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1. 发明专利

JP2013202555A Liquid droplet generation module 审中-公开
标题翻译：液滴产生模块
公开(公告)号：JP2013202555A
公开(公告)日：2013-10-07
申请号：JP2012076095
申请日：2012-03-29
申请人： Nitto Denko Corp , 日東電工株式会社
发明人： SAOMOTO KENJIRO , SUGIURA SHINSUKE , SUGAWARA SHINJIN , ABE ERIKO , NAKAGAWA MASAO
IPC分类号： B01F15/02 , A61B17/12 , B01F3/08 , B01F5/00
CPC分类号： A61B17/1204 , A61B17/12181 , A61B2017/00004 , A61B2017/00526 , A61B2017/1205 , B01F3/0807 , B01F5/0471 , B01F13/0059 , B01F15/0264
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid droplet generation module having a flow passage structure capable of forming more liquid droplet generation flow passages and of saving a space.SOLUTION: A liquid droplet generation module 1 includes a base member 2 and a flow passage structure 300. The flow passage structure 300 includes a plurality of liquid droplet generation flow passages 3. In each liquid droplet generation flow passage 3, a liquid dispersing phase material and a liquid continuous phase material are distributed, liquid droplets of the dispersing phase material are generated by shearing force of the continuous phase material, and discharge ports 112, 122 for discharging the generated liquid droplets are installed. Each liquid droplet generation flow passage 3 is formed in the base member 2 so that the direction of each of the discharge ports 112, 122 faces one point P. Since the direction of each discharge port of the plurality of liquid droplet generation flow passages 3 is concentrated on one point, spaces required for the discharge ports 112, 122 can be reduced compared to a case where the direction of each discharge port is dispersed.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种具有能够形成更多液滴产生流路并具有节省空间的流路结构的液滴产生组件。液滴生成模块1包括基底构件2和流路结构流路结构300包括多个液滴产生流路3.在每个液滴产生流路3中，分散有液相分散相材料和液体连续相材料，生成分散相材料的液滴通过连续相材料的剪切力，并且安装用于排出所产生的液滴的排出口112,122。每个液滴产生流路3形成在基部构件2中，使得排出口112,122的方向面对一个点P.由于多个液滴产生流路3的排出口的方向为集中在一点上，与每个排放口的方向分散的情况相比，可以减少排出口112,122所需的空间。

2. 发明专利

JPWO2009123009A1 流体分配装置、マイクロプラント、流体分配装置の設計方法及び流路閉塞検知方法有权
公开(公告)号：JPWO2009123009A1
公开(公告)日：2011-07-28
申请号：JP2010505771
申请日：2009-03-26
申请人：国立大学法人京都大学 , 横河電機株式会社 , 富士フイルム株式会社
发明人：修殿村 , 修殿村 , 聡士永原 , 聡士永原 , 学加納 , 学加納 , 伸治長谷部 , 伸治長谷部
IPC分类号： G05D7/06 , B01J4/00 , B01J19/00 , B81B1/00 , F17D1/08 , F17D5/02 , G01N35/10 , G01N37/00
CPC分类号： B01J19/0093 , B01F13/0059 , B01F15/0264 , B01J2219/00889 , B01J2219/00891 , B01J2219/00959 , B01L3/502746 , B01L2200/143 , B01L2200/146 , B01L2300/0864 , G05D7/0186 , G05D7/0694 , Y10T137/8175 , Y10T137/8593
摘要：本発明は、入力流路に供給された流体を3以上の出力流路に均等分配して出力する流体分配装置であって、複数の枝流路を組み合わせて形成され、少なくとも3つの流体の分流部と少なくとも1つの流体の合流部とを備え、流体収支式と圧力バランス式からなる圧力損失コンパートメント連結モデルに対応するように形成されることを特徴とする流体分配装置を提供する。また、この流体分配装置を用いたマイクロプラント、この流体分配装置の設計方法及びこの流体分配装置の流路閉塞検知方法を提供する。

