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1. 发明专利

JP2015028608A ネガ型感光性樹脂組成物、硬化膜、電子装置およびポリマー审中-公开
标题翻译：阴离子感光树脂组合物，固化膜，电子设备和聚合物
公开(公告)号：JP2015028608A
公开(公告)日：2015-02-12
申请号：JP2014109920
申请日：2014-05-28
申请人：住友ベークライト株式会社 , Sumitomo Bakelite Co Ltd
发明人： ONISHI OSAMU , IKEDA TAKAO
IPC分类号： G03F7/038 , H01L21/027
摘要：【課題】絶縁膜に要求される種々の特性のバランスに優れたネガ型感光性樹脂組成物を提供する。【解決手段】ネガ型感光性樹脂組成物は、下記式(1)で示される共重合体で構成されるポリマーと、光酸発生剤と、上記光酸発生剤より発生した酸を触媒として上記ポリマーを架橋する第一架橋剤と、を含む。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供具有绝缘膜所需的各种性能的平衡优异的负型感光性树脂组合物。溶解性：负型感光性树脂组合物包含含有下述式（1）表示的共聚物的聚合物，光酸产生剂，以及用于将聚合物与由光酸产生剂产生的酸交联作为催化剂的第一交联剂。

2. 发明专利

JP2015007762A ネガ型感光性樹脂組成物、電子装置およびポリマー审中-公开
标题翻译：负性光敏树脂组合物，电子设备和聚合物
公开(公告)号：JP2015007762A
公开(公告)日：2015-01-15
申请号：JP2014101826
申请日：2014-05-15
申请人：住友ベークライト株式会社 , Sumitomo Bakelite Co Ltd
发明人： ONISHI OSAMU , IKEDA TAKAO
IPC分类号： G03F7/038 , C08F8/14 , C08F232/08 , C08F290/12 , G03F7/004 , G03F7/027
摘要：【課題】解像性と、パターン形成にかかる時間とのバランスに優れたネガ型感光性樹脂組成物、電子装置、ポリマーを提供すること。【解決手段】以下の(1)および(2a)で示される繰り返し単位を含み、式(2a)のR5がラジカル重合性基を有し、炭素数2〜18の有機基であるポリマーと、光ラジカル重合開始剤とを含むネガ型感光性樹脂組成物が提供される。(式(1)中、R1、R2、R3およびR4はそれぞれ独立して水素または炭素数1〜30の有機基である。nは0、1または2である)【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供图案形成所需的分辨率和时间之间的平衡优异的负型感光性树脂组合物，并且提供电子器件和聚合物。解决方案：提供一种负型感光性树脂组合物，其含有：由下式（1）和（2a）表示的重复单元，其中式（2a）的Rin具有自由基聚合性基团，为C2-C18有机基团; 和光自由基聚合引发剂。（式（1）中，R，R，R和R 3各自独立地为氢或1-30C有机基团，n为0,1或2）

