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1. 发明专利

JPWO2009142183A1 新規化合物及び重合体並びに感放射線性組成物有权
公开(公告)号：JPWO2009142183A1
公开(公告)日：2011-09-29
申请号：JP2010513015
申请日：2009-05-18
申请人： Jsr株式会社 , Jsr株式会社
发明人：宏和榊原 , 宏和榊原 , 岳彦成岡 , 岳彦成岡 , 誠志水 , 誠志水 , 西村　幸生 , 幸生西村 , 信司松村 , 信司松村 , 裕介浅野 , 裕介浅野
IPC分类号： C08F20/28 , G03F7/039
CPC分类号： C07C69/96 , C08F220/18 , C08F220/22 , C08F220/24 , C08F220/26 , C09D133/18 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
摘要：本発明の目的は、得られるパターン形状が良好であり、液浸露光時に液浸露光用液体への溶出物の量が少なく、後退接触角が大きく、且つ現像欠陥が少ない感放射線性組成物を提供することである。本発明の感放射線性組成物は、下記一般式(1)で表される化合物に由来する繰り返し単位(1)を有するフッ素含有重合体と、溶剤とを含有する。(一般式(1)中、R1はメチル基等を示し、R2は、1−メチルエチレン基等を示し、R3は相互に独立に、炭素数1〜4のアルキル基等を示し、Xは、炭素数1〜20のフルオロアルキレン基を示す。)

2. 发明专利

JPWO2009142182A1 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法及びフォトレジスト膜有权
公开(公告)号：JPWO2009142182A1
公开(公告)日：2011-09-29
申请号：JP2010513014
申请日：2009-05-18
申请人： Jsr株式会社 , Jsr株式会社
发明人：岳彦成岡 , 岳彦成岡 , 一樹笠原 , 一樹笠原 , 大樹中川 , 大樹中川 , 宏和榊原 , 宏和榊原 , 誠杉浦 , 誠杉浦 , 下川　努 , 努下川 , 誠志水 , 誠志水 , 西村　幸生 , 幸生西村 , 信司松村 , 信司松村 , 裕介浅野 , 裕介浅野
IPC分类号： G03F7/039 , C08F220/22 , C08F220/28 , G03F7/26 , G03F7/38 , H01L21/027
CPC分类号： C07C69/96 , C08F220/24 , C08F220/30 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
摘要：本発明の目的は、液浸露光時に接触する液浸露光用液体への溶出物の量が少なく、液浸露光用液体との後退接触角が大きく、現像欠陥が少なく、且つ微細なレジストパターンを高精度に形成することが可能なレジスト膜を形成し得る感放射線性樹脂組成物等を提供することである。本発明の感放射線性樹脂組成物は、液浸露光工程を含むレジストパターン形成方法において、レジスト膜を形成するために用いられる樹脂組成物であって、樹脂成分と、酸発生剤と、溶剤とを含有しており、この樹脂成分は、側鎖にフッ素原子と酸解離性基とを有する繰り返し単位(a1)を含有する樹脂(A1)を含み、且つ、前記樹脂組成物は、K1=F1/F2(式中、F1はレジスト膜の最表面付近におけるフッ素含有率を示し、F2はレジスト膜の最表面側から膜厚の20%付近におけるフッ素含有率を示す。)で定義されるK1の値が、1≦K1≦5を満たす。

3. 发明专利

JPWO2008133270A1 感放射線性樹脂組成物审中-公开
公开(公告)号：JPWO2008133270A1
公开(公告)日：2010-07-29
申请号：JP2009511884
申请日：2008-04-23
申请人： Jsr株式会社 , Jsr株式会社
发明人：誠志水 , 誠志水 , 岳彦成岡 , 岳彦成岡 , 芳史大泉 , 芳史大泉 , 峰規川上 , 峰規川上 , 信司松村 , 信司松村 , 昇大塚 , 昇大塚
IPC分类号： G03F7/039 , C08F220/28 , C09K3/00 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0045
摘要：一般式(1)(20モル%以上)、(2)及び(3)の繰り返し単位を有する樹脂(A)と、感放射線性酸発生剤(B)とを含有する感放射線性樹脂組成物。レジストとしての基本物性に優れ、且つ、孤立ラインの性能および欠陥性能に優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。

