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    • 4. 发明专利
    • 半導体製造装置、測定装置及び半導体製造方法
    • JP6857431B1
    • 2021-04-14
    • JP2020141552
    • 2020-08-25
    • 株式会社写真化学
    • 堀江 正浩
    • H01L21/66H01L21/677
    • 【課題】ウェハに所定の処理を施すとともに所定の処理が施されたウェハの状態を検査できる技術であって、従来よりも利便性に優れ、比較的単純な構成で実現可能な半導体製造装置を提供する。 【解決手段】処理室内でウェハに所定の処理を施す処理装置と、搬送室を形成する筐体と、搬送室内に配置され、ウェハを搬送する搬送機構と、搬送室を形成する筐体に取り付けられた複数のロードポートと、複数のロードポートのうちの少なくとも一つに着脱自在に気密状に取り付けられる搬送容器と、測定室26a内に配置された測定器35を備え、搬送容器が取り付けられるロードポートとは異なるロードポート10dに着脱自在に気密状に取り付けられ、所定の処理が施されたウェハの状態を測定する測定装置25とを備え、搬送機構は、搬送容器から搬出したウェハを処理室内に搬入し、所定の処理が施されたウェハを処理室から搬出して測定室26a内に搬入する。 【選択図】図12
    • 10. 发明专利
    • 攪拌・脱泡装置
    • 振动和缺陷装置
    • JP2015136689A
    • 2015-07-30
    • JP2014011717
    • 2014-01-24
    • 株式会社写真化学
    • 衛藤 亮輔高岡 文彦
    • B01F9/22B01F15/00B01D19/00
    • B01F9/0001B01D19/0052B01D19/0063B04B5/02B04B9/146
    • 【課題】公転回転体の回転バランス調整に関して信頼性を高める。 【解決手段】公転するロータと、被処理物を収容可能で自転及び公転する容器と、公転軸線に対して接近離反可能に移動可能に構成されたバランスウェイトと、検出方向を平面方向のうちX軸方向に向けて配置したX軸加速度検出部711と、検出方向を平面方向のうち前記X軸方向に直交するY軸方向に向けて配置したY軸加速度検出部712と、検出方向を鉛直方向であるZ軸方向に向けて配置したZ軸加速度検出部713と、前記X軸加速度検出部711及びY軸加速度検出部712及びZ軸加速度検出部713の検出結果を基に、前記ロータを含んで公転する部分である公転回転体における重心バランス位置の、公転軸線に対する位置ずれを判定する位置ずれ判定部82と、を備えた攪拌・脱泡装置である。 【選択図】図8
    • 要解决的问题:提高旋转体的旋转平衡调整的可靠性。解决方案:搅拌和消泡装置包括:旋转转子; 能够容纳旋转旋转的被处理物的容器; 配置为以可移动的方式与旋转轴线接近或分离的平衡配重; X轴加速度检测部711,其检测方向朝向X轴方向配置在平面方向上; Y轴加速度检测部712,其沿着与X轴方向正交的Y轴方向在面方向上配置检测方向; 检测方向朝向作为垂直方向的Z轴方向配置的Z轴加速度检测部713; 以及位置偏差确定部82,用于基于X轴的检测结果,确定作为与转子旋转的部分的旋转体中的重心相对于旋转轴线的平衡的位置偏差, 轴加速度检测部711,Y轴加速度检测部712和Z轴加速度检测部713。