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1. 发明专利

JP2015027993A 塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法审中-公开
标题翻译：盐，抗蚀剂组合物和生产耐火图案的方法
公开(公告)号：JP2015027993A
公开(公告)日：2015-02-12
申请号：JP2014121338
申请日：2014-06-12
申请人：住友化学株式会社 , Sumitomo Chemical Co Ltd
发明人： ADACHI YUKAKO , ICHIKAWA KOJI
IPC分类号： C07D335/02 , C07D327/06 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039
摘要：【課題】優れたラインエッジラフネス(LER)のレジストパターンを製造可能なレジスト組成物に用いられる酸発生剤用の塩を提供する。【解決手段】式(I0)で表される塩。[式(I0)中、R1は、酸不安定基を表す。R3及びR4は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表す。m及びnは、それぞれ独立に、1又は2を表す。mが2のとき、2つのR3は同一又は相異なり、nが2のとき、2つのR4は同一又は相異なる。Arは、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基又は置換基を有していてもよいヘテロ芳香族炭化水素基を表す。A−は、有機アニオンを表す。]【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于抗蚀剂组合物的酸产生剂的盐，该抗蚀剂组合物能够产生具有优异的线边缘粗糙度（LER）的抗蚀剂图案。溶液：盐由式（I0）表示。在式（I0）中，R表示酸不稳定基团; Rand Reach独立地表示氢原子或C1-C6烷基; m和n各自独立地表示1或2; 当m为2时，两个Rs相同或不同; 当n为2时，两个Rs相同或不同; Ar表示任选取代的芳族烃基或任选取代的杂芳族烃基; 并表示有机阴离子。]

2. 发明专利

JP2015024978A 塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法有权
标题翻译：盐，抗蚀剂组合物和生产耐火图案的方法
公开(公告)号：JP2015024978A
公开(公告)日：2015-02-05
申请号：JP2013156428
申请日：2013-07-29
申请人：住友化学株式会社 , Sumitomo Chemical Co Ltd
发明人： ADACHI YUKAKO , YAMASHITA HIROKO , ICHIKAWA KOJI
IPC分类号： C07D409/12 , C07C309/17 , C09K3/00 , G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
摘要：【課題】良好な倒れマージンでレジストパターンを製造することができる塩及びレジスト組成物の提供。【解決手段】式(I)で表される塩。[式(I)中、R3及びR4はそれぞれ独立に炭素数1〜6のアルキル基、m及びnはそれぞれ独立に1又は2、R5、R6、R7、R8及びR9はそれぞれ独立に炭素数1〜12の炭化水素基を表す。R5とR6とは互いに結合して、それらが結合している炭素原子とともに炭素数5〜18の環を、R6とR7とは互いに結合してそれらが結合している炭素原子とともに炭素数5〜18の環を、R7とR8とは互いに結合して、それらが結合している炭素原子とともに炭素数5〜18の環を、R8とR9とは互いに結合してそれらが結合している炭素原子とともに炭素数5〜18の環を形成してもよい。A−は、有機アニオンを表す。]【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供能够产生具有良好塌陷边缘的抗蚀剂图案的盐，并提供抗蚀剂组合物。溶液：盐由式（I）表示。 [式（I）中，Rand Reach独立地表示C1-C6烷基; m和n各自独立地表示1或2; R，R，R，R和Reach独立地表示C1-C12烃基; Rand Rmay彼此键合形成与它们所键合的碳原子一起形成的C 5 -C 18环; Rand Rmay彼此键合形成与它们所键合的碳原子一起形成的C 5 -C 18环; Rand Rmay彼此键合形成与它们所键合的碳原子一起形成的C 5 -C 18环; Rand Rmay彼此键合形成与它们所键合的碳原子一起形成的C 5 -C 18环; 并表示有机阴离子。]

3. 发明专利

JP2012230363A Resist composition and method for producing resist pattern 审中-公开
标题翻译：耐蚀组合物及其制造方法
公开(公告)号：JP2012230363A
公开(公告)日：2012-11-22
申请号：JP2012086142
申请日：2012-04-05
申请人： Sumitomo Chemical Co Ltd , 住友化学株式会社
发明人： ADACHI YUKAKO , ICHIKAWA KOJI
IPC分类号： G03F7/004 , C07C309/17 , C08F20/26 , C09K3/00 , G03F7/039 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resist pattern having an excellent exposure margin (EL).SOLUTION: The resist composition contains a salt expressed by the formula (I), a salt expressed by the formula (II), and a resin. In formula (I) and formula (II), R, R, Rand Reach independently represent a fluorine atom or the like, Xand Xrepresent a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms or the like, n represents 1 or 2, and (Z)and (Z)represent organic counter cations.
摘要翻译：要解决的问题：提供具有优异的曝光余量（EL）的抗蚀剂图案。解决方案：抗蚀剂组合物含有由式（I）表示的盐，由式（II）表示的盐和树脂。在式（I）和式（II）中，R 1 ，R 2 ，R 3 和R 4 各自独立地表示氟原子等，X 1 ，X 2 表示碳原子数为1〜17的二价饱和烃基，n表示1或2，（Z 1 + 和（Z 2 ） + 表示有机反阳离子。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