3. 发明专利

JP2005510695A Microfluidic device having a distribution inlet 审中-公开
标题翻译：空值
公开(公告)号：JP2005510695A
公开(公告)日：2005-04-21
申请号：JP2003547053
申请日：2002-06-06
申请人：ナノストリーム・インコーポレイテッドNanostream, Inc.
发明人：クリストフ・ディ・カープ , スティーブン・ディ・オコナー , ユージーン・ダンツカー
IPC分类号： G01N31/20 , B01F5/06 , B01F13/00 , B01J19/00 , B01L3/00 , B29C65/00 , B81B1/00 , B81C3/00 , G01N27/447 , G01N30/56 , G01N30/60 , G01N37/00
CPC分类号： B01F5/064 , B01F13/0059 , B01F15/0264 , B01J19/0093 , B01J2219/00783 , B01J2219/00833 , B01J2219/00869 , B01J2219/00891 , B01J2219/00997 , B01L3/5027 , B01L3/502707 , B01L2300/0681 , B01L2300/0816 , B01L2300/0864 , B01L2300/0867 , B01L2300/0874 , B01L2300/0887 , B01L2300/14 , B01L2400/0406 , B01L2400/0487 , B01L2400/0688 , B29C65/02 , B29C66/02 , B29C66/026 , B29C66/71 , B29K2023/00 , B29K2023/12 , B29L2031/756 , B81B2201/058 , B81C3/008 , G01N30/6095 , G01N2030/565 , Y10T137/206 , Y10T137/212 , Y10T137/2196 , Y10T137/2224 , Y10T137/8359 , B29C2035/0827 , B29K2067/00
摘要：１以上の流体操作を並行して実行する複数の機能要部を有するマイクロ流体装置を提供する。複数の機能要部に共通する試薬、サンプルまたは他の流体（「共通流体」）は、共通流体を所望するように振分け、分配する１以上の分配流入路を通してマイクロ流体装置またはシシテムの中に注入される。多層組立技術は、複数の分配流入路を可能にし、望まざる流体溝交差なく、マイクロ流体装置の複数の機能要部に分配する。
摘要翻译：提供具有用于并行执行一个或多个流体操作的多个功能特征的微流体装置。可以通过一个或多个分配输入将多个功能特征（“普通流体”）共同的试剂，样品或其它流体输入到微流体装置或系统中，根据需要分配和分配普通流体。使用多层制造技术允许多个分配输入分配到微流体装置中的多个功能特征，而不需要不需要的流体通道交叉。

4. 发明专利

JP4932656B2 Micro-chemical equipment 有权
公开(公告)号：JP4932656B2
公开(公告)日：2012-05-16
申请号：JP2007256761
申请日：2007-09-28
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：良幸三好
IPC分类号： B01J19/00 , B81B1/00
CPC分类号： B01J19/0093 , B01F5/0601 , B01F13/0059 , B01F15/0203 , B01F15/0264 , B01J2219/00783 , B01J2219/00822 , B01J2219/00824 , B01J2219/00828 , B01J2219/00833 , B01J2219/0086 , B01J2219/00889 , B01J2219/00891 , Y10T29/494

6. 发明专利

JP3694877B2 Micro mixer 有权
公开(公告)号：JP3694877B2
公开(公告)日：2005-09-14
申请号：JP2001158632
申请日：2001-05-28
申请人：株式会社山武
发明人：宣昭本田
IPC分类号： B01F5/00 , B01F3/08 , B01F5/06 , B01F13/00
CPC分类号： B01F5/0604 , B01F3/08 , B01F5/064 , B01F13/0059 , B01F15/00935 , B01F15/0264 , B01F2215/0431 , Y10S366/03

