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1. 发明专利

KR20210031450A KR20210031450A - Plastically deformed glass, antibacterial glass, color change glass, and tempered glass provided by using ion exchange method of glass via non-dipping process 审中-公开
公开(公告)号：KR20210031450A
公开(公告)日：2021-03-19
申请号：KR1020210032954A
申请日：2021-03-12
申请人： 한국항공대학교산학협력단
发明人： 최용규 , 이우형 , 김현 , 이지인 , 이준호
IPC分类号： C03C21/00 , C03C17/23 , C03C23/00
CPC分类号： C03C21/008 , C03C17/23 , C03C23/007 , Y02P40/57
摘要： 비침지 방식을 통한 유리의 이온교환 방법이 개시되며, 상기 비침지 방식을 통한 유리의 이온교환 방법은, (a) 유리 내부의 알칼리 이온과의 이온교환 대상이 되는 이온교환 대상 이온에 대응하는 염 용액 및 금속 산화물 입자를 혼합하여 슬러리를 제조하는 단계; (b) 상기 슬러리를 유리의 표면에 도포하여 막을 형성하는 단계; 및 (c) 상기 막에 포함된 액상의 염을 경유하여 상기 막 내부의 이온교환 대상 이온과 상기 유리 내부의 알칼리 이온 사이에 이온교환이 발생되는 이온교환 경로가 제공되도록, 상기 막이 형성된 유리를 상기 막의 적어도 일부가 액상이 되는 온도 범위에서 열처리하는 단계를 포함한다.

2. 发明专利

JP2018505836A ガラス物品の処理方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018505836A
公开(公告)日：2018-03-01
申请号：JP2017534227
申请日：2015-12-30
申请人：コーニングインコーポレイテッド
发明人：ゲイロ,キースレイモンド , クリンゲンスミス,ルイスカーク , ショート,ロバートアンソニー , ティエッジュ,スティーヴンアルヴィン
IPC分类号： C03C23/00
CPC分类号： C03C23/007 , A61J1/065 , C03B23/11 , C03B23/114 , C03B25/025 , C03B29/02 , C03B29/025 , C03C21/008 , G01N31/166
摘要：ガラス物品の加水分解耐性を向上させる方法の開示である。1つの実施の形態によれば、本方法は、処理前加水分解滴定値を有するガラス物品を用意するステップを備えている。その後、ガラス物品を、ガラス物品の歪み温度より200℃低い温度より高い処理温度で、約0.25時間以上の処理時間にわたり熱処理し、ガラス物品を熱処理した後に、ガラス物品が、処理前加水分解滴定値より低い、処理後加水分解滴定値を有するようにする。