4. 发明专利

JP2012106980A Salt, resist composition, and method of producing resist pattern 审中-公开
标题翻译：盐，抗蚀剂组合物，以及生产耐火图案的方法
公开(公告)号：JP2012106980A
公开(公告)日：2012-06-07
申请号：JP2011163991
申请日：2011-07-27
申请人： Sumitomo Chemical Co Ltd , 住友化学株式会社
发明人： ADACHI YUKAKO , ICHIKAWA KOJI
IPC分类号： C07C309/17 , C07D333/46 , C07D335/02 , G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a salt in which a focus margin (DOF) and a mask error factor (MEF) of a pattern which is acquired are favorable, and to provide a resist composition containing the salt.SOLUTION: The salt is shown by formula (I), and the resist composition contains the salt. In the formula, Rand Reach denote a hydroxy group or an alkyl group, wherein a methylene group in the alkyl group may be replaced with an oxy group or the like; Rdenotes an alkyl group; l, m and n each denote an integer of 0-3; p denotes an integer of 1-3; a methylene group of a heterocyclic ring containing a sulfonium cation may be replaced with an oxy group or carbonyl group; Rand Reach denote a fluorine atom or a perfluoroalkyl group; Ldenotes a divalent saturated hydrocarbon group, wherein a methylene group in the group may be replaced with an oxy group or a carbonyl group; and Y denotes an aliphatic hydrocarbon group or a saturated cyclic hydrocarbon group, wherein a methylene group in the groups may be replaced with an oxy group or the like.
摘要翻译：要解决的问题：提供其中获得的图案的聚焦余量（DOF）和掩模误差因子（MEF）是有利的盐，并提供含有该盐的抗蚀剂组合物。解决方案：盐由式（I）表示，抗蚀剂组合物含有盐。在该式中，R 1 和R 2 分别表示羟基或烷基，其中烷基中的亚甲基基团可以被氧基等取代; R 3 表示烷基; l，m和n分别表示0-3的整数; p表示1-3的整数; 含有锍阳离子的杂环的亚甲基可以被氧基或羰基取代; R 4 和R 5 分别表示氟原子或全氟烷基; 表示二价饱和烃基，其中该基团中的亚甲基可以被氧基或羰基取代; Y表示脂族烃基或饱和环状烃基，其中该基团中的亚甲基可以被氧基等取代。版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

5. 发明专利

JP2014167611A Resist composition and method for producing resist pattern 有权
标题翻译：耐蚀组合物及其制造方法
公开(公告)号：JP2014167611A
公开(公告)日：2014-09-11
申请号：JP2013266458
申请日：2013-12-25
申请人： Sumitomo Chemical Co Ltd , 住友化学株式会社
发明人： YOSHIDA ISAO , ADACHI YUKAKO , ICHIKAWA KOJI
IPC分类号： G03F7/004 , C07C25/00 , C07C309/17 , C07C381/12 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resist composition from which a negative resist pattern having excellent pattern collapse margin (PCM) can be produced.SOLUTION: The resist composition comprises an acid generator expressed by formula (B1), an acid generator expressed by formula (B2), and a resin having an acid-labile group. In the formulae, Qand Qrepresent a fluorine atom or a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms; n represents an integer of 1 to 4; Lrepresents a single bond or a divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms which may have a substituent; Yrepresents an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms which may have a substituent or an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms which may have a substituent; Zrepresents an organic cation; and Rrepresents a hydrocarbon group having 1 to 36 carbon atoms which may have a substituent.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种抗蚀剂组合物，由此可以产生具有优异图案塌陷边缘（PCM）的负型抗蚀剂图案。解决方案：抗蚀剂组合物包含由式（B1）表示的酸产生剂，由式（B2）和具有酸不稳定基团的树脂。在式中，Q表示氟原子或碳原子数1〜6的全氟烷基， n表示1〜4的整数， L表示单键或可以具有取代基的碳原子数为1〜17的二价脂肪族烃基; Y表示可以具有取代基的碳原子数1〜18的烷基或可以具有取代基的碳原子数3〜18的脂环族烃基; Z代表有机阳离子; 并且R表示可以具有取代基的碳原子数1〜36的烃基。

