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1. 发明专利

JPWO2013047536A1 フォトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法有权
标题翻译：光致抗蚀剂组合物和抗蚀图案形成方法
公开(公告)号：JPWO2013047536A1
公开(公告)日：2015-03-26
申请号：JP2013536309
申请日：2012-09-25
申请人： Jsr株式会社 , Jsr株式会社
发明人：一樹笠原 , 一樹笠原 , 憲彦池田 , 憲彦池田
IPC分类号： G03F7/039 , C08F20/24 , C08F124/00 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041
摘要：本発明は、[A]下記式(1)で表される構造単位(I)を有するベース重合体、[B]撥水性重合体、及び[C]酸発生体を含有するフォトレジスト組成物である。下記式(1)中、R1は、水素原子、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基である。R2及びR3は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、ヒドロキシ基若しくは炭素数1〜20の1価の有機基であるか、又はR2及びR3が互いに合わせられこれらが結合する炭素原子と共に構成される炭素数3〜20の環構造を表す。但し、R2とR3が共にヒドロキシ基である場合はない。R4及びR5は、それぞれ独立して、水素原子若しくは炭素数1〜20の1価の有機基であるか、又はR4及びR5が互いに合わせられこれらが結合している炭素原子と共に構成される炭素数3〜20の環構造を表す。
摘要翻译：本发明中，[A]具有由下式表示的结构单元（I）的基础聚合物（1），将含有[B]拒水聚合物光致抗蚀剂组合物，和[C]酸产生剂一。在下面的式（1）中，R1是氢原子，氟原子，甲基或三氟甲基。 R2和R3各自独立地为氢原子，氟原子，或为羟基的单价有机基团或碳原子数1〜20，或配置一起与R 2和R 3结合它们彼此结合的碳原子它是3至20个碳原子的环结构的代表。但是，任何情况下，R 2和R 3均为羟基。 R4和R5各自独立地是，具有其中或者一价有机基团的氢原子或1〜20个碳原子，或R4和R5相互结合它们所连接的碳原子构成的碳原子数它表示3〜20的环结构。

2. 发明专利

JP5617339B2 感放射線性樹脂組成物、重合体及び化合物有权
公开(公告)号：JP5617339B2
公开(公告)日：2014-11-05
申请号：JP2010111461
申请日：2010-05-13
申请人： Jsr株式会社 , Jsr株式会社
发明人：浩光中島 , 浩光中島 , 木村　礼子 , 礼子木村 , 一樹笠原 , 一樹笠原 , 一雄中原 , 一雄中原
IPC分类号： G03F7/039

3. 发明专利

JPWO2012157352A1 フォトレジスト組成物有权
公开(公告)号：JPWO2012157352A1
公开(公告)日：2014-07-31
申请号：JP2013515042
申请日：2012-04-02
申请人： Jsr株式会社 , Jsr株式会社
发明人：一樹笠原 , 一樹笠原 , 憲彦池田 , 憲彦池田 , 浩光中島 , 浩光中島 , 吉田　昌史 , 昌史吉田 , 雅史堀 , 雅史堀
IPC分类号： G03F7/039 , C08F224/00 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/2041
摘要：本発明は、[A]同一又は異なる重合体中に、下記式(1)で表される構造単位(I)及び下記式(2)で表される酸解離性基含有構造単位(II)を有する重合体成分、並びに[B]酸発生体を含有するフォトレジスト組成物である。下記式(1)中、R0は、水素原子、フッ素原子、水酸基又は炭素数1〜20の1価の有機基である。R1及びR2は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、水酸基若しくは炭素数1〜20の1価の有機基であるか、又はR1及びR2が互いに結合してそれらが結合している炭素原子と共に炭素数3〜10の環構造を形成している。R3及びR4は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、水酸基若しくは炭素数1〜20の1価の有機基であるか、又はR3及びR4が互いに結合してそれらが結合している炭素原子と共に炭素数3〜10の環構造を形成している。R0〜R4のうち少なくともひとつはヘテロ原子を含む基である。

4. 发明专利

JPWO2011002081A1 感放射線性樹脂組成物有权
公开(公告)号：JPWO2011002081A1
公开(公告)日：2012-12-13
申请号：JP2011520994
申请日：2010-07-02
申请人： Jsr株式会社 , Jsr株式会社
发明人：大樹中川 , 大樹中川 , 岳彦成岡 , 岳彦成岡 , 中村　真一 , 真一中村 , 一樹笠原 , 一樹笠原
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0045
摘要：酸解離性基含有樹脂(A)と、感放射線性酸発生剤(B)と、一般式(1−1)(一般式(1−1)中、R1及びR2は、相互に独立に、水素原子等を示すRpは、酸解離性基を示す。)で表される化合物(C1)、及び一般式(1−2)(一般式(1−2)中、R3は、水素原子等を示す。R4〜R6は、相互に独立に、水素原子等を示す)又は(1−3)(一般式(1−3)中、R3は、水素原子等を示す。Rqは、単結合等を示す。R5及びR6は、相互に独立に、水素原子等を示す。)で表される化合物(C2)を含む酸拡散制御剤(C)と、を含有する感放射線性樹脂組成物。

