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1. 发明专利

JP2015025829A レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法有权
标题翻译：抗性图案的耐蚀组合物和生产方法
公开(公告)号：JP2015025829A
公开(公告)日：2015-02-05
申请号：JP2013129521
申请日：2013-06-20
申请人：住友化学株式会社 , Sumitomo Chemical Co Ltd
发明人： ICHIKAWA KOJI , MUKAI YUICHI , YAMAGUCHI NORIFUMI
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039
摘要：【課題】パターン倒れ耐性に優れるレジストパターンを製造できるレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】酸不安定基を有する構造単位を含む樹脂、式(I)で表される酸発生剤、式(II)で表される化合物及び溶剤を含有し、溶剤が、エーテルエステル溶剤及びエーテル溶剤を含む溶剤であるレジスト組成物。[式中、X2は置換基を有していてもよいアルカンジイル基、該基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい;R4は置換基を有していてもよい炭化水素基、該基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい;Z+は有機カチオン;環W1は飽和複素環;R3は炭化水素基を表し、該基を構成するメチレン基は酸素原子又はカルボニル基で置き換わっている。]【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供一种抗蚀剂组合物，由此可以产生抗裂图形优异的抗蚀剂图案。解决方案：抗蚀剂组合物包括具有酸不稳定基团的结构单元的树脂，由式（ I），式（II）表示的化合物和溶剂。溶剂含有醚酯溶剂和醚溶剂。在该式中，X表示任选具有取代基的烷二基，其中亚甲基可被氧原子或羰基取代; R表示任选具有取代基的烃基，其中构成亚甲基可以被氧原子或羰基取代; Z代表有机阳离子; 环W表示饱和杂环; 并且R表示烃基，其中构成亚甲基被氧原子或羰基取代。

2. 发明专利

JP2014186335A Resin and resist composition 有权
标题翻译：树脂和树脂组合物
公开(公告)号：JP2014186335A
公开(公告)日：2014-10-02
申请号：JP2014094940
申请日：2014-05-02
申请人： Sumitomo Chemical Co Ltd , 住友化学株式会社
发明人： ICHIKAWA KOJI , FUJI YUSUKE , YAMAGUCHI NORIFUMI
IPC分类号： G03F7/039 , C08F220/26 , C08F220/38 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC分类号： C08F224/00 , C08F220/10 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F222/14 , C08F226/06 , C08F228/06 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/027 , G03F7/038 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0397
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a chemically amplified photoresist composition exhibiting good line edge roughness and a good mask error factor.SOLUTION: The resist composition comprises a resin having a structural unit derived from a compound expressed by formula (aa) and an acid generator comprising a salt expressed by formula (I). In the formulae, T represents an alicyclic hydrocarbon group which may have a substituent, in which -CH- included in the group is substituted with at least one -SO- and further may be substituted with -CO-, -O-, or the like; Rrepresents a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group which may have a halogen atom; Zrepresents a saturated hydrocarbon group which may have a substituent, or the like; Qand Qrepresent a fluorine atom or a perfluoroalkyl group; Xrepresents a single bond or a saturated hydrocarbon group which may have a substituent; Yrepresents a linear or branched aliphatic hydrocarbon group, or the like; and Zrepresents an organic counter cation.
摘要翻译：要解决的问题：提供表现出良好的线边缘粗糙度和良好的掩模误差因子的化学放大光致抗蚀剂组合物。解决方案：抗蚀剂组合物包含具有衍生自由式（aa）表示的化合物的结构单元的树脂和酸发生剂包含由式（I）表示的盐。式中，T表示可以具有取代基的脂环族烃基，其中-CH 3 - 被至少一个-SO-取代，并且还可以被-CO-，-O-或喜欢; R表示氢原子，卤素原子或可具有卤素原子的烷基; Z表示可以具有取代基的饱和烃基等; Qand Q表示氟原子或全氟烷基; X表示可以具有取代基的单键或饱和烃基; Y表示直链或支链脂族烃基等; Z代表有机抗衡。