6. 发明专利

JP2013032337A Salt and resist composition 审中-公开
标题翻译：盐和组合物
公开(公告)号：JP2013032337A
公开(公告)日：2013-02-14
申请号：JP2012143831
申请日：2012-06-27
申请人： Sumitomo Chemical Co Ltd , 住友化学株式会社
发明人： ADACHI YUKAKO , ICHIKAWA KOJI
IPC分类号： C07D335/02 , C07C381/12 , C08F20/10 , C09K3/00 , G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a new salt, with which resist pattern can be produced with excellent CD uniformity (CDU), and to provide a resist composition comprising the salt and a resin.SOLUTION: The salt is represented by formula (I), wherein Qand Qeach independently represents a fluorine atom or the like; Lrepresents a single bond or a 1-17C divalent aliphatic saturated hydrocarbon group, a hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted by a fluorine atom or a hydroxy group, a methylene group constituting the divalent aliphatic saturated hydrocarbon group may be substituted by an oxygen atom or a carbonyl group; Rrepresents a hydroxy group or a 1-6C alkyl group; l represents an integer of 0-3; and Zrepresents an organic cation. The resist composition comprises the salt and a resin which is insoluble or slightly soluble in an alkaline aqueous solution and can be dissolved in an alkaline aqueous solution by the action of an acid.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够以优异的CD均匀性（CDU）制备抗蚀剂图案的新盐，并提供包含该盐和树脂的抗蚀剂组合物。解决方案：盐由式（I）表示，其中Q 1 和Q 2 各自独立地表示氟原子等; L 1 表示单键或1-17C二价脂族饱和烃基，二价饱和烃基中所含的氢原子可以被氟原子或羟基取代构成二价脂肪族饱和烃基的亚甲基可以被氧原子或羰基取代; R 1表示羟基或1-6C烷基; l表示0-3的整数; Z + 表示有机阳离子。抗蚀剂组合物包含盐和不溶于或微溶于碱性水溶液的树脂，并且可以通过酸的作用溶解在碱性水溶液中。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

7. 发明专利

JP2012234155A Resist composition and method for producing resist pattern 有权
标题翻译：耐蚀组合物及其制造方法
公开(公告)号：JP2012234155A
公开(公告)日：2012-11-29
申请号：JP2012076376
申请日：2012-03-29
申请人： Sumitomo Chemical Co Ltd , 住友化学株式会社
发明人： ICHIKAWA KOJI , ADACHI YUKAKO , FUJITA SHINGO
IPC分类号： G03F7/004 , C08F220/28 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： C07C303/22 , C07C303/32 , C07C381/12 , C07C2603/74 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041 , Y02P20/55 , C07C309/17
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a resist composition, from which a resist pattern having excellent CD (critical dimension) uniformity (CDU) can be produced, for responding to the demand for finer design dimensions in the production of a resist pattern using techniques of lithography.SOLUTION: The resist composition comprises: (A) a resin having a first structural unit containing an acid-labile group and a second structural unit containing a lactone ring; and a salt expressed by formula (I). In formula (I), Qand Qeach independently represent a fluorine atom or a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms; n represents 0 or 1; Lrepresents a single bond or an alkanediyl group having 1 to 10 carbon atoms, in which a methylene group constituting the alkanediyl group may be replaced by an oxygen atom or a carbonyl group, provided that Lis not a single bond when n is 0; Rrepresents a hydroxy group or a hydroxy group protected by a protecting group; and Zrepresents an organic cation.
摘要翻译：要解决的问题为了获得抗蚀剂组合物，可以从其制备具有优异的CD（临界尺寸）均匀性（CDU）的抗蚀剂图案，以响应抗蚀剂图案的制造中对更精细的设计尺寸的需求使用光刻技术。抗蚀剂组合物包含：（A）具有含有酸不稳定基团的第一结构单元和含有内酯环的第二结构单元的树脂; 和由式（I）表示的盐。在式（I）中，Q 1 和Q 2 各自独立地表示氟原子或具有1至6个碳的全氟烷基原子; n表示0或1; L 1 表示单键或碳原子数1〜10的烷二基，其中构成链烷二基的亚甲基可以被氧原子或羰基取代，假设当n为0时，L 1 不是单键; R 1表示羟基或被保护基保护的羟基; Z + 表示有机阳离子。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

