , デニース・アン・アンダーソン , ネイサン・デイビッド・マクレーン , エリック・ジョン・テルフェヤン , フランク・ワーゲンバウ
IPC分类号： B08B3/08 , F02C7/00 , F01D25/00
CPC分类号： C23G1/088 , C11D11/0041 , C23G1/061
摘要：【課題】試薬組成物を用いてタービンエンジンから異物の成分を選択的に溶解する、タービンエンジンを洗浄するシステム及び方法を提供する。【解決手段】タービンエンジン用の洗浄溶液は、洗浄溶液の体積の約68.65%〜約99.63%の水と、洗浄溶液の体積の約0.1%〜約15%のクエン酸含有の第1の有機酸成分と、洗浄溶液の体積の約0.1%〜約15%のグリコール酸含有の第2の有機酸成分と、洗浄溶液の体積の約0.07%〜0.14%のスルホン酸イソプロピルアミンと、洗浄溶液の体積の約0.035%〜0.07%のアルコールエトキシレートと、洗浄溶液の体積の約0.035%〜0.07%のトリエタノールアミンと、洗浄溶液の体積の約0.03%〜1.0%のラウリミノジプロピオン酸ナトリウムを含む。洗浄溶液のpH値は約2.5〜約7.0の範囲内である。【選択図】図6

10. 发明专利

JP4330529B2 Microelectronics cleaning and arc removal composition 有权
公开(公告)号：JP4330529B2
公开(公告)日：2009-09-16
申请号：JP2004511911
申请日：2003-05-27
申请人：マリンクロッド・ベイカー・インコーポレイテッドMallinckrodt Baker, Inc.
发明人：チェン−ピン・シャーマン・シュ
IPC分类号： G03F7/42 , C11D1/00 , C11D7/50 , C23G1/00 , C23G1/06 , H01L21/027 , H01L21/304 , H05K3/26
CPC分类号： C23G1/061 , C11D11/0047 , G03F7/425 , H05K3/26 , H05K2203/0783 , H05K2203/121 , H05K2203/122

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