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1. 发明专利

JP2020017419A プラズマ発生装置审中-公开
公开(公告)号：JP2020017419A
公开(公告)日：2020-01-30
申请号：JP2018139928
申请日：2018-07-26
申请人：株式会社SCREENホールディングス
发明人：堀越章 , 中村昭平 , 高辻茂 , 河野元宏
IPC分类号： B01J19/08 , H05H1/24
摘要：【課題】電流によるダメージや電極材料による汚染の問題を生じさせることなく、広範囲にプラズマを照射することのできるプラズマ発生装置を提供する。【解決手段】本発明に係るプラズマ発生装置は、気体を所定の流通方向に沿って流通させる流路を形成し、流路の下流側端部に気体を吐出する開口を有する流路形成部11,12と、流路を挟んで対向配置された1対の第1電極13と、第1電極とは流通方向に離隔して、流路を挟んで対向配置された1対の第2電極14と、第1電極と前記第2電極との間に交流電圧を印加する電源部15とを備え、1対の第1電極の各々は流通方向に平行な平面であって他方の第1電極と対向する対向面を有し、1対の第2電極の各々は流通方向に平行な平面であって他方の第2電極と対向する対向面を有し、第1電極の対向面と流路との間および第2電極の対向面と流路との間がそれぞれ誘電体により隔離されている。【選択図】図1

2. 发明专利

JP2016151562A 測定装置および測定方法审中-公开
标题翻译：测量装置和测量方法
公开(公告)号：JP2016151562A
公开(公告)日：2016-08-22
申请号：JP2015030807
申请日：2015-02-19
申请人：株式会社SCREENホールディングス
发明人：高瀬恵宏 , 中西英俊 , 河野元宏 , 木瀬一夫
IPC分类号： H01M8/04 , B01J23/42 , G01N21/3586
CPC分类号： G01J11/00 , G01N21/3586 , G01N21/8422 , G01N33/20 , G01R29/08 , G01N2021/8427
摘要：【課題】経済的損失を抑えつつ、燃料電池における金属触媒の触媒担持量の検査する技術を提供する。【解決手段】測定装置1は、金属触媒を含む金属触媒層の薄膜が形成された試料9について、金属触媒の触媒担持量を測定する。測定装置1は、0.01THzから10THzの範囲のテラヘルツ波LT1を試料9に照射するテラヘルツ波照射部10と、試料9を透過した透過テラヘルツ波LT2の電界強度を検出する透過テラヘルツ波検出部30と、あらかじめ取得された金属触媒の触媒担持量および透過テラヘルツ波LT2の電界強度の相関関係を示す相関情報C1を記憶する記憶部60と、相関情報C1および透過テラヘルツ波検出部30によって検出される透過テラヘルツ波LT2の電界強度に基づき、試料9における金属触媒の触媒担持量を取得する触媒担持量取得モジュール511を備える。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于检查燃料电池中的金属催化剂中的负载催化剂的量的技术，同时抑制经济损失。解决方案：测量装置1测量金属催化剂中的负载型催化剂的量，涉及其中形成包括金属催化剂的金属催化剂层的薄膜的样品9。测量装置1包括：太赫兹波照射部分10，用于以0.01THz至10THz的范围照射具有太赫兹波T1的样本9; 用于检测透射了样本9的透射太赫兹波LT2的场密度的透射太赫兹波检测部30; 用于存储显示金属催化剂中负载的催化剂的预期量与透射的太赫兹波LT2的场密度之间的相关性的相关信息C1的存储部分60; 以及负载催化剂量获取模块511，用于基于由相关信息C1检测的透射太赫兹波LT2和透射太赫兹波检测部分30的场密度来获取样品9中的金属催化剂中的负载型催化剂的量。选择图：图1