3. 发明专利

JP2017528411A コーティングされた、化学強化された、耐指紋特性を有するガラス基板を製造する方法及びこの製造されたガラス基板审中-公开
公开(公告)号：JP2017528411A
公开(公告)日：2017-09-28
申请号：JP2017513714
申请日：2015-07-24
申请人：ショットアクチエンゲゼルシャフトSchott AG , ショットアクチエンゲゼルシャフトSchott AG
发明人：アピッツディアク , アピッツディアク , クジュザクマータ , クジュザクマータ , ヴァルターマーテン , ヴァルターマーテン , アルケンパーヨヘン , アルケンパーヨヘン
IPC分类号： C03C17/42 , C03C3/064 , C03C3/066 , C03C3/074 , C03C3/085 , C03C3/087 , C03C3/089 , C03C3/091 , C03C3/097 , C03C21/00 , C03C23/00
CPC分类号： C03C17/42 , C03C3/07 , C03C3/072 , C03C3/074 , C03C3/0745 , C03C3/083 , C03C3/085 , C03C3/087 , C03C3/091 , C03C3/093 , C03C3/095 , C03C3/097 , C03C3/102 , C03C3/105 , C03C3/108 , C03C3/112 , C03C3/118 , C03C10/0027 , C03C10/0054 , C03C17/30 , C03C17/32 , C03C17/3411 , C03C21/002 , C03C21/005 , C03C21/008 , C03C23/006 , C03C23/0075 , C03C2217/241 , C03C2217/73 , C03C2217/76 , C03C2217/78 , C03C2218/32
摘要：本発明は、コーティングされた、化学強化された、耐指紋特性を有するガラス基板を製造する方法に関し、ここで、該方法は、少なくとも1つの機能層をガラス基板に施す工程、コーティングされた該ガラス基板をイオン交換によって化学強化する工程(ここで、存在する比較的小さいアルカリ金属イオンが、比較的大きいアルカリ金属イオンと交換され、かつ前記ガラス基板及び前記少なくとも1つの機能層において富化される)、前記少なくとも1つの機能層の表面を活性化する工程(ここで、機能層が1つより多い場合には、一番外側の又は一番上の層の表面を活性化し、かつ前記少なくとも1つの機能層の前記表面の活性化は、記載される変法(1)〜(8)の1つを使用して実施する)、並びに前記ガラス基板の少なくとも1つの機能層に両疎媒性コーティングを施す工程(ここで、前記機能層は、活性化によって前記両疎媒性コーティングと相互作用する)を含む。前記ガラス基板は、耐指紋特性及び高められた耐擦傷性及び曲げ強度のほかに前記両疎媒性コーティングの改善された長期安定性が得られるような、有利な特性の固有の組合せを提供する。

4. 发明专利

JP5769911B2 抗微生物性を持つ基板の製造方法有权
标题翻译：用于制造具有衬底的抗微生物方法
公开(公告)号：JP5769911B2
公开(公告)日：2015-08-26
申请号：JP2007546079
申请日：2005-12-16
申请人：エージーシーグラスユーロップ
发明人：ピローイ, ジョルジス , ヘキュー, アンドレー , ヘヴェシ, カドーサ , ジェイコブス, ナディア
IPC分类号： A01N25/34 , A01N59/16 , A01N59/20 , A01P3/00 , C03C17/245 , C23C14/34 , C23C14/06
CPC分类号： A01N25/08 , A01N59/16 , C03C17/34 , C03C21/001 , C03C21/008 , C03C23/0095 , C23C10/28 , C23C10/30 , C23C14/16 , C23C14/5806 , C23C14/5893 , C23C18/08 , C03C2204/02 , C03C2217/251 , C03C2217/45 , C03C2217/479 , C03C2218/154 , C03C2218/32 , Y10T428/12493 , Y10T428/273 , Y10T428/31678

5. 发明专利

JP5497247B1 Silica container and a method of manufacturing the same for single crystal silicon pulling up 有权
公开(公告)号：JP5497247B1
公开(公告)日：2014-05-21
申请号：JP2013553692
申请日：2013-02-19
申请人：信越石英株式会社
发明人：茂山形
IPC分类号： C30B29/06 , C03B20/00 , C30B15/10
CPC分类号： C03B19/02 , C03B19/095 , C03B2201/04 , C03B2201/07 , C03B2201/23 , C03B2201/54 , C03C3/06 , C03C8/02 , C03C10/0009 , C03C21/008 , C03C23/007 , C03C2201/02 , C03C2201/54 , C03C2201/80 , C03C2203/10 , C30B15/10 , C30B29/06 , Y02P40/57 , Y10T117/1032
摘要：本発明は、内側に透明シリカガラスから成る透明層を有し、外側に気泡を含有する不透明シリカガラスから成る不透明層を有する単結晶シリコン引き上げ用シリカ容器であって、前記透明層が、前記シリカ容器の内表面側に位置し、ＯＨ基を２００〜２０００ｍａｓｓｐｐｍの濃度で含有する高ＯＨ基層と、該高ＯＨ基層よりもＯＨ基濃度が低い低ＯＨ基層とから成り、前記高ＯＨ基層がＢａを５０〜２０００ｍａｓｓｐｐｍの濃度で含有するものである単結晶シリコン引き上げ用シリカ容器である。これにより、単結晶シリコン引き上げ用にシリカ容器を用いた場合に、該容器使用開始後短時間のうちに該容器の透明シリカガラスから成る内側表面の全面が微細結晶化（グラスセラミックス化）することにより、該容器内側表面のシリコン融液に対する耐エッチング性（耐侵食性）を大幅に向上させるようなシリカ容器、及び、そのようなシリカ容器の製造方法が提供される。

