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1. 发明专利

JP2013108179A Apparatus for performing plasma chemical vapor deposition 有权
标题翻译：用于执行等离子体化学气相沉积的装置
公开(公告)号：JP2013108179A
公开(公告)日：2013-06-06
申请号：JP2012253248
申请日：2012-11-19
申请人： Draka Comteq Bv , ドラカコムテクビー.ブイ.
发明人： VAN STRALEN MATTHEUS JACOBUS NICOLAAS , MILICEVIC IGOR , HARTSUIKER JOHANNES ANTOON
IPC分类号： C23C16/511 , H05H1/46
CPC分类号： C23C16/511 , C03B37/0183 , H01J37/32229 , H01J37/32256
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an apparatus which follows a preamble, wherein load matching is improved while the sensitivity to arcing is not increased.SOLUTION: An apparatus for performing a plasma chemical vapor deposition process includes a mainly cylindrical resonator 2. The resonator includes an outer cylindrical wall 4 enclosing a resonant cavity 5 having a substantially rotation symmetric shape with respect to a cylindrical axis C, and further includes a plurality of sidewall portions bounding the resonant cavity in opposite cylindrical axis directions. The apparatus further includes a microwave guide 3 having an end extending through the outer cylindrical wall into the resonant cavity. The length of the resonant cavity in the cylindrical direction varies as a function of a distance in the radial direction to the cylindrical axis.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种跟随前置码的装置，其中改善了负载匹配，同时不增加对电弧的灵敏度。解决方案：用于执行等离子体化学气相沉积工艺的装置包括主要为圆柱形的谐振器2.谐振器包括外圆柱形壁4，其包围相对于圆柱形轴线C具有大致旋转对称形状的谐振腔5，以及还包括在相对的圆柱轴线方向上限定谐振腔的多个侧壁部分。该装置还包括微波引导件3，其具有延伸穿过外圆筒壁进入谐振腔的端部。谐振腔在圆柱方向上的长度随径向相对于圆柱轴线的距离而变化。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

2. 发明专利

JP2013107820A Apparatus and method for carrying out pcvd deposition process 有权
标题翻译：携带PCVD沉积工艺的装置和方法
公开(公告)号：JP2013107820A
公开(公告)日：2013-06-06
申请号：JP2012252922
申请日：2012-11-19
申请人： Draka Comteq Bv , ドラカ・コムテツク・ベー・ベー
发明人： MILICEVIC IGOR , VAN STRALEN MATTHEUS JACOBUS NICOLAAS , HARTSUIKER JOHANNES ANTOON
IPC分类号： C03B37/018 , C23C16/511
CPC分类号： C03B37/01413 , C03B19/143 , C03B37/0183 , C23C16/045 , C23C16/45523 , C23C16/511
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a glass substrate tube having vapor-deposited glass layers of an essentially uniform thickness and an essentially uniform refractive index and alpha value in the axial direction.SOLUTION: There is provided an apparatus for carrying out a PCVD deposition process, wherein the interior of a glass substrate tube is coated with one or more doped or undoped glass layers. The apparatus comprises an applicator having an inner wall and an outer wall and a microwave guide which opens to the applicator. The applicator extends around a cylindrical axis and is provided with a passage near the inner wall, and the microwaves supplied via the microwave guide can exit through the passage. The substrate tube can be positioned over cylindrical axis. On the other hand, the applicator is fully surrounded by a heating furnace that extends over the cylindrical axis.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种玻璃基板管，其具有基本均匀的厚度和基本均匀的折射率和α值在轴向上的蒸镀玻璃层。提供了一种用于进行PCVD沉积工艺的设备，其中玻璃衬底管的内部涂覆有一个或多个掺杂或未掺杂的玻璃层。该装置包括具有内壁和外壁以及通向施用器的微波引导件的施加器。涂抹器围绕圆柱形轴线延伸并且在内壁附近设置有通道，并且经由微波引导器供应的微波可以通过通道排出。衬底管可以位于圆柱形轴上。另一方面，施加器被在圆柱轴线上延伸的加热炉完全包围。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

