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1. 发明专利

JP2015042972A 高強度光線測定システム、及び方法有权
标题翻译：用于测量高强度光束的系统和方法
公开(公告)号：JP2015042972A
公开(公告)日：2015-03-05
申请号：JP2014141285
申请日：2014-07-09
申请人：ウルトラテックインク , Ultratech Inc , ウルトラテックインク
发明人： SERGUEI ANIKITCHEV , DAVID GAINES
IPC分类号： G01J1/02 , G01J1/04
CPC分类号： G01J1/0407 , G01J1/0414 , G01J1/0477 , G01J1/4257 , G01J2001/0481 , G01J2001/4261 , G02B5/04 , G02B27/108
摘要：【課題】高強度光線の少なくとも一つの強度特性を測定するためのシステムおよび方法を提供する。【解決手段】二つの透明板に挟まれた薄膜プリズムであって、幅d、および、面積を有する全内部反射(TIR)表面を有する薄膜プリズムを含むプリズム組立体に光線を導くことと、前記光線の一部を前記TIR表面によって積分球へ反射しつつ、前記光線の残りの部分を、前記2つの透明板を通して光線集積部へ導くことと、前記積分球によって捕捉された光線の一部を検出することと、該検出された光線から光線の強度特性を決定することと、を備える。【選択図】図1A
摘要翻译：要解决的问题：提供用于测量光束的至少一个强度特性的系统和方法。解决方案：该方法包括：将光束引导到棱镜组件中，该棱镜组件包括夹在两个透明板之间的薄棱镜，并且具有全内反射（TIR）表面具有宽度d和面积; 将光束的一部分反射到积分球，同时将光束的剩余部分通过上述两个透明板传输到光束转台; 检测由积分球捕获的光束的一部分; 以及从所检测的光束确定光束的强度特性。

2. 发明专利

JP2013048226A Systems and methods for forming time-averaged line image 有权
标题翻译：用于形成时间线图像的系统和方法
公开(公告)号：JP2013048226A
公开(公告)日：2013-03-07
申请号：JP2012161562
申请日：2012-07-20
申请人： Ultratech Inc , ウルトラテックインク
发明人： SERGUEI ANIKITCHEV , JAMES T MCWHIRTER , JOSEPH E GORTYCH
IPC分类号： H01L21/268 , H01L21/265
CPC分类号： H01L21/268 , B23K26/0006 , B23K26/0066 , B23K26/03 , B23K26/0608 , B23K26/067 , B23K26/0732 , B23K26/0738 , B23K26/0853 , B23K2203/50 , B23K2203/56
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide systems and methods for forming a time-average line image.SOLUTION: The method includes forming a line image with a first amount of intensity non-uniformity. The method also includes forming and scanning a secondary image over at least a portion of the line image to form a time-averaged modified line image having a second amount of intensity non-uniformity that is less than the first amount. Wafer emissivity is measured in real time to control the intensity of the secondary image. Temperature is also measured in real time based on the wafer emissivity and reflectivity of the secondary image, and can be used to control the intensity of the secondary image.
摘要翻译：要解决的问题：提供用于形成时间平均线图像的系统和方法。解决方案：该方法包括形成第一强度不均匀的线图像。该方法还包括在线图像的至少一部分上形成和扫描次级图像以形成具有小于第一量的第二强度不均匀量的时间平均修改线图像。实时测量晶片发射率以控制次级图像的强度。也可以基于晶片的发射率和次级图像的反射率实时测量温度，并且可以用于控制次级图像的强度。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

3. 发明专利

JP2014013890A Laser annealing systems and methods with ultra-short dwell times 有权
标题翻译：激光退火系统和超短时间的方法
公开(公告)号：JP2014013890A
公开(公告)日：2014-01-23
申请号：JP2013118693
申请日：2013-06-05
申请人： Ultratech Inc , ウルトラテックインク
发明人： SERGUEI ANIKITCHEV , HAWRYLUK M ANDREW
IPC分类号： H01L21/265 , H01L21/268
CPC分类号： H01L21/324 , B23K26/0006 , B23K26/0081 , B23K26/032 , B23K26/0608 , B23K26/0648 , B23K26/0736 , B23K26/082 , B23K2201/40 , B23K2203/56 , H01L21/02675 , H01L21/02691 , H01L21/268 , H01L21/67115 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide laser annealing systems and methods for annealing a semiconductor wafer with ultra-short dwell times.SOLUTION: A laser annealing system can include one or two laser beams that at least partially overlap. One of the laser beams is a pre-heat laser beam and the other laser beam is the annealing laser beam. The annealing laser beam scans sufficiently fast so that the dwell time is in the range from about 1 μs to about 100 μs. These ultra-short dwell times are useful for annealing product wafers formed from thin device wafers because they prevent the device side of the device wafer from being damaged by heating during the annealing process.
摘要翻译：要解决的问题：提供具有超短停留时间的半导体晶片退火的激光退火系统和方法。解决方案：激光退火系统可以包括至少部分重叠的一个或两个激光束。其中一个激光束是预热激光束，另一个激光束是退火激光束。退火激光束扫描足够快，使得停留时间在约1μs至约100μs的范围内。这些超短停留时间对于退火由薄的器件晶片形成的产品晶片是有用的，因为它们防止器件晶片的器件侧在退火过程中被加热而损坏。