3. 发明专利

JP2019056663A 吸光度測定用容器、吸光度測定装置および吸光度測定方法审中-公开
公开(公告)号：JP2019056663A
公开(公告)日：2019-04-11
申请号：JP2017182364
申请日：2017-09-22
申请人：株式会社SCREENホールディングス
发明人：中村昭平 , 河野元宏 , 高辻茂 , 堀越章 , 谷出敦
IPC分类号： G01N21/27 , G01N21/59 , G01N21/03
摘要：【課題】液体中に含まれる複数種の物質の吸光度を個別に、かつ精度よく測定することを可能にする。【解決手段】本発明に係る吸光度測定用容器は、測定対象となる液体を一時的に貯留可能な貯留空間SPを内部に形成し、貯留空間SPに連通し外部から貯留空間SPへ液体を流入させる流入部202、貯留空間SPに連通し貯留空間SPから外部へ液体を流出させる流出部201を有する容器本体12Aと、外部の光源から受け入れた光を容器本体12A内の液体に入射させ、液体内を通過した光を容器本体12Aから外部へ出射させ、液体への光の入射位置と液体からの光の出射位置とを規定することで液体中を通過する光の光路を設定する光路設定部214〜218とを備え、光路設定部214〜218は、液体中の光路長が互いに異なる複数の光路を設定する。【選択図】図4

4. 发明专利

JP2018206763A 液中プラズマ発生装置および液体処理装置审中-公开
公开(公告)号：JP2018206763A
公开(公告)日：2018-12-27
申请号：JP2018097043
申请日：2018-05-21
申请人：株式会社SCREENホールディングス
发明人：堀越章 , 中村昭平 , 高辻茂 , 河野元宏
IPC分类号： C02F1/48 , C02F1/68 , H05H1/24
摘要：【課題】液体中に供給された気体にプラズマを発生させる液中プラズマ発生装置において、高効率で安定したプラズマを発生させる。【解決手段】液中プラズマ発生装置3は、内部空間に液体を保持する筐体と、内部空間内に開口を有し該開口から液体中に気体を吐出する気体供給管と、気体供給管内から開口を介して内部空間に突出し、該突出部位は導体部が誘電体により被覆された構造を有する第1電極と、第1電極の突出部位を取り囲んで設けられ、誘電体によって液体から隔離された導体部を有する第2電極と、第1電極と第2電極との間に電圧を印加する電圧印加部とを備え、突出部位と第2電極との間の空間が、開口から吐出された気体が流通する流路となっている。【選択図】図3

5. 发明专利

JP2015185317A 触媒層形成方法および触媒層形成装置有权
标题翻译：催化层形成方法和催化层形成装置
公开(公告)号：JP2015185317A
公开(公告)日：2015-10-22
申请号：JP2014059868
申请日：2014-03-24
申请人：株式会社SCREENホールディングス
发明人：川上拓人 , 高木善則 , 河野元宏
IPC分类号： H01M4/92 , H01M4/88
CPC分类号： H01M4/8828 , H01M4/8657 , H01M4/881 , H01M4/8896 , H01M4/92 , H01M2008/1095
摘要：【課題】触媒層におけるクラックの発生を防止することができる触媒層形成方法および触媒層形成装置を提供する。【解決手段】固体高分子形燃料電池に使用する電解質膜2は、巻出ローラ11から送り出されて巻取ローラ12によって巻き取られることによりロールトゥロール方式にて連続して一定速度で搬送される。電解質膜2の表面には第1塗工ノズル21から触媒インクを塗工し、その触媒インクを第1乾燥炉23によって乾燥させて下層の触媒層を形成する。このときの乾燥時に触媒層には多少のクラックが発生する。次に、その下層の触媒層の上に第2塗工ノズル26から触媒インクを塗工し、その触媒インクを第2乾燥炉28によって乾燥させて上層の触媒層を形成する。下層の触媒層に生じていたクラックを上層の触媒層によって覆って消滅させることができる。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供能够防止在催化剂层中发生裂纹的催化剂层形成方法和催化剂层形成装置。解决方案：用于固体高分子型燃料电池的电解质膜2以恒定的速度连续地输送通过卷对卷系统从卷取辊11送出并被卷取辊12卷取时，将来自第一涂布喷嘴21的催化剂油墨施加到电解质膜2的表面，催化剂油墨在第一干燥炉23中干燥，从而形成下层催化剂层。在干燥时在催化剂层上产生许多裂纹。此后，将来自第二涂覆喷嘴26的催化剂油墨施加到下层催化剂层上，并在第二干燥炉28中干燥催化剂油墨，从而形成上层催化剂层。发生在下层催化剂层中的裂纹可以被上层催化剂层覆盖并熄灭。