8. 发明专利

JP2012224611A Salt, resist composition, and method for producing resist pattern 有权
标题翻译：盐，抗蚀剂组合物和生产耐火图案的方法
公开(公告)号：JP2012224611A
公开(公告)日：2012-11-15
申请号：JP2011194759
申请日：2011-09-07
申请人： Sumitomo Chemical Co Ltd , 住友化学株式会社
发明人： ADACHI YUKAKO , ICHIKAWA KOJI
IPC分类号： C07C309/17 , C07D327/06 , C07D333/46 , C07D335/02 , C09K3/00 , G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： C07D327/02 , C07C303/32 , C07C309/04 , C07C309/06 , C07C309/12 , C07C309/17 , C07C309/19 , C07D327/04 , C07D327/06 , C07D333/46 , C07D335/02 , C07D337/04 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/2041 , G03F7/38
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To solve the problem wherein CD uniformity (CDU) of an obtained resist pattern is not necessarily satisfactory, concerning a resist composition containing an acid generating agent which is well-known hitherto.SOLUTION: This invention relates to a salt represented by formula (I), and a resist composition containing the same. [in the formula, Rand Reach represent a fluorine atom or the like. Lrepresents a single bond or the like. Y represents a 3-18C monovalent alicyclic hydrocarbon group which may have a substituent, or the like. R, R, R, Rand Reach represent a hydrogen atom or the like. A methylene group contained in an alicyclic part containing cationic S may be substituted with an oxygen atom or the like. Further, n represents an integer of 1-3, s represents an integer of 0-3, and Rrepresents a 1-6C alkyl group].
摘要翻译：要解决的问题为了解决所获得的抗蚀剂图案的CD均匀性（CDU）不一定令人满意的问题，涉及迄今为止众所周知的含有酸产生剂的抗蚀剂组合物。解决方案：本发明涉及由式（I）表示的盐以及含有该盐的抗蚀剂组合物。 [式中，R 1 和R 2 分别表示氟原子等。 L 1 表示单键等。 Y表示可具有取代基的3〜18C价的1价脂环族烃基等。 R 3 ，R 4 ，R 5 ，R 6 和R 7 分别表示氢原子等。含有阳离子S的脂环族部分中所含的亚甲基可以被氧原子等取代。此外，n表示1-3的整数，s表示0〜3的整数，R 6表示1-6C的烷基。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

9. 发明专利

JP2012215863A Resist composition 有权
标题翻译：耐腐蚀组合物
公开(公告)号：JP2012215863A
公开(公告)日：2012-11-08
申请号：JP2012068787
申请日：2012-03-26
申请人： Sumitomo Chemical Co Ltd , 住友化学株式会社
发明人： ICHIKAWA KOJI , ADACHI YUKAKO , YAMAGUCHI NORIFUMI
IPC分类号： G03F7/004 , C08F220/28 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/2041 , G03F7/38 , Y10S430/111
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resist composition with which a resist pattern having excellent CD (critical dimension) uniformity (CDU) can be produced.SOLUTION: The resist composition comprises (A) a resin, (B) an acid generator and (X) at least one compound selected from the group consisting of compounds expressed by a formula (I-a) and a formula (I-b). A method for manufacturing a resist pattern is provided, using the resist composition. In the formulae, Zrepresents an aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms or the like, Rrepresents an aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms or the like, and n represents 0 or 1.
摘要翻译：要解决的问题：提供可以制备具有优异的CD（临界尺寸）均匀性（CDU）的抗蚀剂图案的抗蚀剂组合物。解决方案：抗蚀剂组合物包含（A）树脂，（B）酸产生剂和（X）至少一种选自式（I-a）和式（I-b）表示的化合物的化合物。使用抗蚀剂组合物提供抗蚀剂图案的制造方法。在该式中，Z 1 表示碳原子数1〜20的脂肪族饱和烃基等，R 1表示碳原子数1〜20的脂肪族饱和烃基等，n表示0或1。（C）2013，JPO＆INPIT

10. 发明专利

JP2012046501A Salt, photoresist composition and method for producing resist pattern 有权
标题翻译：盐，光电组合物及其制造方法
公开(公告)号：JP2012046501A
公开(公告)日：2012-03-08
申请号：JP2011163944
申请日：2011-07-27
申请人： Sumitomo Chemical Co Ltd , 住友化学株式会社
发明人： ADACHI YUKAKO , ICHIKAWA KOJI , HIRAOKA TAKASHI
IPC分类号： C07C309/12 , C07C309/17 , C07C381/12 , C07D327/08 , C09K3/00 , G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide salt and a resist composition capable of forming a pattern having an excellent focus margin (DOF).SOLUTION: The salt is represented by formula (I) (wherein, Qand Qeach independently represent a fluorine atom or 1C-6C perfluoroalkyl group; Lrepresents a bivalent 2C-17C saturated hydrocarbon group, in which a methylene group contained in the bivalent saturated hydrocarbon group may be replaced with an oxy group or a carbonyl group; Rand Reach independently represent a 1C-12C hydrocarbon group: and Zrepresents an organic counter ion).
摘要翻译：要解决的问题：提供能够形成具有优异聚焦余量（DOF）的图案的盐和抗蚀剂组合物。
解决方案：盐由式（I）表示（其中，Q 1 和Q 2 各自独立地表示氟原子或1C-6C全氟烷基; L 1 表示二价C 2C-17 C饱和烃基，其中二价饱和烃基中所含的亚甲基可以被氧基或羰基; R 1 和R 2 各自独立地表示1C-12C烃基：Z 1 + 代表有机抗衡离子）。版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

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