3. 发明专利

JP2014029509A Resist composition and method for producing resist pattern 有权
标题翻译：耐蚀组合物及其制造方法
公开(公告)号：JP2014029509A
公开(公告)日：2014-02-13
申请号：JP2013133151
申请日：2013-06-25
申请人： Sumitomo Chemical Co Ltd , 住友化学株式会社
发明人： ICHIKAWA KOJI , MASUYAMA TATSURO , YAMAGUCHI NORIFUMI
IPC分类号： G03F7/004 , C08F20/00 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resist composition from which a resist pattern with an excellent focus margin can be produced.SOLUTION: The resist composition comprises a resin including a structural unit having an acid-labile group, an acid generator expressed by formula (II), and a salt having an anion expressed by formula (IA). In the formulae, Xrepresents an alkanediyl group optionally having a substituent, in which a methylene group constituting the alkanediyl group may be replaced by an oxygen atom or a carbonyl group; Rrepresents a hydrocarbon group optionally having a substituent, in which a methylene group constituting the hydrocarbon group may be replaced by an oxygen atom or a carbonyl group; Zrepresents an organic cation; Rand Reach represent a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group optionally having a substituent, an alicyclic hydrocarbon group optionally having a substituent, or the like, and Rand Rmay be bonded to each other together with a nitrogen atom to form a ring having 4 to 20 carbon atoms.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种抗蚀剂组合物，由此可以产生具有优异聚焦边界的抗蚀剂图案。解决方案：抗蚀剂组合物包括具有酸不稳定基团的结构单元的树脂，由式（ II）和具有由式（IA）表示的阴离子的盐。在该式中，X表示任选具有取代基的链烷二基，其中构成链烷二基的亚甲基可以被氧原子或羰基取代; R表示任选具有取代基的烃基，其中构成烃基的亚甲基可以被氧原子或羰基取代; Z代表有机阳离子; Rand Reach代表氢原子，任选具有取代基的脂族烃基，任选具有取代基的脂环族烃基等，兰德Rmay与氮原子一起键合形成4至20个的环碳原子。

4. 发明专利

JP2013041254A Resist composition and method for producing resist pattern 有权
标题翻译：耐蚀组合物及其制作方法
公开(公告)号：JP2013041254A
公开(公告)日：2013-02-28
申请号：JP2012143147
申请日：2012-06-26
申请人： Sumitomo Chemical Co Ltd , 住友化学株式会社
发明人： ICHIKAWA KOJI , YAMAGUCHI NORIFUMI
IPC分类号： G03F7/039 , C08F20/28 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resist composition having superior focus margin (DOF) and reduced defects.SOLUTION: A resist composition contains a resin having a structural unit represented by the formula (I), a resin being insoluble or poorly soluble in alkali aqueous solution, but becoming soluble in an alkali aqueous solution by the action of an acid and not including the structural unit represented by the formula (I), and an acid generator represented by the formula (II).
摘要翻译：要解决的问题：提供具有优异的聚焦余量（DOF）和减少的缺陷的抗蚀剂组合物。抗蚀剂组合物含有具有由式（I）表示的结构单元的树脂，树脂在碱性水溶液中不溶或难溶，但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液，不包括由式（I）表示的结构单元和由式（II）表示的酸产生剂。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

5. 发明专利

JP2013041249A Resist composition and method for producing resist pattern 有权
标题翻译：耐蚀组合物及其制造方法
公开(公告)号：JP2013041249A
公开(公告)日：2013-02-28
申请号：JP2012143075
申请日：2012-06-26
申请人： Sumitomo Chemical Co Ltd , 住友化学株式会社
发明人： ICHIKAWA KOJI , YAMAGUCHI NORIFUMI , SUZUKI YUKI
IPC分类号： G03F7/039 , C08F20/22 , C08F20/32 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resist composition which enables production of a resist pattern having superior resolution and line edge roughness (LER) and reduced defects.SOLUTION: A resist composition contains a resin having a structural unit represented by the formula (I), a resin being insoluble or poorly soluble in alkali aqueous solution, but becoming soluble in an alkali aqueous solution by the action of an acid and not including the structural unit represented by the formula (I), and an acid generator having an acid-labile group, where Arepresents an aliphatic hydrocarbon group that may have a halogen atom.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种抗蚀剂组合物，其能够制造具有优异的分辨率和线边缘粗糙度（LER）的抗蚀剂图案和减少的缺陷。抗蚀剂组合物含有具有由式（I）表示的结构单元的树脂，树脂在碱性水溶液中不溶或难溶，但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液，不包括由式（I）表示的结构单元和具有酸不稳定基团的酸发生剂，其中A