4. 发明专利

JPWO2009057484A1 感放射線性樹脂組成物及び重合体有权
公开(公告)号：JPWO2009057484A1
公开(公告)日：2011-03-10
申请号：JP2009539020
申请日：2008-10-21
申请人： Jsr株式会社 , Jsr株式会社
发明人：宏和榊原 , 宏和榊原 , 誠志水 , 誠志水 , 岳彦成岡 , 岳彦成岡 , 芳史大泉 , 芳史大泉 , 健太郎原田 , 健太郎原田 , 琢磨江畑 , 琢磨江畑
IPC分类号： G03F7/004 , C08F220/16 , C08F220/22 , C08F220/38 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0397 , C08F220/18 , C08L2312/06 , C09D133/14 , C09D133/16 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/2041 , C08F220/24 , C08F220/38
摘要：本発明の目的は、得られるパターン形状が良好であり、液浸露光時に接触した液浸露光用液体への溶出物の量が少なく、レジスト被膜と液浸露光用液体との後退接触角が大きく、且つ現像欠陥が少ない感放射線性樹脂組成物及びそれに用いられる重合体を提供することである。本組成物は、重合体、酸不安定基を含有する樹脂、酸発生剤及び溶剤を含有するものであって、前記重合体は、下記式(1)及び(2)で表される繰り返し単位を含有する。〔R1及びR2は、各々、水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基を示し、R3は少なくとも一つ以上の水素原子がフッ素原子で置換された、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数4〜20の脂環式炭化水素基若しくはその誘導体を示し、Zは光照射により酸を発生する基を含有する基を示す。〕

5. 发明专利

JPWO2008149701A1 感放射線性樹脂組成物有权
公开(公告)号：JPWO2008149701A1
公开(公告)日：2010-08-26
申请号：JP2009517795
申请日：2008-05-26
申请人： Jsr株式会社 , Jsr株式会社
发明人：宏和榊原 , 宏和榊原 , 誠志水 , 誠志水 , 岳彦成岡 , 岳彦成岡 , 永井　智樹 , 智樹永井 , 芳史大泉 , 芳史大泉
IPC分类号： G03F7/039 , C08F220/28 , C09K3/00 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0397 , C08F220/18 , C08F220/30 , C08F2220/1808 , G03F7/0045 , G03F7/0392
摘要：感度に優れると共に、MEEFを良好に維持することができる。下記式(1−1)で示される繰り返し単位および下記式(1−2)で示される繰り返し単位からなる樹脂(A1)と、感放射線性酸発生剤(B)とを含有するマスクエラーファクターを小さくできる感放射線性樹脂組成物。R1、R2、R3はそれぞれ炭素数1〜4の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基を表し、R4は、水素原子、炭素数2〜4の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、炭素数1〜4の直鎖状若しくは分岐状のフッ素化アルキル基、または、炭素数1〜4の直鎖状若しくは分岐状のアルコキシ基を表し、qは0〜3の整数を表す。

6. 发明专利

JPWO2008056796A1 感放射線性樹脂組成物有权
公开(公告)号：JPWO2008056796A1
公开(公告)日：2010-02-25
申请号：JP2008543150
申请日：2007-11-09
申请人： Jsr株式会社 , Jsr株式会社
发明人：永井　智樹 , 智樹永井 , 琢磨江畑 , 琢磨江畑 , 誠志水 , 誠志水
IPC分类号： G03F7/004 , C08F20/38
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , Y10S430/108 , Y10S430/111
摘要：感放射線性酸発生剤として優れた機能を有し、環境や人体に対する悪影響が低い樹脂を含有し、かつ、高い解像性能及び良好なレジストパターンを得ることができるレジスト被膜を形成可能であり、下記一般式(1)で表される繰り返し単位を有する樹脂及び溶剤を含有する感放射線性樹脂組成物。(前記一般式(1)中、R1は水素原子等を表し、M+は所定のカチオンを表し、nは1〜5の整数を表す)

7. 发明专利

JPWO2006121096A1 新規化合物および重合体、ならびに感放射線性樹脂組成物有权
公开(公告)号：JPWO2006121096A1
公开(公告)日：2008-12-18
申请号：JP2007528308
申请日：2006-05-11
申请人： Jsr株式会社 , Jsr株式会社
发明人：永井　智樹 , 智樹永井 , 米田　英司 , 英司米田 , 琢磨江畑 , 琢磨江畑 , 峰規川上 , 峰規川上 , 誠杉浦 , 誠杉浦 , 下川　努 , 努下川 , 誠志水 , 誠志水
IPC分类号： C08F28/02 , C07C309/12 , C07C309/19 , C07C309/20 , C07C381/12 , C08F20/38 , G03F7/039
CPC分类号： C09D133/14 , C07C309/10 , C07C309/12 , C07C309/19 , C07C309/20 , C07C381/12 , C07D209/76 , C08F20/38 , C08F28/00 , C08F28/02 , C08F214/18 , C08F220/12 , C08F220/18 , C08F220/24 , C08F220/28 , C08F228/02 , C09D141/00 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/0397
摘要：放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れ、特に高解像度でDOFが広くLERに優れる感放射線性樹脂組成物、その組成物に利用できる重合体およびこの重合体合成に用いられる新規化合物を提供する。新規化合物は、下記式(2)で表される。式(2)において、R4はメチル基、トリフルオロメチル基、または水素原子を表し、Rfの少なくとも1つはフッ素原子または炭素数1〜10の直鎖状もしくは分岐状のパーフルオロアルキル基を表し、Aは2価の有機基または単結合を表し、Gはフッ素原子を含有する2価の有機基または単結合を表し、Mm+は金属イオンもしくはオニウム陽イオンを表し、mは1〜3の自然数を、pは1〜8の自然数をそれぞれ示す。