5. 发明专利

JPWO2013058250A1 感放射線性樹脂組成物审中-公开
标题翻译：对辐射敏感的树脂组合物
公开(公告)号：JPWO2013058250A1
公开(公告)日：2015-04-02
申请号：JP2013539650
申请日：2012-10-16
申请人： Jsr株式会社 , Jsr株式会社
发明人：一樹笠原 , 一樹笠原 , 一雄中原 , 一雄中原 , 拡宮田 , 拡宮田 , 永井　智樹 , 智樹永井
IPC分类号： G03F7/004 , C08F20/28 , C08F20/38 , C08K5/41 , C08L33/14 , G03F7/038 , G03F7/039
CPC分类号： G03F7/0397 , C08F220/18 , C08K5/42 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/322 , G03F7/325 , C08L33/14 , C08F2220/1841 , C08F2220/283 , C08F2220/382 , C08F220/42 , C08F220/22 , C08F2220/1875 , C08L33/16
摘要：本発明は、[A]下記式(1)で表される化合物、並びに[B]ラクトン骨格を含む(メタ)アクリレート由来の構造単位、環状カーボネート骨格を含む(メタ)アクリレート由来の構造単位、スルトン骨格を含む(メタ)アクリレート由来の構造単位、及び極性基を有する(メタ)アクリレート由来の構造単位からなる群より選ばれる少なくとも1種を有するベース重合体を含有する感放射線性樹脂組成物である。下記式(1)中、R1は、環状エステル構造又は環状ケトン構造を有する1価の環状有機基である。R2は、単結合又は−CH2−である。Xは、−O−*、−COO−*、−O−CO−O−*又は−SO2−O−*である。但し、*は、R3との結合部位を示す。R3は、炭素数1〜5の2価の鎖状炭化水素基である。M+は、1価のカチオンである。
摘要翻译：本发明中，[A]下述式（1），和[B]含有内酯骨架的（甲基）丙烯酸酯衍生的结构单元，包括环状碳酸酯骨架的（甲基）丙烯酸酯衍生的结构单元，磺内酯表示的化合物它是含有具有至少一个选自含有从（甲基）丙烯酸酯衍生的主链的结构单元组成的组中，和含极性基团的（甲基）基础聚合物的丙烯酸酯衍生的结构单元的放射线敏感性树脂组合物。在下面的式（1）中，R1是具有环状酯结构或环状酮结构的一价环状有机基团。 R 2为单键或-CH 2 - 。 X是，-O - *， - COO - *， - O-CO-O- *或-SO 2-O- *是。然而，*表示R3的结合位点。 R 3是具有1至5个碳原子的二价链烃基。 M +是一价阳离子。

6. 发明专利

JPWO2010029982A1 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法有权
公开(公告)号：JPWO2010029982A1
公开(公告)日：2012-02-02
申请号：JP2010528755
申请日：2009-09-10
申请人： Jsr株式会社 , Jsr株式会社
发明人：西村　幸生 , 幸生西村 , 恭彦松田 , 恭彦松田 , 大樹中川 , 大樹中川 , 友久藤澤 , 友久藤澤 , ゆかり濱 , ゆかり濱 , 一樹笠原 , 一樹笠原
IPC分类号： G03F7/039 , C08F20/22 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0046 , G03F7/2041
摘要：本発明の目的は、得られるパターン形状が良好であり、感度、解像度、LWR、現像欠陥、パターン倒れ耐性等のレジスト基本性能に優れており、且つ液浸露光の際にウォーターマーク欠陥及びバブル欠陥を抑制できる十分なレジスト膜表面の撥水性を発現する感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法を提供することである。本発明の樹脂組成物は、酸の作用によりアルカリ可溶性となる繰り返し単位を含み、且つフッ素原子を含有する繰り返し単位を含まない樹脂(A)と、感放射線性酸発生剤(B)と、酸の作用によりアルカリ可溶性となる繰り返し単位、及びフッ素原子を含有する繰り返し単位を含むフッ素含有樹脂(C)と、ラクトン化合物(D)と、を含有し、ラクトン化合物(D)の含有量が、樹脂(A)を100質量部とした場合に、31〜200質量部である。