3. 发明专利

JP2013144845A Apparatus for performing plasma chemical vapor deposition process 有权
标题翻译：用于执行等离子体化学气相沉积工艺的装置
公开(公告)号：JP2013144845A
公开(公告)日：2013-07-25
申请号：JP2012272756
申请日：2012-12-13
申请人： Draka Comteq Bv , ドラカ・コムテツク・ベー・ベー
发明人： MILICEVIC IGOR , VAN STRALEN MATTHEUS JACOBUS NICOLAAS , HARTSUIKER JOHANNES ANTOON
IPC分类号： C23C16/511 , H05H1/24 , H05H1/46
CPC分类号： C23C16/511 , C03B37/0183 , H01J37/32247
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an apparatus for performing a plasma chemical vapor deposition process, which is configured to produce a glass material having a more uniform coating film thickness on a substrate tube.SOLUTION: The apparatus comprises a mainly cylindrical resonator 2a, 2b being provided with an outer cylindrical wall 4 enclosing a resonant cavity extending in a circumferential direction around a cylindrical axis. The resonator is further provided with side wall portions 6a, 6b bounding the resonant cavity in the cylindrical direction, and with a slit configuration extending in a circumferential direction around the cylindrical axis, providing access from the resonant cavity radially inwardly. Further, the slit configuration includes slit sections that are mutually offset in the cylindrical direction.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于执行等离子体化学气相沉积工艺的装置，其被配置为在衬底管上制造具有更均匀涂膜厚度的玻璃材料。解决方案：该装置包括主要为圆柱形的谐振器2a，2b 设置有围绕圆柱轴线围绕圆周方向延伸的谐振腔的外圆柱形壁4。谐振器还设置有沿圆柱方向限定谐振腔的侧壁部分6a，6b，并且围绕圆柱轴线沿圆周方向延伸的狭缝结构，从而径向向内从谐振腔进入。此外，狭缝构造包括在圆柱方向上相互偏移的狭缝部。

4. 发明专利

JP2011037700A Method for manufacturing primary preform for optical fiber 有权
标题翻译：用于制造光纤初级预制的方法
公开(公告)号：JP2011037700A
公开(公告)日：2011-02-24
申请号：JP2010164866
申请日：2010-07-22
申请人： Draka Comteq Bv , ドラカ・コムテツク・ベー・ベー
发明人： HARTSUIKER JOHANNES ANTOON , MILICEVIC IGOR , VAN STRALEN MATTHEUS JACOBUS NICOLAAS , KUIJPERS ERIC ALOYSIUS
IPC分类号： C03B37/018
CPC分类号： C03B37/01876 , C03B37/01815 , C03B37/0183 , C03B2203/22 , C03B2203/26 , Y02P40/57
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a primary preform for optical fibers, in which the refractive index of a preform layer is constant in the radial direction.
SOLUTION: This method for manufacturing the primary preform for optical fibers comprises: a step (i) of providing a hollow glass substrate tube 2 having a supply side 3 and a discharge side 4; a step (ii) of surrounding at least a part of the hollow glass substrate tube 2 by a heating furnace 1; a step (iii) of supplying a glass-forming gas to the interior of the hollow glass substrate tube through the supply side thereof; a step (iv) of creating a reaction zone 6 on the inner surface of the hollow glass substrate tube; and a step (v) of moving the reaction zone back and forth along the length drection of the hollow glass substrate tube between a reversal point 11 located near the supply side and a reversal point 12 located near the discharge side so as to form at least one preform layer on the inner surface of the hollow glass substrate tube, wherein the at least one preform layer comprises several glass layers.
COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：为了提供预成型体层的折射率在径向方向上恒定的光纤的初级预制棒。解决方案：用于制造光纤初级预制件的方法包括：（i）提供具有供给侧3和排出侧4的中空玻璃基板管2; 通过加热炉1包围中空玻璃基板管2的至少一部分的工序（ii）; 通过其供给侧将玻璃形成气体供应到中空玻璃基板管的内部的步骤（iii）; 在中空玻璃基板管的内表面上形成反应区6的步骤（iv）; 以及沿着位于供给侧附近的反转点11和位于排出侧附近的反转点12之间沿着中空玻璃基板管的长度修正来使反应区域前后移动的步骤（v），以至少形成在中空玻璃基板管的内表面上的一个预成型层，其中至少一个预成型层包括几个玻璃层。版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