4. 发明专利

JP2012129500A System and method for forming time averaged line image 有权
标题翻译：用于形成时间平均线图像的系统和方法
公开(公告)号：JP2012129500A
公开(公告)日：2012-07-05
申请号：JP2011226264
申请日：2011-10-13
申请人： Ultratech Inc , ウルトラテックインク
发明人： SERGUEI ANIKITCHEV , JAMES T MCWHIRTER , JOSEPH E GORTYCH
IPC分类号： H01L21/268 , H01L21/265
CPC分类号： H01L21/268 , B23K26/006 , B23K26/0066 , B23K26/0738
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a system and method for forming a time averaged line image having a relatively high uniformity in intensity of laer light in the length direction.SOLUTION: A line image 36 having nonuniformity in intensity of first quantity in a major axis direction is formed on an image plane, and a secondary image 66 which at least partially overlaps with the line image 36 is formed. The method includes scanning the secondary image 66 at least at a part of the line image in the major axis direction according to a scanning profile to form a time averaged correction line image 36' having the intensity nonuniformity of second quantity in the major axis direction which is less than the first quantity. When performing laser annealing on a semiconductor wafer 40, the line image overlap amount of a scanning route part which adjoins a wafer scanning route is substantially reduced for increased wafer throughput.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于形成在长度方向上具有较高亮度的均匀度的时间平均线图像的系统和方法。解决方案：在图像平面上形成在长轴方向上具有第一量的强度不均匀的线图像36，并且形成与线图像36至少部分重叠的次级图像66。该方法包括根据扫描轮廓至少在长轴方向上的一部分行图像上扫描二次图像66，以形成具有长轴方向上的第二数量的强度不均匀性的时间平均校正线图像36' 小于第一数量。当在半导体晶片40上进行激光退火时，与晶片扫描路径相邻的扫描路径部分的行图像重叠量大大降低以增加晶片生产量。版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

5. 发明专利

JP2012009824A Line imaging system and laser annealing method 有权
标题翻译：线成像系统和激光退火方法
公开(公告)号：JP2012009824A
公开(公告)日：2012-01-12
申请号：JP2011094008
申请日：2011-04-20
申请人： Ultratech Inc , ウルトラテックインク
发明人： SERGUEI ANIKITCHEV
IPC分类号： H01L21/268 , H01L21/265 , H01S3/00
CPC分类号： B23K26/0643 , B23K26/066 , B23K26/0738 , B23K26/0853 , H01L21/268
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To pass more light than a conventional line imaging system by cutting beyond a knife-edge aperture 50.SOLUTION: A line imaging system includes a laser 20, first and second cylindrical optical systems CL1, CL2 that include a first spatial filter SF1 therebetween, the knife-edge aperture 50, a cylindrical relay system, and a cylindrical condenser lens CFL. The first spatial filter SF1 is configured to cut a line focus LF1 in a center lobe, and generates a first light beam. The second cylindrical lens system CL2 is arranged in a remote field, and configured to perform spatial filter processing for passing a center intensity lobe of the first light beam and cutting an intensity lobe outside a range. A light beam having been subjected to the filter processing eventually twice has a relatively tip-flat intensity distribution with respect to a length of a line image LI.
摘要翻译：要解决的问题：通过切割刀刃孔50以外，比传统的线成像系统传递更多的光。解决方案：线成像系统包括激光器20，第一和第二圆柱形光学系统CL1， CL2，其间包括第一空间滤波器SF1，刀刃孔50，圆柱形中继系统和圆柱形聚光透镜CFL。第一空间滤波器SF1被配置为在中心波瓣处切割线对焦LF1，并且产生第一光束。第二柱面透镜系统CL2布置在远程场中，并被配置为执行用于使第一光束的中心强度波瓣通过并将强度波瓣切除在范围之外的空间滤波处理。已经经过过滤处理的光束最终两次相对于线图像L1的长度具有相对尖端平坦的强度分布。版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

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