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3. 发明专利

JP2015503635A フマギリン誘導体ＰＨＦ複合体の医薬品配合物审中-公开
标题翻译：烟曲霉素衍生物缀合物PHF的药物制剂
公开(公告)号：JP2015503635A
公开(公告)日：2015-02-02
申请号：JP2014548983
申请日：2012-12-21
申请人：マーサナ・セラピューティクス・インコーポレイテッド
发明人：アクリアン、ローラ , リウ、グイ , ローウィンガー、ティモシー・ビー． , マクジリカディー、デニス , スティーブンソン、チェリ , ファン・ドゥザー、ジョン , イン、マオ , ユルコベトスキー、アレクサンドル
IPC分类号： C08G83/00 , A61K9/08 , A61K9/19 , A61K31/336 , A61K47/04 , A61K47/10 , A61K47/12 , A61K47/18 , A61K47/22 , A61K47/26 , A61K47/34 , A61K47/36 , A61K47/40 , A61K47/48 , A61P1/04 , A61P9/10 , A61P17/00 , A61P17/02 , A61P35/00 , A61P35/02
CPC分类号： A61K47/48192 , A61K47/60 , C07D303/22
摘要：本明細書に記載の本発明は、ポリマー分子またはその塩を含む混合物であって、混合物中のポリマー分子が共有結合したサブユニットL、K、およびMを含み、混合物中のポリマー分子の平均分子量が約50kDa〜約200kDaであり、サブユニットMのモル%が、混合物中のサブユニットの総量に対して、約90.5〜約96モル%であり、サブユニットKのモル%が、混合物中のサブユニットの総量に対して、約2.8〜約7.3モル%であり、サブユニットLのモル%が、混合物中のサブユニットの総量に対して、約1.2〜約2.2モル%である混合物を提供する。【選択図】図1
摘要翻译：本文所述的本发明中，包含聚合物分子或其盐的混合物，其中在所述混合物中的聚合物分子的亚单位L的共价结合，K，和M，所述混合物中的聚合物分子的平均分子量有约50KDa〜约200kDa的亚单位的摩尔％M是子单元的总量的比例是从约90.5〜约96％（摩尔），所述子单元的摩尔％K是在该混合物中的子的单位至约7.3摩尔％的总量，从约2.8，亚基升摩尔％是该混合物的亚单位的总量，以提供约1.2的混合物，以约2.2摩尔％。点域1

4. 发明专利

JP2014520831A Bactericidal alkyl - and aryl - substituted 2- [2-chloro-4- (dihalo - phenoxy) - phenyl] -1- [1,2,4] triazol-1-yl - ethanol compound 审中-公开
公开(公告)号：JP2014520831A
公开(公告)日：2014-08-25
申请号：JP2014519543
申请日：2012-07-12
申请人：ビーエーエスエフソシエタス・ヨーロピアBasf Se
发明人：ディーツ，ヨッヘン , リッグス，リチャード , ブデ，ナデージュ , クラースローマン，ヤン , ロバートクレイグ，イアン , ハーデン，エゴン , メイウィルソンラウターヴァッサー，エリカ , ミューラー，ベルント , グランメノス，ヴァッシリオス , グローテ，トーマス
IPC分类号： C07D249/08 , A01N43/653 , A01P3/00 , C07C49/84 , C07D303/36 , C07D405/06
CPC分类号： A01N43/653 , C07C45/70 , C07D249/08 , C07D303/18 , C07D303/22 , C07D405/06 , C07C49/84 , A01N2300/00
摘要：本発明は、発明の詳細な説明に定義される式(I)のアルキル-およびアリール-置換2-[2-クロロ-4-(ジハロ-フェノキシ)-フェニル]-1-[1,2,4]トリアゾール-1-イル-エタノール化合物、およびそのN-オキシドおよび塩、これらを製造するための方法および中間体、ならびに少なくとも1種のこのような化合物を含む組成物に関する。本発明は、有害菌類を防除するためのこのような化合物および組成物の使用、および少なくとも1種のこのような化合物で被覆された種子にも関する。式(I)の化合物。式(Va、VII、XI、XIIおよびXIII)。
【化１】