5. 发明专利

JP2014114209A Method for activating inner surface of hollow glass substrate tube for manufacture of optical fiber preform 有权
标题翻译：中空玻璃基板管内表面激光光纤预制件制造方法
公开(公告)号：JP2014114209A
公开(公告)日：2014-06-26
申请号：JP2013252922
申请日：2013-12-06
申请人： Draka Comteq Bv , ドラカ・コムテツク・ベー・ベー
发明人： MILICEVIC IGOR , VAN STRALEN MATTHEUS JACOBUS NICOLAAS , HARTSUIKER JOHANNES ANTOON
IPC分类号： C03B37/018
CPC分类号： C03B37/018 , C03B37/0183 , C03B37/01861 , Y02P40/57
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for activating an inner surface of a hollow glass substrate tube that never causes an increase in unevenness of the inner surface.SOLUTION: The present invention relates to a method for activating an inner surface of a hollow glass substrate tube for manufacture of an optical fiber preform. The method includes the steps of: i) vapor-depositing many activated glass layers on the inner surface of the hollow substrate tube through a PCVD process, the activated glass layers having a thickness of 10-250 micrometers; and ii) at least partially removing the activated glass layers vapor-deposited in step i) through an etching process, the activated glass layers vapor-deposited in step i) being removed by up to at least 30%. The method implements the etching step not on an initial substrate tube itself but on PCVD vapor-deposited layers so as to reduce or completely remove negative effects of etching, or generation of surface unevenness while maintaining advantages of the etching process such as improved sticking.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种激活中空玻璃基板的内表面的方法，其不会引起内表面的不均匀性的增加。解决方案：本发明涉及一种激活中空玻璃的内表面的方法用于制造光纤预制棒的基底管。该方法包括以下步骤：i）通过PCVD工艺在中空衬底管的内表面上气相沉积许多活性玻璃层，活性玻璃层的厚度为10-250微米; 和ii）通过蚀刻工艺至少部分去除在步骤i）中气相沉积的活性玻璃层，在步骤i）中气相沉积的活性玻璃层被除去至多30％。该方法不是在初始衬底管本身上而是在PCVD气相沉积层上进行蚀刻步骤，以便减少或完全消除蚀刻的负面影响或产生表面不均匀性，同时保持蚀刻工艺的优点，例如改善粘附。