6. 发明专利

JP6871550B2 エッチング装置有权
公开(公告)号：JP6871550B2
公开(公告)日：2021-05-12
申请号：JP2017046325
申请日：2017-03-10
申请人：国立大学法人東海国立大学機構 , 株式会社SCREENホールディングス
发明人：堀勝 , 谷出敦 , 堀越章 , 中村昭平 , 高辻茂 , 河野元宏 , 木瀬一夫
IPC分类号： H01L21/3065

7. 发明专利

JP2018152415A エッチング装置审中-公开
公开(公告)号：JP2018152415A
公开(公告)日：2018-09-27
申请号：JP2017046325
申请日：2017-03-10
申请人：国立大学法人名古屋大学 , 株式会社SCREENホールディングス
发明人：堀勝 , 谷出敦 , 堀越章 , 中村昭平 , 高辻茂 , 河野元宏 , 木瀬一夫
IPC分类号： H01L21/3065
CPC分类号： H01L21/3065
摘要：【課題】 III 族窒化物半導体のオーバーエッチングを抑制することを図ったエッチング装置を提供することである。【解決手段】エッチング装置1000は、処理室1001と、サセプター1100と、ガス供給部1500と、プラズマ発生部1300と、第1の電位付与部1200と、を有する。プラズマ発生部1300は、誘導結合プラズマを発生させる。第1のガスは、Cl 2 とBCl 3 とを含む塩素系混合ガスである。第1の電位付与部1200は、第1のガスに占めるBCl 3 の体積比が大きいほど、絶対値が小さいバイアスをサセプター1100に付与する。第1の電位付与部1200は、 −1200・X + 290 ≦ Vpp ≦ −1200・X + 480 を満たすようにバイアスをサセプター1100に付与する。【選択図】図1

8. 发明专利

JP2018095922A 成膜装置审中-公开
公开(公告)号：JP2018095922A
公开(公告)日：2018-06-21
申请号：JP2016241410
申请日：2016-12-13
申请人：国立大学法人名古屋大学 , 株式会社SCREENホールディングス
发明人：堀勝 , 谷出敦 , 堀越章 , 中村昭平 , 高辻茂 , 河野元宏 , 木瀬一夫
IPC分类号： C23C14/54 , H01L21/203 , C23C14/34
CPC分类号： C23C14/34 , C23C14/54 , H01L21/203
摘要：【課題】ターゲットの表面でターゲットが供給ガスと反応することを抑制することのできる成膜装置を提供することである。【解決手段】成膜装置1000は、第1室100と、第2室200と、第1室100と第2室200とを区切る仕切り部1300と、を有する。第1室100は、ターゲットT1を収容するターゲット収容部110を有する。第2室200は、基板S1を支持する基板支持部210を有する。仕切り部1300は、第1室100と第2室200とを連通するための貫通孔1301を有する。【選択図】図1

9. 发明专利

JP2018055891A 表面処理装置审中-公开
公开(公告)号：JP2018055891A
公开(公告)日：2018-04-05
申请号：JP2016188639
申请日：2016-09-27
申请人：株式会社SCREENホールディングス
发明人：中村昭平 , 高辻茂 , 堀越章 , 河野元宏 , 木瀬一夫 , 谷出敦
IPC分类号： H05H1/24
摘要：【課題】大気中で広い面積を一括してプラズマ処理することが可能であり、装置構成が簡単で使いやすいプラズマ表面処理装置を提供する。【解決手段】導電性を有する処理対象物OBJの表面をプラズマにより処理する表面処理装置1である。第1導体113の表面が誘電体表面層114で覆われた当接面が処理対象物の被処理面に接触する第1電極体11と、第1電極体との距離を変更自在に構成され、露出した第2導体の表面が処理対象物に電気的に接触する第2電極体12と、第1導体と第2導体との間に、誘電体表面層の厚さに相当する空間ギャップにおける放電開始電圧よりも大きい電圧を印加して、第1電極体と処理対象物との間の気体をプラズマ化させる電源13とを備える。【選択図】図2

10. 发明专利

JP6949775B2 液中プラズマ発生装置および液体処理装置有权
公开(公告)号：JP6949775B2
公开(公告)日：2021-10-13
申请号：JP2018097043
申请日：2018-05-21
申请人：株式会社SCREENホールディングス
发明人：堀越章 , 中村昭平 , 高辻茂 , 河野元宏
IPC分类号： C02F1/48 , C02F1/68 , H05H1/24

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