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1. 发明专利

JP6842505B2 研磨装置、及び研磨方法有权
公开(公告)号：JP6842505B2
公开(公告)日：2021-03-17
申请号：JP2019116181
申请日：2019-06-24
申请人：株式会社荏原製作所
发明人：篠崎弘行 , 鈴木佑多 , 高橋太郎 , 勝岡誠司 , 畠山雅規
IPC分类号： H01L21/304 , B24B37/10 , B24B49/12 , B24B49/16 , B24B37/013

2. 发明专利

JP6307222B2 検査装置有权
公开(公告)号：JP6307222B2
公开(公告)日：2018-04-04
申请号：JP2013089124
申请日：2013-04-22
申请人：株式会社荏原製作所
发明人：塚本究 , 村上武司 , 畠山雅規 , 狩俣努
IPC分类号： H01L21/683 , H01J37/28 , H01J37/16 , H01L21/66 , H01J37/29

3. 发明专利

JP2017135046A 検査装置审中-公开
公开(公告)号：JP2017135046A
公开(公告)日：2017-08-03
申请号：JP2016015332
申请日：2016-01-29
申请人：株式会社荏原製作所
发明人：小濱達也 , 狩俣努 , 畠山雅規
IPC分类号： H01J37/09 , H01J37/16 , H01L21/66 , H01J37/147
摘要：【課題】小型な検査装置を提供する。【解決手段】ステージに載置された試料SMに電子ビームを照射して試料SMからの電子ビームを検出することにより、試料SMを観察する検査装置であって、電子ビームを照射する電子銃30Aと、アライメント電極を有し、アライメント電極に電圧を印加することで電子ビームのアライメントを行う偏向器10A,12Aと、電子ビームが通過可能な開口13Aaと、通過できない遮蔽部13Abとを含むアパーチャ部材13Aと、を有し、アライメント電極に印加される電圧に応じて、電子ビームに開口13Aaを通過させて試料SMに導くか、電子ビームを遮蔽部13Abで遮蔽して前記試料SMに導かないかを切替可能である、検査装置。【選択図】図3

4. 发明专利

JP2016157695A 電子線装置审中-公开
标题翻译：电子束设备
公开(公告)号：JP2016157695A
公开(公告)日：2016-09-01
申请号：JP2016055532
申请日：2016-03-18
申请人：株式会社荏原製作所
发明人：野路伸治 , 佐竹徹 , 曽布川拓司 , 金馬利文 , 畠山雅規 , 吉川省二 , 村上武司 , 渡辺賢治 , 狩俣努 , 末松健一 , 田部豊 , 田島涼 , 遠山敬一
IPC分类号： G01N23/225 , G01N23/203 , H01L21/66 , H01J37/244 , H01J37/29
摘要：【課題】写像投影式光学系において蛍光像をTDIセンサに伝達するリレー光学系の光信号伝達損失を低減できる電子線検査装置を提供する。【解決手段】試料表面の情報を得た電子を写像投影式光学系(二次系コラム29・1)でMCP29・2に拡大投影して結像させる。電子はMCPで増倍され、蛍光材で蛍光像に変換され、FOP29・3によってTDIセンサ29・4に伝達される。TDIセンサの像信号は接続ピン29.5、フィードスルーフランジ29・6を経由してTDIカメラ29・7に伝達される。写像投影光学系の静電レンズの電圧を調整して所望の拡大投影倍率を得て、TDIセンサの画素サイズに基づく試料表面上の画素サイズを定める。TDIセンサまでをコラムの真空中に設けたのでFOPを短縮できる。このため光信号の透過率を向上できて信号強度を高くなるので高速動作が可能になる。【選択図】図29
摘要翻译：要解决的问题：提供一种电子束检查装置，其能够减少在投影映射型光学系统中将荧光图像发送到TDI传感器的中继光学系统的光信号传输损耗。解决方案：获得关于样品的信息的电子表面通过投影映射型光学系统（第二列29-1）放大并投影在MCP 29-2上以形成图像。电子被MCP放大，通过荧光材料转换为荧光图像，并通过FOP 29-3传输到TDI传感器29-4。 TDI传感器的图像信号通过连接销29.5和场通过法兰29-6传输到TDI相机29-7。调整投影映射型光学系统的静电透镜的电压以获得期望的放大倍率，并且确定基于TDI传感器的像素尺寸的样品表面上的像素尺寸。由于即使在真空中提供TDI传感器，也可以减少FOP。因此，可以提高光信号的透射率，从而提高信号强度，从而可以执行高速操作。图29