6. 发明专利

JP2012226332A Resist composition and method for producing resist pattern 有权
标题翻译：耐蚀组合物及其制造方法
公开(公告)号：JP2012226332A
公开(公告)日：2012-11-15
申请号：JP2012083469
申请日：2012-04-02
申请人： Sumitomo Chemical Co Ltd , 住友化学株式会社
发明人： ICHIKAWA KOJI , YAMAGUCHI NORIFUMI
IPC分类号： G03F7/004 , C07C381/12 , C08F20/28 , G03F7/039
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resist composition that can give a favorable focus margin (DOF) in the process of producing a resist pattern and can reduce the number of defects when a resist pattern is formed.SOLUTION: The resist composition contains: (A1) a resin having a structural unit expressed by formula (I); (A2) a resin which is insoluble or poorly soluble with an alkali aqueous solution and can dissolve in an alkali aqueous solution by the action of an acid; and (B) an acid generator expressed by formula (II). In the formulae, Rrepresents a hydrogen atom or a methyl group; and Arepresents -(CH)-, -(CH)-O-(CH)-, or the like, where m1 to m3 each independently represent an integer of 1 to 6.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种在制备抗蚀剂图案的过程中可以产生良好的聚焦余量（DOF）的抗蚀剂组合物，并且可以在形成抗蚀剂图案时减少缺陷的数量。抗蚀剂组合物含有：（A1）具有由式（I）表示的结构单元的树脂; （A2）与碱性水溶液不溶或难溶的树脂，可以通过酸作用溶于碱水溶液中; 和（B）由式（II）表示的酸发生剂。式中，R 1表示氢原子或甲基，并且A 1 表示 - （CH 2 ） m1 - ， - （ CH 2 ） m2 -O-（CH 2 ） m3 - 等，其中m1至m3各自独立地表示1至6的整数。版权所有：（C）2013，JPO＆INPIT

7. 发明专利

JP2012190001A Resist composition and manufacturing method of resist pattern 有权
标题翻译：电阻图案的耐蚀组合物和制造方法
公开(公告)号：JP2012190001A
公开(公告)日：2012-10-04
申请号：JP2012033535
申请日：2012-02-20
申请人： Sumitomo Chemical Co Ltd , 住友化学株式会社
发明人： ICHIKAWA KOJI , YAMAGUCHI NORIFUMI , SUZUKI YUKI
IPC分类号： G03F7/039 , C07C309/17 , C07C381/12 , C07D233/60 , C07D307/33 , C07D307/93 , C07D327/06 , C08F20/24 , C08F20/26 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/38 , Y10S430/108 , Y10S430/111 , Y10S430/122 , Y10S430/123
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resist composition which can obtain a resist pattern with excellent resolution and line edge roughness (LER) and with reduced defects.SOLUTION: A resist composition contains (A1) resin having a structural unit represented by a formula (I), (A2) resin that is insoluble or poorly soluble in an aqueous alkali solution but becomes soluble in the aqueous alkali solution by the action of acid, and (B) an acid generator having an acid-labile group. In the formula (I), Rrepresents a hydrogen atom or a methyl group; Arepresents a 1-6C alkanediyl group; and Rrepresents a 1-10C hydrocarbon group having a fluorine atom.
摘要翻译：解决的问题：提供能够获得具有优异的分辨率和线边缘粗糙度（LER）并且具有减少的缺陷的抗蚀剂图案的抗蚀剂组合物。解决方案：抗蚀剂组合物含有（A1）具有由式（I）表示的结构单元的树脂，（A2）在碱水溶液中不溶或难溶的树脂，但是在碱性水溶液中可溶于酸的作用，和（B）具有酸不稳定基团的酸发生剂。在式（I）中，R 1表示氢原子或甲基; A 1 表示1-6C烷二基; 并且R 2 表示具有氟原子的1-10C烃基。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

8. 发明专利

JP2012168519A Resist composition 审中-公开
标题翻译：耐腐蚀组合物
公开(公告)号：JP2012168519A
公开(公告)日：2012-09-06
申请号：JP2012013744
申请日：2012-01-26
申请人： Sumitomo Chemical Co Ltd , 住友化学株式会社
发明人： YAMAGUCHI NORIFUMI , HAH JUNG-HWAN
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resist composition which can obtain a resist pattern having excellent focus margin.SOLUTION: The resist composition includes resin that contains a group unstable to an acid, is insoluble or difficult-soluble in an aqueous alkali solution, and acts with an acid to be dissolved in the aqueous alkali solution, an acid generator, a quencher including sulfonium salt or iodonium salt, and a solvent including cyclohexanone.
摘要翻译：要解决的问题：提供可以获得具有优异聚焦余量的抗蚀剂图案的抗蚀剂组合物。解决方案：抗蚀剂组合物包含含有对酸不稳定的基团的树脂，在碱性水溶液中不溶或难溶，并与酸溶解在碱水溶液中，酸产生剂，猝灭剂，包括锍盐或碘鎓盐，以及包括环己酮的溶剂。版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