3. 发明专利

JP2014136720A Production method of polymer 有权
标题翻译：聚合物的生产方法
公开(公告)号：JP2014136720A
公开(公告)日：2014-07-28
申请号：JP2013005007
申请日：2013-01-15
申请人： Sumitomo Bakelite Co Ltd , 住友ベークライト株式会社
发明人： IKEDA TAKAO , TAGASHIRA NOBUO , IMAMURA YUJI , ONISHI OSAMU
IPC分类号： C08F8/12 , C08F8/14 , C08F222/06 , C08F232/08
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a production method of a polymer by which an amount of a carboxyl group in the polymer can be adjusted.SOLUTION: The production method of a polymer includes: a step in which a norbornene type monomer and maleic acid anhydride are co-polymerized to obtain a copolymer that has a repeating unit derived from the norbornene type monomer, and a repeating unit of a cyclic structure derived from the maleic acid anhydride; and a step in which the cyclic structure of a part of the repeating unit out of the repeating unit derived from the maleic acid anhydride of the copolymer is not ring-opened, the other part of the repeating unit of the cyclic structure is ring-opened, thereby the repeating unit having a carboxyl group is formed. In the step in which the repeating unit having the carboxyl group is formed, under the presence of a base, 50% or more of the repeating unit out of the repeating unit derived from the maleic acid anhydride of the copolymer is not ring-opened, and the cyclic structure of the other part repeating unit is ring-opened, and then acid treatment is performed.
摘要翻译：要解决的问题：提供可以调节聚合物中羧基量的聚合物的制备方法。溶液：聚合物的制备方法包括：降冰片烯型单体和马来酸酐共聚以获得具有来自降冰片烯型单体的重复单元的共聚物和源自马来酸酐的环状结构的重复单元; 并且由共聚物的马来酸酐衍生的重复单元中的重复单元的一部分的环状结构不是开环的，环状结构的重复单元的另一部分是开环的从而形成具有羧基的重复单元。在形成具有羧基的重复单元的步骤中，在碱的存在下，由共聚物的马来酸酐衍生的重复单元中的重复单元的50重量％以上不是开环的，并且另一部分重复单元的环状结构是开环的，然后进行酸处理。

4. 发明专利

JP2014136719A Polymer, photosensitive resin composition and electronic apparatus 有权
标题翻译：聚合物，感光树脂组合物和电子设备
公开(公告)号：JP2014136719A
公开(公告)日：2014-07-28
申请号：JP2013004982
申请日：2013-01-15
申请人： Sumitomo Bakelite Co Ltd , 住友ベークライト株式会社
发明人： IKEDA TAKAO , TAGASHIRA NOBUO , IMAMURA YUJI , ONISHI OSAMU
IPC分类号： C08F232/00 , G03F7/004 , G03F7/038 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polymer for improving the operational reliability of an electronic apparatus, and a photosensitive resin composition including the polymer and an electronic apparatus made using the photosensitive resin.SOLUTION: This invention relates to a polymer for forming a film constituting a part of an electronic or optical device, the polymer is a copolymer represented by the formula (1), the polymer contains alkali metal and having its concentration of 10 mass ppm or less.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于提高电子设备的操作可靠性的聚合物和包含聚合物的感光性树脂组合物和使用该感光性树脂制成的电子设备。本发明涉及一种用于形成膜的聚合物电子或光学器件的一部分，聚合物是由式（1）表示的共聚物，聚合物含有碱金属并且其浓度为10质量ppm以下。

5. 发明专利

JP2014136717A Polymer, photosensitive resin composition and electronic device 有权
标题翻译：聚合物，感光树脂组合物和电子器件
公开(公告)号：JP2014136717A
公开(公告)日：2014-07-28
申请号：JP2013004980
申请日：2013-01-15
申请人： Sumitomo Bakelite Co Ltd , 住友ベークライト株式会社
发明人： IKEDA TAKAO , TAGASHIRA NOBUO , IMAMURA YUJI , ONISHI OSAMU
IPC分类号： C08F232/00 , C08F222/06 , C08K5/28 , C08L35/00 , C08L45/00 , C08L63/00 , G03F7/004 , G03F7/023 , G03F7/033
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To stably produce a polymer for an electronic device.SOLUTION: The polymer comprises a copolymer expressed by formula (1) described below and has an acid value of 15 mgKOH/g or more and 65 mgKOH/g or less on the polymer basis. In formula (1), l and m each represent a molar content percentage in the polymer, satisfying l+m=1; n is 0, 1, or 2; R, R, Rand Reach independently represent hydrogen or an organic group having 1 to 30 carbon atoms; and A represents maleic acid anhydride or a specific structural unit derived from maleic acid anhydride.
摘要翻译：要解决的问题：稳定地制造电子器件用聚合物。溶液：聚合物包含由下述式（1）表示的共聚物，其酸值为15mgKOH / g以上且65mgKOH / g以下，聚合物基础。在式（1）中，l和m分别表示聚合物中的摩尔含量百分比，满足l + m = 1; n为0,1或2; R，R，Rand Reach独立地表示氢或具有1至30个碳原子的有机基团; A表示马来酸酐或由马来酸酐衍生的特定结构单元。