6. 发明专利

JP5426306B2 Glass substrate and a magnetic disk for a magnetic disk 有权
公开(公告)号：JP5426306B2
公开(公告)日：2014-02-26
申请号：JP2009228168
申请日：2009-09-30
申请人： Hoya株式会社
发明人：伸二江田 , 英樹磯野 , 高志前田 , 弘土屋 , 吉典丸茂
IPC分类号： G11B5/73 , C03C19/00
CPC分类号： C03C23/009 , C03C19/00 , C03C21/008 , C03C23/0075 , C03C2204/08 , C09G1/02 , G11B5/7315 , G11B5/8404 , G11B5/8408
摘要： Provided are a magnetic disk substrate and a method of manufacturing the same, wherein the magnetic disk substrate has very few defects present on its surface with an arithmetic mean roughness (Ra) at a level in the vicinity of 0.1 nm and thus is suitable as a substrate for a magnetic disk with high recording density. The magnetic disk glass substrate is such that the arithmetic mean roughness (Ra) of the main surface of the glass substrate measured using an atomic force microscope with a resolution of 256×256 pixels in a 2 μm×2 μm square is 0.12 nm or less and the number of defects detected to have a size of 0.1 μm to 0.6 μm in plan view and a depth of 0.5 nm to 2 nm is less than 10 per 24 cm2, wherein the defects are each detected using a shift in wavelength between incident light and reflected light upon irradiating and scanning helium neon laser light with a wavelength of 632 nm on the main surface of the glass substrate.

7. 发明专利

JP2011515322A Manufacturing methods and resultant device by a manufacturing method of the planar optical element 审中-公开
公开(公告)号：JP2011515322A
公开(公告)日：2011-05-19
申请号：JP2011501278
申请日：2009-03-25
申请人：サン−ゴバングラスフランス
发明人：ウイグナール，アルノー , スリエー，ジュリアン , ブラージュ，グザビエ
IPC分类号： C03C21/00 , C03C8/18 , G02B3/00
CPC分类号： C03C3/078 , C03C8/02 , C03C8/04 , C03C8/16 , C03C8/18 , C03C21/003 , C03C21/005 , C03C21/008
摘要：本発明による方法は、ほぼ同じ移動度を有する２種のイオンにおけるガラス基板のイオンとの同時のイオン交換に基づき、前記２種のイオンのうちの少なくとも１種はエナメルの形態で使用される。第１の態様によれば、本方法は、ａ）第１のイオンを含有するガラス基板の表面に、Ａｇ、Ｔｌ、ＢａもしくはＣｕイオンまたはそれらの前駆体から選択される第２イオンを含有するエナメル組成物を、パターンまたはパターンのアレイの形態で堆積させること、ｂ）エナメルを焼成するのに十分な温度に基板を至らせること、ｃ）第２イオンの移動度とほぼ同じ移動度を有する第３イオンを含む溶融塩の中に基板を浸漬させること、ｄ）エナメルから生じる第２イオンおよび溶融塩から生じる第３イオンが基板の中の第１イオンと同時に置き換わるように、浸漬された基板を通る電界を印加すること、ｅ）溶融塩から基板を引き出すこと、およびｆ）エナメルを除去することからなるステップを含む。
【選択図】図１