6. 发明专利

JP2011042562A Method and device for manufacturing primary preform for optical fiber 有权
标题翻译：用于制造光纤原始预制的方法和装置
公开(公告)号：JP2011042562A
公开(公告)日：2011-03-03
申请号：JP2010169004
申请日：2010-07-28
申请人： Draka Comteq Bv , ドラカ・コムテツク・ベー・ベー
发明人： HARTSUIKER JOHANNES ANTOON , MILICEVIC IGOR , VAN STRALEN MATTHEUS JACOBUS NICOLAAS , KUIJPERS ERIC ALOYSIUS
IPC分类号： C03B37/018
CPC分类号： C03B37/0183 , C03B37/01815 , Y02P40/57
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a primary preform in which deviations from the target value of a refractive index profile in the longitudinal direction are minimized.
SOLUTION: The method for manufacturing a primary preform for optical fibers includes the steps of: (1) providing a hollow glass substrate tube 2 having a supply side 3 and a discharge side 4, (2) surrounding at least part of the hollow glass substrate tube by a heating furnace 1, (3) supplying glass-forming gases to the interior of the hollow glass substrate tube via the supply side thereof, (4) creating a reaction zone 6 with conditions such that deposition of glass will take place on the inner surface of the hollow glass substrate tube, and (5) moving the reaction zone back and forth along the length of the hollow glass substrate tube between a reversal point 11 located near the supply side and a reverse point 12 located near the discharge side of the hollow glass substrate tube so as to form one or more preform layers on the inner surface of the hollow glass substrate tube, wherein both of the reversal points are surrounded by the heating furnace.
COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种制造初步预成型件的方法，其中使纵向方向上的折射率分布的目标值的偏差最小化。解决方案：用于制造光纤初级预制件的方法包括以下步骤：（1）提供具有供给侧3和排出侧4的中空玻璃基板管2，（2）包围至少部分中空玻璃基板管由加热炉1提供，（3）通过其供应侧将玻璃形成气体供应到中空玻璃基板管的内部，（4）产生具有玻璃沉积条件的反应区6 放置在中空玻璃基板管的内表面上，以及（5）沿着中空玻璃基板管的长度在位于供应侧附近的反转点11和位于供应侧附近的反向点12之间前后移动反应区中空玻璃基板管的排出侧，以在中空玻璃基板管的内表面上形成一个或多个预制件层，其中两个反转点被加热炉包围。版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

7. 发明专利

JP2015027935A プラズマ蒸着プロセスにより光ファイバ用一次プリフォームの前駆体を製造する方法有权
标题翻译：通过等离子体沉积工艺生产光纤原始预制前体的方法
公开(公告)号：JP2015027935A
公开(公告)日：2015-02-12
申请号：JP2014133995
申请日：2014-06-30
申请人：ドラカ・コムテツク・ベー・ベー , Draka Comteq Bv
发明人： MILICEVIC IGOR , VAN STRALEN MATTHEUS JACOBUS NICOLAAS , HARTSUIKER JOHANNES ANTOON , GERTJAN KRABSHUIS
IPC分类号： C03B37/018
CPC分类号： C03B37/018 , C03B37/0183 , C03B37/01861 , C03B37/01869
摘要：【課題】望ましくないガラス層破砕の発生を最小限にする、プラズマ化学蒸着(PCVD)プロセスによる光ファイバ用プリフォームの製造方法の提供。【解決手段】供給側と排出側を有する中空基材チューブを提供するステップと、排出側の反転点又はその近傍において基材チューブの内面の少なくとも一部に非ガラス状シリカ層の蒸着を生じさせる為に、電磁放射によって中空基材チューブの内部に第1反応条件を有する第1プラズマ反応ゾーンを作り出し、その内面の少なくとも一部に非ガラス状層を提供するステップと、電磁放射によって中空基材チューブの内部に第2反応条件を有する第2プラズマ反応ゾーンを作り出し、非ガラス状及びガラス状シリカ層が蒸着された基材チューブを得るステップと、得られた非ガラス状及びガラス状シリカ層が蒸着された基材チューブを冷却して、一次プリフォームの前駆体を得るステップと、を備える製造方法。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供一种通过等离子体化学沉积（PCVD）方法制造光纤预制棒的方法，其使玻璃层不期望的碎裂发生最小化。解决方案：一种制造光纤预制棒的方法包括提供具有供给侧和排出侧的中空衬底管的步骤，通过电磁辐射在中空衬底管内形成具有第一反应条件的第一等离子体反应区的步骤，至少提供非玻璃状层在第一等离子体反应区的内表面的一部分中，以在排出侧的反转点的至少一部分基板管的内表面上形成气相沉积非玻璃状二氧化硅层通过电磁辐射在中空衬底管内形成具有第二反应条件的第二等离子体反应区的步骤，以获得气相沉积有n 玻璃状层和玻璃状二氧化硅层，以及将所得到的基板管与非玻璃状二氧化硅层和玻璃状二氧化硅层蒸镀的工序，得到初级预制件。

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