6. 发明专利

JP2014137429A Photosensitive resin composition 有权
标题翻译：感光树脂组合物
公开(公告)号：JP2014137429A
公开(公告)日：2014-07-28
申请号：JP2013005013
申请日：2013-01-15
申请人： Sumitomo Bakelite Co Ltd , 住友ベークライト株式会社
发明人： IKEDA TAKAO , TAGASHIRA NOBUO , IMAMURA YUJI , ONISHI OSAMU
IPC分类号： G03F7/023 , C08F232/00 , G03F7/004 , G03F7/032
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photosensitive resin composition excellent in solvent resistance.SOLUTION: The photosensitive resin composition comprises a polymer, a crosslinking agent and a photosensitive material. A film is formed from the photosensitive resin composition by a spin coating process and then baked on a hot plate at 100°C for 120 seconds; and the obtained layer is exposed to UV rays with energy of 300 mJ/cmand then baked in an oven at 230°C for 60 minutes to obtain a first film. The film thickness of the first film is denoted by a first film thickness. The first film is immersed in N-methylpyrrolidone at 23°C for 10 minutes. The film thickness of thus treated film is denoted by a second film thickness. The film thicknesses satisfies [{(second film thickness)-(first film thickness)}/(first film thickness)]×100≤5.
摘要翻译：要解决的问题：提供耐溶剂性优异的感光性树脂组合物。解决方案：感光性树脂组合物包含聚合物，交联剂和感光材料。通过旋涂法由感光性树脂组合物形成膜，然后在100℃的热板上烘烤120秒; 将获得的层暴露于能量为300mJ / cm的紫外线，然后在230℃的烘箱中烘烤60分钟，得到第一膜。第一膜的膜厚由第一膜厚表示。将第一膜在23℃下浸渍在N-甲基吡咯烷酮中10分钟。由此处理的膜的膜厚由第二膜厚表示。膜厚满足[{（第二膜厚） - （第一膜厚））/（第一膜厚）]×100≤5。

7. 发明专利

JP2015007770A 感光性樹脂組成物および電子装置审中-公开
标题翻译：光敏树脂组合物和电子设备
公开(公告)号：JP2015007770A
公开(公告)日：2015-01-15
申请号：JP2014111071
申请日：2014-05-29
申请人：住友ベークライト株式会社 , Sumitomo Bakelite Co Ltd
发明人： IKEDA TAKAO , ONISHI OSAMU , IMAMURA YUJI , TAGASHIRA NOBUO
IPC分类号： G03F7/023 , C08F8/00 , C08F222/04 , C08F236/20 , G03F7/004
摘要：【課題】感光性樹脂組成物を、半導体装置の層間絶縁膜や、液晶表示装置のTFT電極を被覆する平坦化膜に使用することも検討されている。この場合、製品の製造過程において、感光性樹脂組成物が所定の溶剤に浸されることがある。そのため硬化膜の耐薬品性を向上できる感光性樹脂組成物および電子装置を提供する。【解決手段】感光性樹脂組成物は、アルカリ可溶性樹脂と、光あるいは熱により塩基を発生する塩基発生剤と、前記塩基発生剤とは異なる感光剤と、を含む。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：为了提供能够提高固化膜的耐化学性的感光性树脂组合物和电子器件，因为在制造产品的过程中，感光性树脂组合物偶尔浸渍在规定的溶剂中时，当感光性树脂组合物用于半导体器件的层间绝缘膜或覆盖液晶显示装置的TFT电极的平坦化膜中。解决方案：一种感光性树脂组合物，其包含：碱溶性树脂; 通过光或热产生基底的基座发生器; 以及与基底发生器不同的感光剂。