8. 发明专利

JP2010108591A Glass substrate for magnetic disk, and magnetic disk 有权
标题翻译：用于磁盘和磁盘的玻璃基板
公开(公告)号：JP2010108591A
公开(公告)日：2010-05-13
申请号：JP2009228168
申请日：2009-09-30
申请人： Hoya Corp , Hoya株式会社
发明人： EDA SHINJI , ISONO HIDEKI , MAEDA TAKASHI , TSUCHIYA HIROSHI , MARUMO YOSHINORI
IPC分类号： G11B5/73 , C03C19/00
CPC分类号： C03C23/009 , C03C19/00 , C03C21/008 , C03C23/0075 , C03C2204/08 , C09G1/02 , G11B5/7315 , G11B5/8404 , G11B5/8408
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a glass substrate for a magnetic disk, which has very few defects existing on a surface in a level of proximity of 0.1 nm in arithmetic average roughness (Ra), and is suitable as a substrate for a magnetic disk of high recording density, and to provide a magnetic disk. SOLUTION: In the glass substrate for magnetic disk, arithmetic average roughness (Ra) on a main surface of the glass substrate is 0.12 nm or less measured in resolution of 256×256 pixels by 2 μm×2 μm square using an atomic force microscope, and the number of defects adhering to the glass substrate out of the defects of a size of ≥0.1 μm and ≤0.3 μm detected when detecting a scattered light from the glass substrate is one or less per 24 cm 2 , when irradiating a spot of 5 μm diameter with the light of wavelength of 405 nm. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：为了提供一种在算术平均粗糙度（Ra）接近0.1nm的表面上存在非常少的缺陷的磁盘用玻璃基板，并且适合作为高记录密度的磁盘，并提供磁盘。解决方案：在用于磁盘的玻璃基板中，玻璃基板的主表面上的算术平均粗糙度（Ra）为0.12nm以下，分辨率为256×256像素×2μm×2μm的正方形，使用原子并且当检测到来自玻璃基板的散射光时检测到的尺寸≥0.1μm和≤0.3μm的缺陷中附着于玻璃基板的缺陷的数量是每24cm <2> / SP>，当用波长为405nm的光照射5μm直径的点时。版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

9. 发明专利

JP2008524097A Substrate having an anti-microbial 有权
公开(公告)号：JP2008524097A
公开(公告)日：2008-07-10
申请号：JP2007546078
申请日：2005-12-16
申请人：エージーシーフラットグラスユーロップエスエー
发明人：クリストフィイゴー， , ナディアジェイコブス， , ジョルジスピローイ， , カドーサヘヴェシ， , アンドレーヘキュー， , ジャン−ピエールポエルス，
IPC分类号： C03C21/00 , C03C17/23 , C03C17/34
CPC分类号： A01N25/08 , A01N59/16 , C03C17/34 , C03C21/001 , C03C21/008 , C03C23/0095 , C03C2204/02 , C03C2217/251 , C03C2217/45 , C03C2217/479 , C03C2218/154 , C03C2218/32 , C23C10/28 , C23C10/30 , C23C14/16 , C23C14/5806 , C23C14/5893 , C23C18/08 , Y10T428/12493 , Y10T428/273 , Y10T428/31678
摘要： A process for the production of a substrate having antimicrobial properties is described. It comprises a step consisting of the deposition of a metal non-gelling layer comprising an inorganic antimicrobial agent, starting from a precursor, in metal, colloid, chelate or ion form on at least one of the surfaces of the metallic substrate; and a step consisting of the diffusion of the agent into said at least one surface of the substrate by thermal treatment. Alternatively, the substrate may be coated with an underlayer or a topcoat and the diffusion occurs either in the underlayer or in the topcoat. Metallic substrates having antimicrobial properties are also described. In particular, a substrate exhibiting a bactericidal activity measured in accordance with standard JIS Z 2801 of higher than log 2.

10. 发明专利

JPS5713509B2 JPS5713509B2 - 失效
公开(公告)号：JPS5713509B2
公开(公告)日：1982-03-17
申请号：JP13984573
申请日：1973-12-08
IPC分类号： C03C10/00 , C03C17/22 , C03C21/00
CPC分类号： C03C17/22 , C03C21/00 , C03C21/008 , C03C2217/29 , C03C2218/17

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