9. 发明专利

JP2012006908A Salt, photoresist composition, and method for producing resist pattern 有权
标题翻译：盐，光电组合物及其制造方法
公开(公告)号：JP2012006908A
公开(公告)日：2012-01-12
申请号：JP2011001782
申请日：2011-01-07
申请人： Sumitomo Chemical Co Ltd , 住友化学株式会社
发明人： YAMAGUCHI NORIFUMI , ICHIKAWA KOJI
IPC分类号： C07D295/08 , C07C25/00 , C07C381/12 , C07D295/14 , C09K3/00 , G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： C07D295/088 , C07D295/096 , C07D295/15 , C07D333/46 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To form a pattern having more excellent resolution and focus margin (DOF).SOLUTION: This salt is represented by formula (I). [In the formula, Qand Qmutually independently represent a fluorine atom or a 1-6C perfluoroalkyl group; Lrepresents *-CO-O-L- or *-CH-O-L-, * represents a bond with -C(Q)(Q)-, Land Lmutually independently represent a bivalent 1-15C saturated hydrocarbon group, and -CH- contained in the bivalent saturated hydrocarbon group may be substituted by -O-, or -CO-; Wrepresents 2-36C heterocyclic ring, and -CH- contained in the heterocyclic ring may be substituted by -O-; and Zrepresents an organic counter ion].
摘要翻译：要解决的问题：形成具有更好的分辨率和聚焦余量（DOF）的图案。解决方案：该盐由式（I）表示。 [式中，Q 1 和Q 2 相互独立地表示氟原子或1-6C全氟烷基; L 1 表示* -CO-OL a - 或* -CH 2 -OL b - ，*表示与-C（Q 1 ）的连接（Q 2 ） - ，L a 和L b 相互独立地表示二价1-15C饱和烃基，并且二价饱和烃基中所含的-CH 3 SB =“POST”> 2 可以被-O-或-CO-取代; W 1 表示2-36C杂环，并且杂环中包含的-CH 2 可以被-O- ; 并且Z 1 + 表示有机反离子]。版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

10. 发明专利

JP2011046694A Resist composition of chemical amplification type, and salt used therein 有权
标题翻译：化学放大型的耐腐蚀组合物及其使用的盐
公开(公告)号：JP2011046694A
公开(公告)日：2011-03-10
申请号：JP2010168013
申请日：2010-07-27
申请人： Sumitomo Chemical Co Ltd , 住友化学株式会社
发明人： ICHIKAWA KOJI , YOSHIDA ISAO , YAMAGUCHI NORIFUMI
IPC分类号： C07C309/12 , C07C309/17 , C07D307/00 , G03F7/004 , G03F7/039
CPC分类号： C07C381/12 , C07C309/17 , C07C2601/14 , C07C2603/74 , C07D307/77 , C07D333/46 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resist composition of a chemical amplification type excellent in resolution and a mask error enhancement factor.
SOLUTION: The above objective is accomplished by employing a salt represented by formula (A1) as an acid generating agent in a resist composition [in formula (A1), Z
+ represents an organic cation, Q
1 and Q
2 each represents a fluorine atom or a perfluoroalkyl group, R
a1 represents a divalent cycloaliphatic hydrocarbon group or the like, and R
a2 represents a leaving group represented by formula (II-1) or formula (II-2) wherein R
a3 and R
a4 each represents a hydrogen atom or an aliphatic hydrocarbon group, R
a5 represents an aliphatic hydrocarbon group, R
a6 represents a divalent aliphatic hydrocarbon group, and R
a7 represents an aliphatic hydrocarbon group].
COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供分辨率优异和掩模误差增强因子的化学放大型抗蚀剂组合物。解决方案：上述目的通过在抗蚀剂组合物[式（A1）中使用由式（A1）表示的盐作为酸产生剂来实现，Z 1 和Q 2 分别表示氟原子或全氟烷基，R SP表示二价脂环族烃基等，R 表示由式（II-1）或式（II-2）表示的离去基团，其中R a S 3，R 4和R 4各自表示氢原子或脂肪族烃基，R SP a a表示脂肪族烃基，R 6表示二价脂肪族烃基，R SP a a表示脂族烃基]。版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

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