8. 发明专利

JP2014136718A Polymer, photosensitive resin composition and electronic device 有权
标题翻译：聚合物，感光树脂组合物和电子器件
公开(公告)号：JP2014136718A
公开(公告)日：2014-07-28
申请号：JP2013004981
申请日：2013-01-15
申请人： Sumitomo Bakelite Co Ltd , 住友ベークライト株式会社
发明人： IKEDA TAKAO , TAGASHIRA NOBUO , IMAMURA YUJI , ONISHI OSAMU
IPC分类号： C08F232/08 , G03F7/023 , G03F7/038 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polymer for improving operational reliability of an electronic device, a photosensitive resin composition, and an electronic device.SOLUTION: The polymer comprises a copolymer expressed by formula (1) described below, which has a molecular weight distribution curve obtained by GPC in which a peak area in a molecular weight range up to 1000 is 1% or less of the whole area. In formula (1), A represents a structural unit derived from maleic acid anhydride.
摘要翻译：要解决的问题：提供用于提高电子器件，感光性树脂组合物和电子器件的操作可靠性的聚合物。溶液：聚合物包含由下述式（1）表示的共聚物，其具有分子量分布通过GPC得到的曲线，其中分子量范围高达1000的峰面积为整个面积的1％以下。式（1）中，A表示由马来酸酐衍生的结构单元。

9. 发明专利

JP2011073974A Norbornene derivative and method for producing the same 审中-公开
标题翻译：诺贝恩衍生物及其生产方法
公开(公告)号：JP2011073974A
公开(公告)日：2011-04-14
申请号：JP2009223658
申请日：2009-09-29
申请人： Sumitomo Bakelite Co Ltd , 住友ベークライト株式会社
发明人： IKEDA TAKAO , ONISHI OSAMU
IPC分类号： C07C69/608 , C07C67/347
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a new norbornene derivative suitably used as a precursor monomer for producing norbornene-based polymers having good physical properties as electronic materials, optical materials and the like, and to provide a method for producing the same.
SOLUTION: This invention relates to a norbornene derivative represented by general formula (1), wherein X is a 3-10C substituted or non-substituted hydrocarbon chain.
COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

10. 发明专利

JP2014232233A 感光性樹脂組成物および電子装置有权
标题翻译：光敏树脂组合物和电子设备
公开(公告)号：JP2014232233A
公开(公告)日：2014-12-11
申请号：JP2013113411
申请日：2013-05-29
申请人：住友ベークライト株式会社 , Sumitomo Bakelite Co Ltd
发明人： IKEDA TAKAO , ONISHI OSAMU , IMAMURA YUJI , TAGASHIRA NOBUO
IPC分类号： G03F7/004 , C08F232/04 , G03F7/023
摘要：【課題】耐薬品性と、感光性樹脂組成物に求められる他の特性とのバランスに優れた感光性樹脂組成物、およびこの感光性樹脂組成物を有する電子装置を提供する。【解決手段】下記式(1)で示されるポリマー(第一のポリマー)と、このポリマーと架橋する第一の架橋剤と、前記ポリマーあるいは前記第一の架橋剤と架橋する反応性基を有する第二の架橋剤であるアクリル樹脂と、感光剤とを含む。(式(1)中、R1、R2、R3およびR4はそれぞれ独立して水素または炭素数1〜30の有機基であり、Aは無水マレイン酸誘導体構造単位である。)【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供在耐化学性和感光性树脂组合物所需的其它特性之间具有优异平衡的感光性树脂组合物，并提供具有感光性树脂组合物的电子器件。溶液：感光性树脂组合物包含聚合物第一聚合物），与聚合物交联的第一交联剂，具有与聚合物或第一交联剂交联的反应性基团的第二交联剂的丙烯酸树脂和光敏剂。式（1）中，R，R，Rand Reach独立地表示氢或碳原子数1〜30的有机基团。 A表示由马来酸酐衍生的结构单元。

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