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    • 1. 发明专利
      JP2013036793A X-ray analyzing apparatus and method 有权
    • X-ray analyzing apparatus and method
    • X射线分析装置和方法
    • JP2013036793A
    • 2013-02-21
    • JP2011171595
    • 2011-08-05
    • Sii Nanotechnology Inc , エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社
    • MATOBA YOSHITAKE , NAKATANI RINTARO , SATO TSUNEO
    • G01N23/04 , G01N23/223
    • G01N23/06 , G01N23/223 , G01N2223/076
    • PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an X-ray analyzing apparatus capable of accurately and quickly performing elemental analysis on a position of a foreign matter detected by a transmitted X-ray device by using a fluorescent X-ray.SOLUTION: An X-ray analyzing apparatus 1 includes: a transmitted X-ray inspection unit 10 including a first X-ray source 12 and a transmitted X-ray detector 14 for detecting a transmitted X-ray 12x transmitted from the first X-ray source through a sample 100; a fluorescent X-ray inspection unit 20 including a second X-ray source 22 and a fluorescent X-ray detector 24 for detecting an X-ray 22y discharged from the sample when an X-ray from the second X-ray source is applied to the sample; a sample stage 50 for holding the sample; a moving mechanism 30 for relatively moving the sample stage between an irradiation position of the first X-ray source and an irradiation position of the second X-ray source; foreign matter position calculation means 60 for calculating a position of a foreign matter 101 detected in the sample by the transmitted X-ray detector; and moving mechanism control means 61 for controlling the moving mechanism so that the position of the foreign matter calculated by the foreign matter position calculation means coincides with an optical axis 22c of the second X-ray source.
    • 解决的问题：提供一种能够通过使用荧光X射线，准确，快速地对由透射的X射线装置检测到的异物的位置进行元素分析的X射线分析装置。 解决方案：X射线分析装置1包括：透射X射线检查单元10，包括第一X射线源12和透射X射线检测器14，用于检测从第一X射线源12发射的透射X射线12x 通过样品100的X射线源; 荧光X射线检查单元20包括第二X射线源22和荧光X射线检测器24，用于检测当来自第二X射线源的X射线时从样品排出的X射线22y被施加到 例子; 用于保持样品的样品台50; 用于在第一X射线源的照射位置和第二X射线源的照射位置之间使样本台相对移动的移动机构30; 异物位置计算装置60，用于计算由所发送的X射线检测器在样本中检测到的异物101的位置; 以及用于控制移动机构的移动机构控制装置61，使得由异物位置计算装置计算的异物的位置与第二X射线源的光轴22c重合。 版权所有（C）2013，JPO＆INPIT
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    • 2. 发明专利
      JP2011209075A Fluorescent x-ray analyzer 有权
    • Fluorescent x-ray analyzer
    • 荧光X射线分析仪
    • JP2011209075A
    • 2011-10-20
    • JP2010076377
    • 2010-03-29
    • Sii Nanotechnology Inc , エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社
    • SATO TSUNEO
    • G01N23/223
    • PROBLEM TO BE SOLVED: To separate properly a fluorescent X-ray peak waveform from a background waveform, even in the case of a spectrum existing near an inflection point at which the background waveform is changed suddenly.SOLUTION: Each intensity of the background waveform and the fluorescent X-ray peak waveform is changed so as to reproduce excellently a measured waveform by using a typical background waveform, a fluorescent X-ray peak waveform whose intensity is desired to be determined, and a plurality of detected fluorescent X-ray peak waveforms existing in the periphery of the peak. In this fluorescence X-ray analyzer, the fluorescent X-ray peak waveform and the background waveform are separated from a completed spectrum.
    • 要解决的问题：即使在背景波形突然变化的拐点附近存在频谱的情况下，也可以正确地分离荧光X射线峰值波形。解决方案：背景波形的每个强度和 改变荧光X射线峰值波形，以通过使用典型的背景波形，期望强度的荧光X射线峰值波形和多个检测的荧光X射线峰值波形来优异地再现测量波形 存在于高峰的边缘。 在该荧光X射线分析仪中，将荧光X射线峰值波形和背景波形与完成的光谱分离。
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