5. 发明专利

JP2016143651A 検査装置及び検査方法审中-公开
标题翻译：检查装置和检查方法
公开(公告)号：JP2016143651A
公开(公告)日：2016-08-08
申请号：JP2015021318
申请日：2015-02-05
申请人：株式会社荏原製作所
发明人：畠山雅規 , 内藤儀彦 , 渡辺賢治
IPC分类号： H01J37/28 , H01J37/20 , H01J37/22 , G01N23/227 , G01N23/225 , H01L21/66 , G01B15/08 , H01J37/29
摘要：【課題】検査対象の表面粗さを検査する新規な検査装置を提供する。【解決手段】検査システム100は、電子ビームを発生する電子源101と、電子源101から発生した電子ビームを試料Sに導く1次電子光学系102と、試料から発生するミラー電子を検出面で受けて検出する撮像装置104と、試料から発生したミラー電子を撮像装置104の撮像面に導く2次電子光学系105と、撮像装置104にて撮像されたミラー電子の分布の所定方向の半値幅に基づいて、校正情報を用いて試料の表面粗さを求める検査処理部107とを備えている。【選択図】図12
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于检查检查对象的表面粗糙度的新型检查装置。解决方案：检查系统100包括产生电子束的电子源101，用于引入从...产生的电子束的一次电子光学系统102 电子源101到样本S，用于接收由检测表面产生的样品的镜像并检测镜电子的成像装置104，用于将从样品产生的镜电子引入成像表面的二次电子光学系统105 以及检测处理单元107，用于基于由成像装置104捕获的镜电子的分布的预定方向上的半值宽度，通过使用校准信息来确定样品的表面粗糙度。选择的图：图12

6. 发明专利

JP5897841B2 異物付着防止機能を備えた電子線検査装置及び方法有权
标题翻译：电子束检查装置和方法，包括一异物附着防止功能
公开(公告)号：JP5897841B2
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：JP2011169040
申请日：2011-08-02
申请人：株式会社荏原製作所
发明人：渡辺賢治 , 畠山雅規 , 内藤儀彦 , 小濱達也 , 寺尾健二 , 村上武司 , 林丈英 , 塚本究 , 曽布川拓司 , 木村憲雄
IPC分类号： H01L21/66 , H01J37/29 , H01J37/28 , H01J37/244 , H01J37/20
CPC分类号： H01J37/22 , H01J37/265 , H01J37/29 , H01J2237/004 , H01J2237/022 , H01J2237/24495 , H01J2237/24564 , H01J2237/2817

7. 发明专利

JP2015201257A 検査装置有权
标题翻译：检查装置
公开(公告)号：JP2015201257A
公开(公告)日：2015-11-12
申请号：JP2014077591
申请日：2014-04-04
申请人：株式会社荏原製作所
发明人：林丈英 , 畠山雅規 , 山口真司 , 中真人
IPC分类号： H01J37/21 , H01J37/09 , H01L21/66 , H01J37/29
CPC分类号： H01J37/28 , H01J37/222 , H01J2237/10 , H01J2237/2448 , H01J2237/2806
摘要：【課題】検査対象の表面の凹凸の状態を高コントラストで検査することのできる検査装置を提供する。【解決手段】検査装置は、荷電粒子又は電磁波をビームとして発生させるビーム発生手段と、検査対象にビームを照射する1次光学系と、検査対象から発生した二次荷電粒子を検出する2次光学系と、検出された二次荷電粒子に基づいて画像を形成する画像処理系を備える。ビームの照射エネルギーは、ビームの照射により検査対象から二次荷電粒子としてミラー電子が放出されるエネルギー領域に設定される。2次光学系は、二次荷電粒子を検出するためのカメラと、光軸方向に沿って位置を調整可能なニューメリカルアパーチャと、ニューメリカルアパーチャを通過した二次荷電粒子をカメラの像面に結像させるレンズとを備える。画像処理系では、ニューメリカルアパーチャの位置を物面にして撮像を行うアパーチャ結像条件で画像が形成される。【選択図】図15
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够以高对比度检查检查对象的表面上的粗糙状态的检查装置。解决方案：检查装置包括：产生带电粒子或电磁波作为光束的光束产生装置 ; 用光束照射检查对象的主要光学系统; 第二光学系统，其检测从检查对象产生的二次带电粒子; 以及用于基于检测到的二次带电粒子形成图像的图像处理系统。光束的照射能量被设定为通过用光束照射作为二次带电粒子从检查对象发射镜面电子的能量区域。二次光学系统包括：用于检测次级带电粒子的照相机; 能够调整光轴方向的位置的数值孔径; 以及用于对通过相机的图像表面上的数值孔径的二次带电粒子进行成像的透镜。在图像处理系统中，图像形成在用于以数值孔径的位置作为对象表面进行成像的孔径图像形成条件下。

8. 发明专利

JP5779210B2 荷電粒子ビーム検査方法及び装置有权
标题翻译：带电粒子束的检查方法和装置
公开(公告)号：JP5779210B2
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：JP2013174925
申请日：2013-08-26
申请人：株式会社荏原製作所 , 株式会社東芝
发明人：畠山雅規 , 太田拓見
IPC分类号： G01N23/203 , G01B15/08 , G01B15/04 , H01L21/66 , G01N23/225

9. 发明专利

JP5750147B2 検出装置及び検査装置有权
公开(公告)号：JP5750147B2
公开(公告)日：2015-07-15
申请号：JP2013221344
申请日：2013-10-24
申请人：株式会社荏原製作所
发明人：畠山雅規 , 吉川省二 , 末松健一 , 狩俣努 , 野路伸治
IPC分类号： G01N23/227 , G01N23/225

10. 发明专利

JP6938165B2 電子ビームの照射エリア調整方法および同調整システム有权
公开(公告)号：JP6938165B2
公开(公告)日：2021-09-22
申请号：JP2017026951
申请日：2017-02-16
申请人：株式会社荏原製作所
发明人：田島涼 , 畠山雅規 , 末松健一 , 塚本究 , 渡辺賢治 , 吉川省二 , 岡田真一 , 寺尾健二
IPC分类号： H01J37/305 , H01J37/22

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