7. 发明专利

JPS59173101A Apparatus for distributing liquid by gravity 失效
标题翻译：用于通过重力分配液体的装置
公开(公告)号：JPS59173101A
公开(公告)日：1984-10-01
申请号：JP3846884
申请日：1984-02-29
申请人： Sulzer Ag
发明人： BUERUNAA MAIYAA
IPC分类号： B01D3/32 , B01D3/00 , B01D53/18 , B01F5/06 , B01J4/00 , B01J10/00 , F28F25/04
CPC分类号： F28F25/04 , B01D3/008 , B01D53/185 , B01F5/0601 , B01F15/0264 , B01J4/008 , Y10T137/85938

8. 发明专利

JP6088493B2 プラズマエッチングリアクタのセラミックシャワーヘッドのためのガス分配システム有权
标题翻译：用于等离子蚀刻反应器的陶瓷喷头气体分布系统
公开(公告)号：JP6088493B2
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：JP2014513540
申请日：2012-05-16
申请人：ラムリサーチコーポレーション , LAM RESEARCH CORPORATION
发明人：カン・マイケル , パターソン・アレックス
IPC分类号： H05H1/46 , H01L21/3065
CPC分类号： H01J37/3244 , B01F15/0264 , C23C16/45561 , C23C16/45563 , C23C16/4558 , H01J37/321 , H01J37/3211 , H01J37/32642 , H01L21/67069 , H01J2237/006 , H01J2237/334 , H01L21/30655 , H01L21/31116 , Y10T137/0402 , Y10T137/85938

9. 发明专利

JP2014515561A Gas distribution system for a plasma etch reactor ceramic showerhead 有权
标题翻译：空值
公开(公告)号：JP2014515561A
公开(公告)日：2014-06-30
申请号：JP2014513540
申请日：2012-05-16
申请人：ラムリサーチコーポレーションLam Research Corporation
发明人：カン・マイケル , パターソン・アレックス
IPC分类号： H01L21/3065
CPC分类号： H01J37/3244 , B01F15/0264 , C23C16/45561 , C23C16/45563 , C23C16/4558 , H01J37/321 , H01J37/3211 , H01J37/32642 , H01J2237/006 , H01J2237/334 , H01L21/30655 , H01L21/31116 , H01L21/67069 , Y10T137/0402 , Y10T137/85938
摘要：【課題】
【解決手段】セラミックシャワーヘッドのためのガス供給システムが、ガス接続ブロックとガスリングとを備えており、ガス接続ブロックは、ブロックのガス流出口がシャワーヘッドの外周のガス流入口にプロセスガスを供給するように、ガスリングに取り付けられる。ガスリングは、流路を内部に備えた下部リングと、流路を覆う溶接されたカバープレートとを備える。ガスリングは、ガスリングの長さの１／２にわたって伸びる第１の流路と、第１の流路の下流端に中点が接続された２つの第２の流路と、第２の流路の下流端に中点が接続された４つの第３の流路とを備えてよい。カバープレートは、第１の流路を覆う第１の部分と、第１の部分の端部に中点が接続された２つの第２の部分と、第２の部分の端部に中点が接続された第３の部分とを備えてよい。流路は、プロセスガスがガスリングの１つのガス流入口からカバーリングの８つの流出口まで等しい距離を移動して等しいガス流量を可能にするように構成される。
【選択図】図８Ａ
摘要翻译：用于陶瓷喷头的气体输送系统包括气体连接块和气体环，气体连接块安装在气体环上，使得块中的气体出口将工艺气体输送到喷头外周的气体入口。气环包括其中具有通道的底环和封闭通道的焊接盖板。气体环可以包括在气体环的长度上延伸1/2的第一通道，在其中点连接到第一通道的下游端的两个第二通道，以及在其中点处连接到第二通道的下游端的四个第三通道。盖板可以包括封闭第一通道的第一部分，在其中点处连接到第一部分的端部的两个第二部分，以及在其中点处连接到第二部分的端部的第三部分。通道布置成使得处理气体相对于气体环中的单个气体入口相等的距离传递到盖环中的八个出口，允许相等的气体流动。

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