【選択図】なし

5. 发明专利

JP5471975B2 Diepoxy compounds, cured product obtained by curing the composition and the composition comprising the compounds 有权
公开(公告)号：JP5471975B2
公开(公告)日：2014-04-16
申请号：JP2010193377
申请日：2010-08-31
申请人：住友化学株式会社
发明人：拓浅海 , 誠板垣
IPC分类号： C07D303/30 , C07C39/15 , C07C39/17 , C07C67/08 , C07C69/84 , C07D301/28 , C08G59/24 , C08L63/00
CPC分类号： C07D301/28 , C07C67/08 , C07C67/31 , C07C2601/14 , C07D303/22 , C07D303/28 , C07D303/30 , C07D303/40 , C08G59/22 , C08L63/00 , C07C69/92 , C07C69/84

6. 发明专利

JP2013121935A Compound and asymmetric synthesis reaction 审中-公开
标题翻译：化合物和不对称合成反应
公开(公告)号：JP2013121935A
公开(公告)日：2013-06-20
申请号：JP2011271563
申请日：2011-12-12
申请人： Institute Of Microbial Chemistry , 公益財団法人微生物化学研究会
发明人： SHIBAZAKI MASAKATSU , KUMAGAI NAOYA
IPC分类号： C07D307/33 , B01J31/24 , C07B53/00 , C07B61/00 , C07C323/12 , C07D301/02 , C07D303/22 , C07D309/30
CPC分类号： C07F7/0812 , B01J31/24 , C07B53/00 , C07C323/12 , C07C323/16 , C07C381/12 , C07D215/227 , C07D301/02 , C07D303/22 , C07D307/33 , C07D309/30 , C07D405/12 , C07F7/12 , C07F7/1844 , C07F9/5059 , C07F9/65616 , Y02P20/55
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a novel compound capable of inexpensively synthesizing a compound useful for producing pharmaceuticals such as an anti-hepatitis C virus drug by a synthetic organic chemistry method; and to provide an asymmetric synthesis reaction useful for synthesizing compounds containing the novel compound.SOLUTION: Provided is a compound represented by general formula (1) (wherein Ris either a protecting group for a hydroxyl group or a hydrogen atom; and Ris either a methyl group or an ethyl group).
摘要翻译：待解决的问题：提供一种能够通过合成有机化学方法廉价地合成用于制备药物如抗丙型肝炎病毒药物的化合物的新型化合物; 并提供用于合成含有新化合物的化合物的不对称合成反应。解决方案：提供由通式（1）表示的化合物（其中R 1 是羟基或氢原子的保护基; R 2 是甲基或乙基）。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

7. 发明专利

JP2013509401A New vascular leakage blockers 有权
公开(公告)号：JP2013509401A
公开(公告)日：2013-03-14
申请号：JP2012536689
申请日：2010-10-29
申请人：インダストリー−アカデミックコーポレーションファウンデーション,ヨンセイユニバーシティ , ハンドクファーマセウティカルズカンパニーリミテッド
发明人：クォン・ヨン−グン , ソ・ヨン−ゲ
IPC分类号： C07J9/00 , A23L1/30 , A61K31/575 , A61K31/58 , A61K31/704 , A61P1/04 , A61P3/06 , A61P3/10 , A61P7/10 , A61P9/00 , A61P9/04 , A61P9/10 , A61P9/12 , A61P11/00 , A61P11/16 , A61P17/02 , A61P19/02 , A61P27/02 , A61P27/06 , A61P29/00 , A61P31/04 , A61P35/00 , A61P37/06 , C07J17/00
CPC分类号： C07D309/12 , C07D239/34 , C07D303/22 , C07D309/10 , C07D309/30 , C07J9/00 , C07J9/005 , C07J17/00 , C07J17/005 , C07J31/006 , C07J41/0055 , C07J43/003
摘要：本発明は、新規な血管漏出遮断剤に関し、本発明の新規な血管漏出遮断剤は、血管内皮細胞の死滅を抑制して、ＶＥＧＦにより誘導されたアクチンストレス繊維の形成を抑制し、外皮アクチンリング（Ｃｏｒｔｉｃａｌａｃｔｉｎｒｉｎｇ）の構造を増加させて、血管細胞間ＴＪ（ＴｉｇｈｔＪｕｎｃｔｉｏｎ）の安定性を向上させて血管漏出を抑制する。本発明の血管漏出遮断剤は、血管の透過性を抑制するだけではなく、損傷された血管の完全性（ｉｎｔｅｇｒｉｔｙ）を修復できる活性も持っている。したがって、本発明の血管漏出遮断剤は、血管漏出により引き起こされる多様な疾患を予防又は治療することができる。本発明の血管漏出遮断剤は、商業的に購入が容易で、合成的接近に優れている物質であって、コレステロールを母核として利用して合成されるため、商業的合成容易性（ｆｅａｓｉｂｉｌｉｔｙ）に非常に優れている。
【選択図】図１１ａ

