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    • 6. 发明专利
    • ハードディスク用平坦化膜形成組成物
    • 平坦化膜形成用组合物用于硬盘
    • JPWO2013042655A1
    • 2015-03-26
    • JP2013534713
    • 2012-09-18
    • 日産化学工業株式会社
    • 加藤 拓拓 加藤将幸 原口将幸 原口小澤 雅昭雅昭 小澤
    • G11B5/65B05D3/10B05D7/24G11B5/72G11B5/84
    • C09D167/00C08F230/08C08K5/541C09D125/08G11B5/65G11B5/72G11B5/84G11B5/8404G11B5/8408C08L25/04C08L25/06C08L25/08C09D125/04
    • 【課題】コバルト成分等の磁性材料が充填部(非磁性層)に拡散するのを防止することができるハードディスク用平坦化膜形成組成物を提供する。【解決手段】ジビニル芳香族化合物由来の単位構造を有する単独重合体及び該単位構造を有する共重合体からなる群より選択される少なくとも1種の重合体、又は該重合体と光重合性化合物との混合物を含有する光重合性被覆材を含み、且つ該被覆材中にはベンゼン環1モル当り1〜90モル%のビニル基を含有していることを特徴とするハードディスク用平坦化膜形成組成物。光重合性化合物がアクリレート基、メタクリレート基、又はビニル基を有する化合物である。重合体が更に付加重合性化合物を共重合成分として含む共重合体である。磁性体上に凹凸を形成する第1工程、該凹凸を平坦化膜形成組成物で被覆する第2工程、エッチングにより平坦化し磁性体表面を露出する第3工程を含むハードディスクの製造方法。【選択図】図1
    • 可以扩散到填充部(非磁性层)可以防止磁材料,例如钴组分以提供用于平坦化膜形成组合物中的硬盘。 甲选自共聚物的均聚物和具有从所述二乙烯基芳香族化合物衍生的结构单元的结构单元,或聚合物和光聚合性化合物和的组中选择的至少一种聚合物 包含含有的混合物的光致聚合涂层材料,以及平坦化膜形成用组合物用于硬盘,其特征在于,含有每摩尔1-90摩尔%乙烯基的苯环在涂层材料 事。 光聚合性化合物是具有丙烯酸酯基,甲基丙烯酸酯基或乙烯基团的化合物。 聚合物是还包括一个可加成聚合的化合物作为共聚成分的共聚物。 第一步骤,第二步骤,硬盘,包括通过蚀刻覆盖在形成用于在磁性材料形成凹凸组合物中的平坦化膜的不均匀暴露磁性材料的平面化的表面的第三工序的制造方法。 点域1
    • 7. 发明专利
    • 平坦化ビット・パターン化磁気媒体のための組成および方法
    • 用于平面化位图磁化介质的组合物和方法
    • JP2015032343A
    • 2015-02-16
    • JP2014157417
    • 2014-08-01
    • エイチジーエスティーネザーランドビーブイHgst Netherlands B V
    • BIAN XIAOPINGRUBIN KURT ARICHARD L WHITE
    • G11B5/72B24B37/00G11B5/65G11B5/84
    • G11B5/72G11B5/8408G11B5/855
    • 【課題】平坦化ビット・パターン化磁気媒体のための組成および方法を提供する。【解決手段】本開示は、アイランド領域およびトレンチ領域を含む磁気層、磁気層の上に被覆される第1炭素層、および第1炭素層の上に被覆される第2炭素層であって、アイランド領域の第2炭素層は除去されている第2炭素層をもつ平坦化ビット・パターン化磁気媒体に関する。第1炭素層は、化学機械研磨にさらされたときに第2炭素層より低い材料除去率を持ち得る。本開示は、ビット・パターン化磁気媒体を平坦化する方法および炭素層を化学機械研磨するためのスラリー組成にも関する。このスラリー組成は、酸化剤成分、触媒成分、微粒子成分、および反応制御成分を含む。【選択図】図3F
    • 要解决的问题:提供一种用于平面化位图形磁介质的组合物和方法。解决方案:本公开涉及一种平面化位图形磁介质,其具有包括岛区和沟槽区的磁性层,第一碳层 施加在磁性层上的第二碳层,以及施加在第一碳层上的第二碳层,其中第二碳层已经在岛状区域中被去除。 当暴露于化学机械抛光时,第一碳层可以具有比第二碳层更低的材料去除速率。 本公开还涉及用于平面化位图磁性介质和用于碳层的化学机械抛光的浆料组合物的方法。 浆料组合物包括氧化剂组分,催化剂组分,颗粒组分和反应控制组分。