7. 发明专利

JP5673533B2 感放射線性樹脂組成物有权
公开(公告)号：JP5673533B2
公开(公告)日：2015-02-18
申请号：JP2011520994
申请日：2010-07-02
申请人： Jsr株式会社 , Jsr株式会社
发明人：大樹中川 , 大樹中川 , 岳彦成岡 , 岳彦成岡 , 中村　真一 , 真一中村 , 一樹笠原 , 一樹笠原
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0045

8. 发明专利

JPWO2012133352A1 フォトレジスト組成物有权
公开(公告)号：JPWO2012133352A1
公开(公告)日：2014-07-28
申请号：JP2013507575
申请日：2012-03-26
申请人： Jsr株式会社 , Jsr株式会社
发明人：一樹笠原 , 一樹笠原 , 憲彦池田 , 憲彦池田 , 浩光中島 , 浩光中島 , 吉田　昌史 , 昌史吉田 , 雅史堀 , 雅史堀 , 龍一芹澤 , 龍一芹澤
IPC分类号： G03F7/039 , C08F220/18 , H01L21/027
CPC分类号： C08F220/18 , C08F224/00 , G03F7/039 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , H01L21/027
摘要：本発明の目的は、感度等の基本特性を十分に満足し、MEEF、DOF及びLWR等のリソグラフィー性能に優れるフォトレジスト組成物を提供することである。本発明は、[A]同一又は異なる重合体中に、下記式(1)で表される構造単位(I)と、この構造単位(I)以外の構造単位であって、環状カーボネート構造、スルトン構造及びラクトン構造からなる群より選択される少なくとも1種の構造を含む構造単位(II)とを有する1種以上の重合体成分、並びに[B]酸発生体を含有するフォトレジスト組成物である。

9. 发明专利

JPWO2011122588A1 感放射線性樹脂組成物及び重合体审中-公开
公开(公告)号：JPWO2011122588A1
公开(公告)日：2013-07-08
申请号：JP2012508326
申请日：2011-03-28
申请人： Jsr株式会社 , Jsr株式会社
发明人：一樹笠原 , 一樹笠原 , 木村　徹 , 徹木村 , 浩光中島 , 浩光中島 , 雅史堀 , 雅史堀 , 吉田　昌史 , 昌史吉田
IPC分类号： G03F7/039 , C08F220/10 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0397 , C08F220/18 , C08F220/28 , G03F7/0045 , G03F7/0046
摘要：本発明は、[A]下記式(1)で表される構造単位(I)及び下記式(2)で表される構造単位(II)を含む重合体、並びに[B]感放射線性酸発生剤を含有する感放射線性樹脂組成物である。式(1)中、R1は、水素原子又はメチル基である。R2は、炭素原子である。R3は、炭素数1〜4の直鎖状又は分岐状のアルキル基である。Zは、R2と共に炭素数10未満のシクロアルカンから誘導される2価の基を形成する基である。但し、Z、R2及びR3からなる基における炭素数の合計は8以上の条件を満たす。また、Z及びR2からなる基における炭素数が5又は6の場合、R3は炭素数2〜4の直鎖状又は分岐状のアルキル基である。式(2)中、R4は、水素原子又はメチル基である。R5は、炭素原子である。R6は、炭素数2〜4の直鎖状又は分岐状のアルキル基である。Xは、R4と共に炭素数10以上の2価の有橋脂環式炭化水素基を形成する基である。

10. 发明专利

JPWO2011093280A1 感放射線性樹脂組成物有权
公开(公告)号：JPWO2011093280A1
公开(公告)日：2013-06-06
申请号：JP2011551853
申请日：2011-01-25
申请人： Jsr株式会社 , Jsr株式会社
发明人：恭彦松田 , 恭彦松田 , 峰規川上 , 峰規川上 , 一樹笠原 , 一樹笠原 , 研丸山 , 研丸山
IPC分类号： G03F7/004 , C08F220/18 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041
摘要：本発明は、[A]下記式(1)で表される化合物、及び[B]ベース樹脂となる重合体を含有する感放射線性樹脂組成物である。上記R1は、炭素数3〜20の1価の脂環式炭化水素基であることが好ましい。上記M+は、スルホニウムカチオン又はヨードニウムカチオンであることが好ましい。[B]重合体は、下記式(5)で表される構造単位又は式(6)で表される構造単位と、下記式(7)で表される構造単位とを含むアルカリ不溶性又はアルカリ難溶性の重合体であることが好ましい。

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