8. 发明专利

JP5103547B2 Method of manufacturing an epoxy compound 有权
公开(公告)号：JP5103547B2
公开(公告)日：2012-12-19
申请号：JP2011172543
申请日：2011-08-08
申请人：花王株式会社
发明人：淳之介齊藤 , 武史中井
IPC分类号： C07D301/26 , C07D303/14 , C07D303/18 , C25B1/14 , C25B1/22
CPC分类号： C07D301/26 , B01D61/445 , C07D303/22

9. 发明专利

JP2012118551A Compound for resist and resist composition 有权
标题翻译：化合物和抗蚀剂组合物
公开(公告)号：JP2012118551A
公开(公告)日：2012-06-21
申请号：JP2012006153
申请日：2012-01-16
申请人： Mitsubishi Gas Chemical Co Inc , 三菱瓦斯化学株式会社
发明人： ECHIGO MASATOSHI , OGURO MASARU
IPC分类号： G03F7/027 , C07C43/225 , C07C69/54 , C07D303/27 , G03F7/004 , G03F7/038 , H01L21/027
CPC分类号： C07C43/225 , C07D303/22 , G03F7/027 , G03F7/028 , G03F7/091
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resist composition having high sensitivity, with which a resist pattern with high resolution can be prepared and a semiconductor device having a high integration degree can be manufactured with high productivity, and to provide a compound that can be used for the composition.SOLUTION: The resist composition contains at least one kind of a resist compound (A): (a) which is produced by reacting a reagent for introduction of a crosslinking reactive group capable of directly or indirectly inducing a crosslinking reaction upon exposure to any radiation selected from the group consisting of visible light, ultraviolet light, excimer laser, extreme ultraviolet (EUV), electron beam, X-ray and ion beam with a polyphenol compound produced by a condensation reaction between a 5-45C aromatic ketone or aromatic aldehyde and a 6-15C compound having 1 to 3 phenolic hydroxyl groups; (b) which has a molecular weight of 300 to 5000; and (c) which includes at least one kind of the above described crosslinking reactive group.
摘要翻译：解决问题：为了提供具有高灵敏度的抗蚀剂组合物，通过该抗蚀剂组合物可以制备高分辨率的抗蚀剂图案，并且可以以高生产率制造具有高集成度的半导体器件，并且提供一种化合物，可用于组合。抗蚀剂组合物含有至少一种抗蚀剂化合物（A）：（a）其通过使用于引入可直接或间接地引发交联反应的交联反应性基团的试剂暴露于选自由可见光，紫外光，准分子激光，极紫外（EUV），电子束，X射线和离子束组成的组中的任何辐射与通过5-45C芳族酮或芳族化合物之间的缩合反应产生的多酚化合物醛和具有1〜3个酚羟基的6-15C化合物; （b）其分子量为300〜5000; 和（c）包括至少一种上述交联反应性基团。版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

10. 发明专利

JP4633053B2 有权
公开(公告)号：JP4633053B2
公开(公告)日：2011-02-23
申请号：JP2006518645
申请日：2004-07-09
IPC分类号： C08G75/04 , C07D303/22 , C07D303/34 , C08G59/02 , C08G59/20 , C08G59/30 , C08G59/40 , C08L63/00
CPC分类号： C08G59/302 , C07D303/22 , C08L63/00

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