8. 发明专利

JPWO2009142181A1 液浸露光用感放射線性樹脂組成物、重合体及びレジストパターン形成方法审中-公开
公开(公告)号：JPWO2009142181A1
公开(公告)日：2011-09-29
申请号：JP2010513013
申请日：2009-05-18
申请人： Jsr株式会社 , Jsr株式会社
发明人：信司松村 , 信司松村 , 征矢野　晃雅 , 晃雅征矢野 , 裕介浅野 , 裕介浅野 , 岳彦成岡 , 岳彦成岡 , 宏和榊原 , 宏和榊原 , 誠志水 , 誠志水 , 西村　幸生 , 幸生西村
IPC分类号： G03F7/039 , C08F20/28 , H01L21/027
CPC分类号： C07C69/96 , C08F220/18 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041 , C08F220/28 , C08F220/22
摘要：本発明の目的は、放射線に対する透明性が高く、感度等のレジストとしての基本物性に優れるとともに、最小倒壊寸法(倒れ)に優れており、且つ液浸露光プロセスにおけるパターン形状のバラツキが改善された液浸露光用感放射線性樹脂組成物、重合体及びレジストパターン形成方法を提供することである。本発明の液浸露光用感放射線性樹脂組成物は、(A)樹脂成分と、(B)感放射線性酸発生剤と、(C)溶剤と、を含有するものであって、(A)樹脂成分は、該(A)樹脂成分を100質量%とした場合に、側鎖にフッ素原子と酸解離性基とを有する繰り返し単位(a1)を含有する酸解離性基含有樹脂(A1)を、50質量%を超えて含有する。

9. 发明专利

JPWO2008056795A1 重合性スルホン酸オニウム塩、及び樹脂有权
公开(公告)号：JPWO2008056795A1
公开(公告)日：2010-02-25
申请号：JP2008543149
申请日：2007-11-09
申请人： Jsr株式会社 , Jsr株式会社 , セントラル硝子株式会社
发明人：永井　智樹 , 智樹永井 , 琢磨江畑 , 琢磨江畑 , 誠志水 , 誠志水 , ジョドリ・ジョナサン・ジョアキム , 成塚　智 , 智成塚 , 昌生藤原 , 昌生藤原
IPC分类号： C08F20/38 , C07C303/32 , C07C309/12 , C07C381/12
CPC分类号： C07C309/12 , C07C381/12 , C08F20/38 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392
摘要：感放射線性酸発生剤として優れた機能を有し、環境や人体に対する悪影響が低い樹脂であり、下記一般式(10)で表される繰り返し単位を有する樹脂。(前記一般式(10)中、R1は水素原子等を表し、M+は所定のカチオンを表し、nは1〜5の整数を表す)

10. 发明专利

JP5365452B2 Radiation-sensitive resin composition 有权
公开(公告)号：JP5365452B2
公开(公告)日：2013-12-11
申请号：JP2009225185
申请日：2009-09-29
申请人： Jsr株式会社
发明人：研丸山 , 誠志水
IPC分类号： G03F7/039 , C08F12/04 , C08F20/10 , C08F20/56 , G03F7/004 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a radiation sensitive resin composition for forming a resist coating film which has excellent nano edge roughness, sensitivity and resolution. SOLUTION: The radiation sensitive resin composition contains (A) a resin containing at least one kind selected from a group comprising repeating units represented by general formulae (a-1) to (a-4), and (B) an acid generator represented by a general formula (b). In the formulae (a-1) to (a-4), R 1 is a hydrogen atom or a methyl group, R 2 is a 1-12C straight-chain or branched alkyl group or a 1-12C straight-chain or branched alkoxyl group, k is an integer of 0 to 3, and l is an integer of 0 to 3 (0≤k+l≤5). R 3 is a hydrogen atom or a methyl group, and R 4 is a 1-12C straight-chain or branched alkyl group or a 1-12C straight-chain or branched alkoxyl group; n is an integer of 0 to 3; and m is an integer of 0 to 3 (0≤n+m≤5). R 5 is a hydrogen atom or a methyl group, and R 6 is a 1-12C straight-chain or branched alkyl group or a 1-12C straight-chain or branched alkoxyl group; p is an integer of 0 to 3; and q is an integer of 0 to 3 (0≤p+q≤5). COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

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